Es gibt viele Arten von Substraten für Gläser und Linsen, wie CR39, PC (Polycarbonat), 1,53 Trivex156, Kunststoff mit mittlerem Brechungsindex, Glas usw. Bei Korrekturlinsen beträgt die Lichtdurchlässigkeit sowohl von Harz- als auch von Glaslinsen nur etwa 91 %, und ein Teil des Lichts wird von den beiden zurückreflektiert...
1. Der Film der Vakuumbeschichtung ist sehr dünn (normalerweise 0,01–0,1 µm). 2. Vakuumbeschichtung kann für viele Kunststoffe verwendet werden, z. B. ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA usw. 3. Die Filmbildungstemperatur ist niedrig. In der Eisen- und Stahlindustrie liegt die Beschichtungstemperatur beim Feuerverzinken in der Regel zwischen 400 °C und …
Nach der Entdeckung des Photovoltaikeffekts in Europa im Jahr 1863 stellten die USA 1883 die erste Photovoltaikzelle mit (Se) her. Anfangs wurden Photovoltaikzellen hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, im Militär und in anderen Bereichen eingesetzt. In den letzten 20 Jahren sind die Kosten für Photovoltaik stark gesunken...
1. Substratreinigung durch Beschuss 1.1) Sputterbeschichtungsanlagen verwenden Glimmentladungen zur Substratreinigung. Das bedeutet, Argongas wird in die Kammer eingeleitet, die Entladespannung beträgt ca. 1000 V. Nach dem Einschalten der Stromversorgung wird eine Glimmentladung erzeugt und das Substrat gereinigt.
Die Anwendung optischer Dünnschichten in Produkten der Unterhaltungselektronik wie Mobiltelefonen hat sich von traditionellen Kameraobjektiven hin zu einer breiteren Palette von Anwendungen verlagert, wie z. B. Kameraobjektiven, Objektivschutzfolien, Infrarot-Sperrfiltern (IR-CUT) und NCVM-Beschichtungen auf Akkuabdeckungen von Mobiltelefonen. Kameraspez...
Die CVD-Beschichtungstechnologie weist die folgenden Merkmale auf: 1. Der Prozessablauf der CVD-Ausrüstung ist relativ einfach und flexibel und es können Einzel- oder Verbundfilme sowie Legierungsfilme mit unterschiedlichen Anteilen hergestellt werden. 2. Die CVD-Beschichtung hat ein breites Anwendungsspektrum und kann zur Herstellung verwendet werden...
Der Prozess der Vakuumbeschichtungsmaschine ist unterteilt in: Vakuumverdampfungsbeschichtung, Vakuumsputternbeschichtung und Vakuumionenbeschichtung. 1. Vakuumverdampfungsbeschichtung: Unter Vakuumbedingungen werden Materialien wie Metalle, Metalllegierungen usw. verdampft und anschließend auf der Substratoberfläche abgeschieden.
1. Was ist ein Vakuumbeschichtungsverfahren? Was ist seine Funktion? Beim sogenannten Vakuumbeschichtungsverfahren werden durch Verdampfen und Sputtern in einer Vakuumumgebung Partikel aus Filmmaterial emittiert, die auf Metall, Glas, Keramik, Halbleitern und Kunststoffteilen abgeschieden werden und eine Beschichtungsschicht bilden, die zur Dekoration dient.
Da Vakuumbeschichtungsanlagen unter Vakuumbedingungen arbeiten, müssen sie die Vakuumanforderungen der Umgebung erfüllen. Die in meinem Land festgelegten Industrienormen für verschiedene Arten von Vakuumbeschichtungsanlagen (einschließlich der allgemeinen technischen Bedingungen für Vakuumbeschichtungsanlagen) …
Vakuum-Ionenplattieren (kurz Ionenplattieren) ist eine neue Oberflächenbehandlungstechnologie, die sich in den 1970er Jahren rasant entwickelte und 1963 von DM Mattox von der Somdia Company in den USA vorgeschlagen wurde. Es bezieht sich auf den Prozess der Verwendung einer Verdampfungsquelle oder eines Sputtertargets zum Verdampfen oder Sputtern...
1. Antireflexionsfolie. Beispielsweise werden Linsen und Prismen verschiedener optischer Instrumente mit einschichtigen MgF-Filmen beschichtet, beispielsweise in Kameras, Diaprojektoren, Projektoren, Filmprojektoren, Teleskopen, Schaugläsern und anderen optischen Geräten. Auch doppel- oder mehrschichtige Breitband-Antireflexionsfolien aus SiOFrO2, AlO usw. werden verwendet.
① Gute Steuerbarkeit und Wiederholbarkeit der Filmdicke. Die Steuerbarkeit der Filmdicke wird als gute Steuerbarkeit der Filmdicke bezeichnet. Die gewünschte Filmdicke kann viele Male wiederholt werden. Dies wird als Wiederholbarkeit der Filmdicke bezeichnet. Da die Entladung...
Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist ein Verfahren zur Filmbildung. Dabei werden Erhitzung, Plasmaverstärkung, Licht und andere Mittel eingesetzt, um gasförmige Substanzen durch chemische Reaktionen unter Normal- oder Niederdruck zu festen Filmen auf der Substratoberfläche zu verschmelzen. Im Allgemeinen läuft die Reaktion in...
1. Die Verdampfungsrate beeinflusst die Eigenschaften der aufgedampften Beschichtung. Sie hat großen Einfluss auf den abgeschiedenen Film. Da die durch eine niedrige Abscheidungsrate gebildete Beschichtungsstruktur locker ist und leicht große Partikel abgelagert werden können, ist es sehr sicher, eine höhere Verdampfungsrate zu wählen ...