Peralatan ini berstruktur pintu ganda vertikal. Peralatan ini merupakan peralatan komposit yang memadukan teknologi pelapisan sputtering magnetron DC, teknologi pelapisan penguapan resistansi, teknologi pelapisan CVD, dan sistem pembersihan ion frekuensi menengah. Peralatan ini cocok untuk kebutuhan produk kompleks pelanggan...

Peralatan ini memadukan teknologi magnetron sputtering dan pelapisan ion, dan menyediakan solusi untuk meningkatkan konsistensi warna, laju pengendapan, dan stabilitas komposisi senyawa dengan penjepitan hub roda yang unik dan desain perlengkapan putar otomatis. Sesuai dengan berbagai persyaratan produk, ...

Peralatan ini memadukan teknologi magnetron sputtering dan pelapisan ion, dan menyediakan solusi untuk meningkatkan konsistensi warna, laju pengendapan, dan stabilitas komposisi senyawa. Menurut berbagai persyaratan produk, sistem pemanas, sistem bias, sistem ionisasi, dan perangkat lain dapat...

Peralatan ini memadukan teknologi magnetron sputtering dan resistance evaporation, dan menyediakan solusi untuk melapisi berbagai substrat yang berbeda. Peralatan pelapis eksperimental ini terutama digunakan di universitas dan lembaga penelitian ilmiah, dan dapat memenuhi berbagai eksperimen...

Peralatan pelapisan anti sidik jari logam berskala besar dilengkapi dengan sistem pelapisan ion busur katode, sistem pelapisan sputtering magnetron frekuensi menengah, dan sistem pelapisan anti sidik jari, yang memenuhi persyaratan ganda dari komponen baja tahan karat besar bermutu tinggi dalam hal dekorasi dan...

Peralatan ini mengadopsi teknologi pelapisan ion penguapan busur katode, yang memiliki karakteristik laju pengendapan cepat, energi tinggi, dan laju ionisasi logam tinggi. Busur katode dapat dikombinasikan sesuai dengan berbagai persyaratan untuk beradaptasi dengan berbagai proses. Peralatan ini memiliki karakteristik...

Peralatan ini mengadopsi teknologi pelapisan ion multi busur, yang memiliki keunggulan pengoperasian sederhana, kecepatan pemompaan cepat, efisiensi tinggi, dan pengulangan proses yang baik. Dilengkapi dengan rak benda kerja bergerak dua stasiun, yang memudahkan pengoperasian untuk mengunggah dan mengunduh benda kerja, ...

Peralatan pelapisan anti sidik jari berskala besar untuk perlengkapan saniter kelas atas dilengkapi dengan sistem pelapisan ion busur katode, sistem pelapisan sputtering magnetron frekuensi menengah, dan sistem pelapisan anti sidik jari, yang memenuhi persyaratan ganda yakni komponen logam dan komponen keramik di kelas atas.

Peralatan ini mengadopsi teknologi penguapan berkas elektron. Elektron dipancarkan dari filamen katode dan difokuskan ke arus berkas tertentu, yang dipercepat oleh potensi antara katode dan wadah untuk melelehkan dan menguapkan bahan pelapis. Peralatan ini memiliki karakteristik...

Dengan pesatnya pertumbuhan permintaan industri telepon seluler, kapasitas muat mesin pelapis optik tradisional tidak dapat memenuhi permintaan ini. ZHENHUA telah meluncurkan peralatan pelapis optik sputtering magnetron untuk memenuhi permintaan ini. Fitur peralatan: (1) Rak benda kerja mengadopsi desain silinder...

Peralatan ini dilengkapi dengan sistem pelapisan magnetron sputtering + sistem pelapisan anti sidik jari + kontrol loop tertutup SPEEDFLO. Peralatan ini mengadopsi teknologi magnetron sputtering frekuensi sedang dan teknologi anti sidik jari. Ini adalah peralatan pelapisan nano yang dirancang khusus untuk presisi...

Peralatan CF1914 dilengkapi dengan sistem pelapisan sputtering magnetron frekuensi sedang + sumber ion lapisan anoda + kontrol loop tertutup SPEEDFLO + sistem pemantauan kontrol kristal. Teknologi sputtering magnetron frekuensi sedang digunakan untuk mengendapkan berbagai oksida. Dibandingkan dengan teknologi tradisional...

Keunggulan peralatan Peralatan ini menggunakan teknologi penguapan berkas elektron, di mana elektron dipancarkan dari filamen katode dan difokuskan ke arus berkas tertentu. Berkas tersebut kemudian dipercepat oleh potensi antara katode dan wadah, yang menyebabkan bahan pelapis ...

Peralatan ini mengadopsi teknologi penguapan berkas elektron. Elektron dipancarkan dari filamen katode dan difokuskan ke arus berkas tertentu, yang dipercepat oleh potensi antara katode dan wadah untuk melelehkan dan menguapkan bahan pelapis. Peralatan ini memiliki karakteristik...

Peralatan ini mengadopsi teknologi penguapan berkas elektron. Elektron dipancarkan dari filamen katode dan difokuskan ke arus berkas tertentu, yang dipercepat oleh potensi antara katode dan wadah untuk melelehkan dan menguapkan bahan pelapis. Peralatan ini memiliki karakteristik...

Peralatan pelapisan anti sidik jari logam berskala besar dilengkapi dengan sistem pelapisan ion busur katode, sistem pelapisan sputtering magnetron frekuensi menengah, dan sistem pelapisan anti sidik jari, yang memenuhi persyaratan ganda dari komponen baja tahan karat besar bermutu tinggi dalam hal dekorasi dan...

Karena pasar saat ini memiliki persyaratan yang semakin tinggi untuk daya tahan perhiasan, perusahaan telah meluncurkan peralatan film pelindung khusus untuk industri perhiasan. Peralatan tersebut mengadopsi sistem pelapisan CVD dan sistem pelapisan film pelindung, yang dapat menyiapkan lapisan yang sangat tahan korosi...

Peralatan pelapis anti sidik jari mengadopsi teknologi anti sidik jari AF pelapis kontrol magnetik, dan sudut tetesan air anti sidik jari dapat mencapai lebih dari 115 °. Film ini memiliki sifat hidrofobisitas yang baik, stabilitas tinggi, dan efek anti polusi, kedap air, dan tahan aus yang sangat baik.

Peralatan pelapisan anti sidik jari berskala besar untuk perlengkapan saniter kelas atas dilengkapi dengan sistem pelapisan ion busur katode, sistem pelapisan sputtering magnetron frekuensi menengah, dan sistem pelapisan anti sidik jari, yang memenuhi persyaratan ganda yakni komponen logam dan komponen keramik di kelas atas.

Dengan pesatnya pertumbuhan permintaan pasar untuk meningkatkan ketahanan aus, pelumasan, ketahanan korosi, dan sifat-sifat lain dari pelapis keras, peralatan pelapis ion filtrasi magnetik busur katoda telah menjadi sorotan. Peralatan ini mengadopsi teknologi 90 derajat yang paling umum digunakan dan efektif...

Katoda peralatan ini mengadopsi teknologi penggerak ganda dari kumparan depan dan superposisi magnet permanen, dan bekerja sama dengan sistem etsa sumber ion lapisan anoda dan perlengkapan multi sudut tiga dimensi untuk mewujudkan pekerjaan simultan multi stasiun. Dilengkapi dengan katoda berdiameter besar ...

Peralatan ini mengadopsi teknologi pelapisan ion busur katode dan dilengkapi dengan sistem etsa IET yang canggih. Setelah perawatan, produk dapat langsung melapisi dengan lapisan keras tanpa lapisan transisi. Pada saat yang sama, teknologi busur tradisional ditingkatkan menjadi magnet permanen plus elektromagnet...

Peralatan pelapisan keras film safir adalah peralatan profesional untuk melapisi film safir. Peralatan ini memadukan tiga sistem pelapisan yaitu sputtering magnetron reaktif frekuensi sedang + CVD + AF, dan dapat menghasilkan film transparan dengan kekerasan tinggi dengan koefisien gesekan rendah pada produk...

Di dalam ruang vakum, bahan pelapis diuapkan dan diendapkan pada substrat dengan menggunakan metode pemanasan resistansi, sehingga permukaan substrat dapat memperoleh tekstur logam dan mencapai tujuan dekorasi. Hal ini ditandai dengan laju pembentukan film yang cepat, warna cerah, dan daya tahan tinggi...

Peralatan ini berstruktur pintu ganda vertikal. Peralatan ini merupakan peralatan komposit yang memadukan teknologi pelapisan sputtering magnetron DC, teknologi pelapisan penguapan resistansi, teknologi pelapisan CVD, dan sistem pembersihan ion frekuensi menengah. Peralatan ini cocok untuk kebutuhan produk kompleks pelanggan...

Peralatan film pelindung lampu yang dikembangkan oleh ZHENHUA memecahkan masalah lama bahwa lampu PC/ABS perlu disemprot dengan cat. Peralatan ini memungkinkan bagian lampu yang dicetak injeksi untuk langsung masuk ke ruang vakum guna menyelesaikan proses penguapan dan pelapisan film pelindung sekaligus...

Peralatan film pelindung lampu yang dikembangkan oleh ZHENHUA memecahkan masalah lama bahwa lampu PC/ABS perlu disemprot dengan cat. Peralatan ini memungkinkan bagian lampu yang dicetak injeksi untuk langsung masuk ke ruang vakum guna menyelesaikan proses penguapan dan pelapisan film pelindung sekaligus...

Peralatan pelapisan lilitan magnetron menggunakan metode sputtering magnetron untuk mengubah bahan pelapis menjadi gas atau ionik dalam lingkungan vakum, lalu menempelkannya pada benda kerja untuk membentuk lapisan film yang padat. Untuk memperbaiki kondisi permukaan atau memperoleh kinerja khusus tertentu...

Rangkaian peralatan ini mengubah bahan pelapis dengan titik leleh rendah dan mudah menguap menjadi partikel nano dengan memanaskannya dalam tungku induksi frekuensi menengah atau perahu molibdenum penguapan, dan menyimpannya di permukaan benda kerja untuk membentuk film. Film yang digulung ditempatkan...

Rangkaian peralatan ini menggunakan target magnetron untuk mengubah bahan pelapis menjadi partikel berukuran nanometer, yang diendapkan pada permukaan substrat untuk membentuk lapisan tipis. Lapisan film yang digulung ditempatkan di ruang vakum. Melalui struktur lilitan yang digerakkan secara elektrik, salah satu ujungnya menerima...

Dalam keadaan vakum, letakkan benda kerja pada katode pelepasan pijar bertekanan rendah dan injeksikan gas yang sesuai. Pada suhu tertentu, lapisan diperoleh pada permukaan benda kerja dengan menggunakan proses polimerisasi ionisasi yang menggabungkan reaksi kimia dan plasma, sedangkan gaseo...

Ruang pelapisan vakum dari peralatan pengendapan uap kimia mengadopsi struktur pendingin air dua lapis yang independen, yang efisien dan seragam dalam pendinginan, serta memiliki struktur yang aman dan stabil. Peralatan ini dirancang dengan pintu ganda, beberapa jendela observasi, dan beberapa ...

Peralatan ini terutama menggunakan pengendapan uap kimia untuk menyiapkan film oksida, yang memiliki karakteristik laju pengendapan cepat dan kualitas film tinggi. Mengenai struktur peralatan, struktur pintu ganda digunakan untuk meningkatkan efisiensi penjepitan, dan sistem pasokan gas cair terbaru...

Peralatan pembersih plasma vakum mengadopsi struktur terpadu, dilengkapi dengan sistem pembersihan ion RF, kontrol otomatis penuh, pengoperasian dan perawatan yang mudah. ​​Generator frekuensi tinggi RF dapat menghasilkan plasma berdensitas tinggi, mengaktifkan, mengetsa, dan mengabukan permukaan benda kerja, menghilangkan secara efektif...

Peralatan ini memadukan teknologi magnetron sputtering dan pelapisan ion, dan menyediakan solusi untuk meningkatkan konsistensi warna, laju pengendapan, dan stabilitas komposisi senyawa. Menurut berbagai persyaratan produk, sistem pemanas, sistem bias, sistem ionisasi, dan perangkat lain dapat...

Peralatan ini memadukan teknologi magnetron sputtering dan resistance evaporation, dan menyediakan solusi untuk melapisi berbagai substrat yang berbeda. Peralatan pelapis eksperimental ini terutama digunakan di universitas dan lembaga penelitian ilmiah, dan dapat memenuhi berbagai eksperimen...

Peralatan pembersih plasma vakum mengadopsi struktur terpadu, dilengkapi dengan sistem pembersihan ion RF, kontrol otomatis penuh, pengoperasian dan perawatan yang mudah. ​​Generator frekuensi tinggi RF dapat menghasilkan plasma berdensitas tinggi, mengaktifkan, mengetsa, dan mengabukan permukaan benda kerja, menghilangkan secara efektif...

Peralatan ini mengadopsi teknologi penguapan berkas elektron. Elektron dipancarkan dari filamen katode dan difokuskan ke arus berkas tertentu, yang dipercepat oleh potensi antara katode dan wadah untuk melelehkan dan menguapkan bahan pelapis. Peralatan ini memiliki karakteristik...