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Nachricht

  • Präzisions-Vakuumbeschichtungsgeräte

    Präzisions-Vakuumbeschichtungsanlagen sind Spezialmaschinen, die mit höchster Präzision dünne Filme und Beschichtungen auf verschiedene Materialien auftragen. Der Prozess findet in einer Vakuumumgebung statt, wodurch Verunreinigungen vermieden werden und eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Konsistenz beim Auftragen der Beschichtung gewährleistet wird.
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  • Große horizontale Vakuumbeschichtungsanlage

    Einer der Hauptvorteile großer horizontaler Vakuumbeschichtungsanlagen ist die Möglichkeit, dünne, gleichmäßige Beschichtungen auf große, flache Substrate aufzutragen. Dies ist besonders wichtig in Branchen wie der Glasherstellung, wo eine gleichmäßige Beschichtungsdicke über eine große Oberfläche unerlässlich ist.
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  • Uhr Ionen Gold Vakuum Beschichtung Maschine

    Das Funktionsprinzip der Vakuumbeschichtungsanlage für Ionengold besteht darin, Uhrenteile mittels physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD) mit einer dünnen Goldschicht zu beschichten. Dabei wird das Gold in einer Vakuumkammer erhitzt, wodurch es verdampft und anschließend auf der Oberfläche kondensiert.
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  • Nano-Keramik-Vakuumbeschichtungsmaschine

    Die Nanokeramik-Vakuumbeschichtungsanlage ist eine hochmoderne Technologie, die im Vakuumverfahren dünne Schichten keramischer Materialien auf verschiedene Substrate aufträgt. Dieses fortschrittliche Beschichtungsverfahren bietet viele Vorteile, darunter erhöhte Härte, verbesserte thermische Stabilität und überlegene...
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  • Mehrere gängige Zielmaterialien

    1. Chromtarget: Chrom als Sputterfilmmaterial lässt sich nicht nur gut mit dem Substrat verbinden und bietet eine hohe Haftung. Chrom und Oxid bilden auch CrO₃-Filme. Die mechanischen Eigenschaften, die Säurebeständigkeit und die thermische Stabilität sind besser. Chrom in der unvollständigen Oxidation...
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  • Ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie

    Ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie

    1. Die ionenstrahlunterstützte Abscheidungstechnologie zeichnet sich durch eine starke Haftung zwischen Membran und Substrat aus, wodurch die Membranschicht sehr stark ist. Experimente zeigen, dass die Haftung bei ionenstrahlunterstützter Abscheidung im Vergleich zur thermischen Gasphasenabscheidung um ein Vielfaches bis auf das Hundertfache zunimmt.
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  • Eigenschaften und Anwendungen reaktiver Sputterbeschichtungen

    Eigenschaften und Anwendungen reaktiver Sputterbeschichtungen

    Beim Sputterbeschichtungsverfahren können Verbindungen als Targets für die Herstellung chemisch synthetisierter Filme verwendet werden. Die Zusammensetzung des nach dem Sputtern des Targetmaterials erzeugten Films weicht jedoch häufig stark von der ursprünglichen Zusammensetzung des Targetmaterials ab und kann daher...
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  • Temperaturkoeffizienteneigenschaften von Metallschichtwiderständen

    Temperaturkoeffizienteneigenschaften von Metallschichtwiderständen

    Der Temperaturkoeffizient des Widerstands von Metallfilmen variiert mit der Filmdicke. Dünne Filme sind negativ, dicke Filme positiv und dickere Filme ähneln, sind aber nicht identisch mit Massenmaterialien. Im Allgemeinen ändert sich der Temperaturkoeffizient des Widerstands von negativ zu positiv.
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  • Eigenschaften und Anwendung der Ionenbeschichtung Kapitel 2

    Eigenschaften und Anwendung der Ionenbeschichtung Kapitel 2

    3. Hohe Qualität der Beschichtung: Da Ionenbeschuss die Dichte der Membran verbessern und die Organisationsstruktur der Membran verbessern kann, ist die Membranschicht gleichmäßiger, die Beschichtung ist dichter und es treten weniger Nadellöcher und Blasen auf, wodurch die Qualität der Membran verbessert wird.
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  • Eigenschaften und Anwendung der Ionenbeschichtung – Kapitel 1

    Eigenschaften und Anwendung der Ionenbeschichtung – Kapitel 1

    Im Vergleich zur Aufdampf- und Sputterbeschichtung ist das wichtigste Merkmal der Ionenbeschichtung, dass die energiereichen Ionen während der Abscheidung das Substrat und die Filmschicht bombardieren. Der Beschuss geladener Ionen erzeugt eine Reihe von Effekten, hauptsächlich die folgenden. ① Membran / Basis...
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  • Spezielle magnetisch gesteuerte Beschichtungsanlage für Farbfilme

    Die spezielle Magnetron-Beschichtungsanlage für Farbfilme nutzt die Kraft eines Magnetfelds, um die Abscheidung von Beschichtungsmaterialien auf dem Filmsubstrat präzise zu steuern. Diese innovative Technologie ermöglicht eine beispiellose Gleichmäßigkeit und Konsistenz während des Beschichtungsprozesses und führt zu hoher Qualität.
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  • Sputterbeschichtungsmaschine für Uhren

    Die Uhren-Sputter-Beschichtungsanlage nutzt das PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition), um einen dünnen Film aus Beschichtungsmaterial auf Uhrenteile aufzutragen. Das Verfahren bietet hervorragende Haftung, gleichmäßige Deckung und eine Vielzahl von Beschichtungsmöglichkeiten, darunter metallische, keramische und diamantähnliche Kohlenstoffbeschichtungen. Dadurch...
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  • Oxidationsbeständige Filmbeschichtungsmaschine

    Die oxidationsbeständige Filmbeschichtungsmaschine ist eine Spitzentechnologie, die eine Schutzschicht erzeugt, die Oxidation verhindert und die Haltbarkeit und Langlebigkeit von Metallkomponenten verbessert. Diese Maschine trägt eine dünne Filmbeschichtung auf die Materialoberfläche auf und bildet so eine Barriere gegen Korrosion ...
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  • Integrierte Lampenschutzfolienausrüstung

    Der Einsatz fortschrittlicher Technologie in modernen Leuchten verbessert deren Leistung und Effizienz deutlich. Dadurch werden sie jedoch auch anfälliger für Schäden durch verschiedene äußere Einflüsse. Um diese wertvollen Anlagen zu schützen und ihre Lebensdauer zu maximieren, …
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  • Zielauswahl und -klassifizierung

    Zielauswahl und -klassifizierung

    Mit der zunehmenden Entwicklung der Sputterbeschichtung, insbesondere der Magnetron-Sputterbeschichtungstechnologie, können derzeit Targetfilme für jedes Material durch Ionenbeschuss hergestellt werden. Da das Target während des Beschichtungsprozesses auf eine Art Substrat gesputtert wird, verbessert sich die Qualität der Messung.
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