Công nghệ lắng đọng hơi hóa học plasma tăng cường hồ quang dây nóng sử dụng súng hồ quang dây nóng để phát ra plasma hồ quang, viết tắt là công nghệ PECVD hồ quang dây nóng. Công nghệ này tương tự như công nghệ phủ ion súng hồ quang dây nóng, nhưng điểm khác biệt là màng rắn thu được bằng cách...
1. Công nghệ CVD nhiệt Lớp phủ cứng chủ yếu là lớp phủ gốm kim loại (TiN, v.v.), được hình thành do phản ứng của kim loại trong lớp phủ và khí hóa phản ứng. Lúc đầu, công nghệ CVD nhiệt được sử dụng để cung cấp năng lượng hoạt hóa của phản ứng kết hợp bằng năng lượng nhiệt ở ...
Phủ nguồn bốc hơi điện trở là phương pháp phủ bốc hơi chân không cơ bản. “Bốc hơi” là phương pháp chế tạo màng mỏng trong đó vật liệu phủ trong buồng chân không được nung nóng và bốc hơi, do đó các nguyên tử hoặc phân tử vật liệu bốc hơi và thoát ra khỏi...
Công nghệ phủ ion hồ quang catốt sử dụng công nghệ xả hồ quang trường lạnh. Ứng dụng sớm nhất của công nghệ xả hồ quang trường lạnh trong lĩnh vực phủ là của Multi Arc Company tại Hoa Kỳ. Tên tiếng Anh của quy trình này là arc ionplating (AIP). Phủ ion hồ quang catốt...
Có nhiều loại vật liệu nền cho kính và tròng kính, chẳng hạn như CR39, PC (polycarbonate), 1.53 Trivex156, nhựa có chiết suất trung bình, thủy tinh, v.v. Đối với tròng kính hiệu chỉnh, độ truyền sáng của cả tròng kính nhựa và thủy tinh chỉ đạt khoảng 91% và một phần ánh sáng bị phản xạ trở lại bởi hai...
1. Lớp phủ chân không rất mỏng (thường là 0,01-0,1um) | 2. Lớp phủ chân không có thể sử dụng cho nhiều loại nhựa, chẳng hạn như ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, v.v. 3. Nhiệt độ tạo màng thấp. Trong ngành công nghiệp sắt thép, nhiệt độ lớp phủ của mạ kẽm nóng thường nằm trong khoảng từ 400 ℃ đến...
Sau khi phát hiện ra hiệu ứng quang điện ở châu Âu vào năm 1863, Hoa Kỳ đã chế tạo pin quang điện đầu tiên với (Se) vào năm 1883. Vào những ngày đầu, pin quang điện chủ yếu được sử dụng trong các lĩnh vực hàng không vũ trụ, quân sự và các lĩnh vực khác. Trong 20 năm qua, giá thành pin quang điện giảm mạnh...
1. Làm sạch nền bằng phương pháp bắn phá 1.1) Máy phủ phun sử dụng phương pháp phóng điện phát sáng để làm sạch nền. Nghĩa là nạp khí argon vào buồng, điện áp phóng điện khoảng 1000V, Sau khi bật nguồn, sẽ tạo ra hiện tượng phóng điện phát sáng và nền được làm sạch bằng ...
Ứng dụng của màng mỏng quang học trong các sản phẩm điện tử tiêu dùng như điện thoại di động đã chuyển từ ống kính máy ảnh truyền thống sang một hướng đa dạng hơn, chẳng hạn như ống kính máy ảnh, miếng bảo vệ ống kính, bộ lọc cắt hồng ngoại (IR-CUT) và lớp phủ NCVM trên nắp pin điện thoại di động. Camera sp...
Công nghệ phủ CVD có những đặc điểm sau: 1. Quy trình vận hành của thiết bị CVD tương đối đơn giản và linh hoạt, có thể chế tạo màng đơn hoặc màng composite và màng hợp kim với tỷ lệ khác nhau; 2. Phủ CVD có phạm vi ứng dụng rộng, có thể dùng để...
Quy trình máy phủ chân không được chia thành: phủ bốc hơi chân không, phủ phun chân không và phủ ion chân không. 1、Phủ bốc hơi chân không Trong điều kiện chân không, làm cho vật liệu bốc hơi, chẳng hạn như kim loại, hợp kim kim loại, v.v. sau đó lắng đọng chúng trên bề mặt chất nền...
1、Quy trình phủ chân không là gì? Chức năng của nó là gì? Quy trình phủ chân không sử dụng quá trình bay hơi và phun trong môi trường chân không để phát ra các hạt vật liệu màng, lắng đọng trên kim loại, thủy tinh, gốm sứ, chất bán dẫn và các bộ phận bằng nhựa để tạo thành lớp phủ, dùng để trang trí...
Vì thiết bị phủ chân không hoạt động trong điều kiện chân không nên thiết bị phải đáp ứng các yêu cầu về chân không đối với môi trường. Các tiêu chuẩn công nghiệp cho các loại thiết bị phủ chân không khác nhau được xây dựng tại quốc gia của tôi (bao gồm các điều kiện kỹ thuật chung cho thiết bị phủ chân không,...
Loại màng Vật liệu màng Chất nền Đặc điểm và ứng dụng của màng Màng kim loại CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt thép, thép mềmHợp kim titan, thép cacbon cao, thép mềmHợp kim titanNhựa thủy tinh cứng Niken, thép Inconel, thép không gỉ silicon Chống mài mòn ...
Mạ ion chân không (gọi tắt là mạ ion) là một công nghệ xử lý bề mặt mới được phát triển nhanh chóng vào những năm 1970, được DM Mattox của Công ty Somdia tại Hoa Kỳ đề xuất vào năm 1963. Công nghệ này đề cập đến quá trình sử dụng nguồn bốc hơi hoặc mục tiêu phun để bốc hơi hoặc phun...