Il existe de nombreux types de substrats pour les verres et les lentilles, tels que le CR39, le PC (polycarbonate), le Trivex156 1,53, le plastique à indice de réfraction moyen, le verre, etc. Pour les verres correcteurs, la transmittance des lentilles en résine et en verre n'est que d'environ 91 %, et une partie de la lumière est réfléchie par les deux...
1. Le film de revêtement sous vide est très fin (normalement 0,01-0,1 µm). 2. Le revêtement sous vide est applicable à de nombreux plastiques, tels que l'ABS, le PE, le PP, le PVC, le PA, le PC, le PMMA, etc. 3. La température de formation du film est basse. Dans l'industrie sidérurgique, la température de revêtement par galvanisation à chaud est généralement comprise entre 400 °C et 600 °C.
Après la découverte de l'effet photovoltaïque en Europe en 1863, les États-Unis ont fabriqué la première cellule photovoltaïque au sélénium en 1883. À l'origine, les cellules photovoltaïques étaient principalement utilisées dans l'aérospatiale, l'armée et d'autres secteurs. Au cours des vingt dernières années, la forte baisse du coût du photovoltaïque...
1. Nettoyage du substrat par bombardement. 1.1) La machine de pulvérisation cathodique utilise une décharge luminescente pour nettoyer le substrat. L'argon est chargé dans la chambre, la tension de décharge étant d'environ 1000 V. Après la mise sous tension, une décharge luminescente est générée et le substrat est nettoyé.
L'application de films optiques minces dans les produits électroniques grand public tels que les téléphones portables s'est déplacée des objectifs d'appareil photo traditionnels vers des domaines plus diversifiés, tels que les objectifs d'appareil photo, les protections d'objectif, les filtres de coupure infrarouge (IR-CUT) et le revêtement NCVM sur les couvercles de batterie de téléphones portables.
La technologie de revêtement CVD présente les caractéristiques suivantes : 1. Le fonctionnement du processus de l'équipement CVD est relativement simple et flexible, et il peut préparer des films simples ou composites et des films d'alliage avec différentes proportions ; 2. Le revêtement CVD a une large gamme d'applications et peut être utilisé pour pré...
Le processus de la machine de revêtement sous vide est divisé en : revêtement par évaporation sous vide, revêtement par pulvérisation sous vide et revêtement ionique sous vide. 1、Revêtement par évaporation sous vide Dans des conditions de vide, faites évaporer le matériau, tel que le métal, l'alliage métallique, etc. puis déposez-les sur la surface du substrat...
1. Qu'est-ce que le revêtement sous vide ? Quel est son rôle ? Ce procédé utilise l'évaporation et la pulvérisation cathodique sous vide pour libérer des particules de film. Ces particules sont déposées sur des pièces en métal, verre, céramique, semi-conducteurs et plastiques afin de former une couche de revêtement décorative.
Étant donné que les équipements de revêtement sous vide fonctionnent sous vide, ils doivent répondre aux exigences environnementales en matière de vide. Les normes industrielles pour différents types d'équipements de revêtement sous vide sont formulées dans mon pays (y compris les conditions techniques générales des équipements de revêtement sous vide, etc.).
Type de film Matériau du film Substrat Caractéristiques et application du film Film métallique CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt acier, acier douxAlliage de titane, acier à haute teneur en carbone, acier douxAlliage de titaneverre durplastique Nickel, Inconel acier, acier inoxydable silicium Anti-usure ...
Le placage ionique sous vide (en abrégé placage ionique) est une nouvelle technologie de traitement de surface qui s'est développée rapidement dans les années 1970, qui a été proposée par DM Mattox de la société Somdia aux États-Unis en 1963. Il fait référence au processus d'utilisation d'une source d'évaporation ou d'une cible de pulvérisation pour évaporer ou pulvériser...
1 Film antireflet. Par exemple, pour les appareils photo, les projecteurs de diapositives, les projecteurs, les projecteurs de cinéma, les télescopes, les jumelles, les films monocouches MgF appliqués sur les lentilles et les prismes de divers instruments optiques, ainsi que les films antireflets large bande doubles ou multicouches composés de SiOFrO2, AlO, etc.
1. Bonne contrôlabilité et répétabilité de l'épaisseur du film. La contrôlabilité de l'épaisseur du film permet de contrôler l'épaisseur du film à une valeur prédéterminée. L'épaisseur requise peut être répétée plusieurs fois, ce qui est appelé répétabilité de l'épaisseur du film. La décharge…
Le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) est une technologie de formation de films qui utilise le chauffage, l'amplification par plasma, la photo-assistance et d'autres moyens pour produire des films solides à la surface du substrat à partir de substances gazeuses, par réaction chimique à pression normale ou basse. Généralement, la réaction…
1. Le taux d'évaporation influence les propriétés du revêtement évaporé. Le taux d'évaporation a une grande influence sur le film déposé. La structure du revêtement formée par un faible taux de dépôt étant lâche et permettant le dépôt de grosses particules, il est très prudent de choisir un taux d'évaporation plus élevé.