Guangdong Zhenhua Teknoloji A.Ş.'ye hoş geldiniz.
Haberler
-
Metal Parmak İzi Önleyici Vakum Kaplamaları
Metal anti-parmak izi vakum kaplama makinelerinin kullanımı, yüzey koruma teknolojisinde önemli bir ilerlemeyi temsil eder. Vakum teknolojisi ve özel kaplamaları birleştirerek, bu makineler metal yüzeylerde parmak izlerine ve diğer etkilere karşı koruma sağlayan ince, aşınmaya dayanıklı bir tabaka oluşturur...Devamını oku -
Pratik Vakum Kaplama Makinesi
İleri üretim ve endüstriyel üretim alanlarında, pratik vakum kaplama makinelerine olan talep artmaktadır. Bu son teknoloji makineler, çeşitli malzemelerin kaplanma biçiminde devrim yaratarak gelişmiş dayanıklılık, performans ve estetik sunmaktadır. Bu blog po...Devamını oku -
Hedef Malzeme Seçimi İlkesi ve Sınıflandırması
Özellikle magnetron püskürtme kaplama teknolojisi olmak üzere püskürtme kaplama teknolojisinin giderek gelişmesiyle birlikte, günümüzde herhangi bir malzeme için iyon bombardımanı hedef filmi hazırlanabilmektedir, çünkü hedef, kaplanma sürecinde bir tür alt tabaka üzerine püskürtüldüğünden, kalitesi...Devamını oku -
RF Püskürtme Kaplamanın Ana Özellikleri
A. Yüksek püskürtme oranı. Örneğin, SiO2 püskürtme sırasında, biriktirme oranı 200 nm/dakikaya kadar, genellikle 10~100 nm/dakikaya kadar çıkabilir. Ve film oluşum oranı yüksek frekanslı güçle doğru orantılıdır. B. Film ile alt tabaka arasındaki yapışma vakum buharından daha büyüktür...Devamını oku -
Araba Lambası Film Üretim Kaplama Hatları
Araba lambası filmi üretim hatları, otomotiv üretim endüstrisinin önemli bir parçasıdır. Bu üretim hatları, araba lambalarının estetiğini ve işlevselliğini artırmada önemli bir rol oynayan araba lambası filmlerinin kaplanması ve üretiminden sorumludur. Yüksek kaliteli...Devamını oku -
Magnetron Püskürtmede Manyetik Alanın Rolü
Magnetron püskürtme esas olarak deşarj plazma taşıma, hedef aşındırma, ince film biriktirme ve diğer işlemleri içerir, magnetron püskürtme işlemi üzerindeki manyetik alan bir etkiye sahip olacaktır. Magnetron püskürtme sisteminde artı ortogonal manyetik alan, elektronlar ...Devamını oku -
Vakum Kaplama Makinesi Pompalama Sisteminin Gereksinimleri
Pompalama sistemindeki vakum kaplama makinesinin aşağıdaki temel gereksinimleri vardır: (1) Kaplama vakum sistemi, yalnızca alt tabakadan ve buharlaşan malzemelerden çıkan gazları ve vakumdaki bileşenleri hızla pompalamakla kalmayıp, aynı zamanda yeterince büyük bir pompalama hızına sahip olmalıdır...Devamını oku -
Mücevher PVD Kaplama Makinesi
Mücevher PVD kaplama makinesi, mücevher parçalarına ince ama dayanıklı bir kaplama uygulamak için Fiziksel Buhar Biriktirme (PVD) olarak bilinen bir işlemden yararlanır. Bu işlem, vakum ortamında buharlaştırılan yüksek saflıkta, katı metal hedeflerin kullanımını içerir. Elde edilen metal buharı daha sonra...Devamını oku -
Küçük Esnek Pvd Vakum Kaplama Makinesi
Küçük esnek PVD vakum kaplama makinelerinin başlıca avantajlarından biri çok yönlülükleridir. Bu makineler çeşitli alt tabaka boyutlarına ve şekillerine uyum sağlayacak şekilde tasarlanmıştır ve bu da onları küçük ölçekli veya özel üretim süreçleri için ideal hale getirir. Ayrıca, kompakt boyutu ve esnek konfi...Devamını oku -
Kesme Aletleri Vakum Kaplama Makinesi
Sürekli gelişen üretim endüstrisinde, kesici takımlar her gün kullandığımız ürünleri şekillendirmede hayati bir rol oynar. Havacılık endüstrisindeki hassas kesimlerden tıp alanındaki karmaşık tasarımlara kadar, yüksek kaliteli kesici takımlara olan talep artmaya devam ediyor. Bu talebi karşılamak için, ABD...Devamını oku -
İyon bombardımanının film tabakası/alt tabaka arayüzü üzerindeki etkisi
Membran atomlarının birikimi başladığında, iyon bombardımanı membran/substrat arayüzünde aşağıdaki etkilere sahiptir. (1) Fiziksel karıştırma. Yüksek enerjili iyon enjeksiyonu, biriken atomların püskürtülmesi ve yüzey atomlarının geri tepme enjeksiyonu ve kademeli çarpışma fenomeni nedeniyle, ...Devamını oku -
Vakum Püskürtme Kaplama Canlandırma ve Geliştirme
Püskürtme, enerjik parçacıkların (genellikle gazların pozitif iyonları) bir katının yüzeyine (aşağıda hedef malzeme olarak adlandırılır) çarpması ve hedef malzemenin yüzeyindeki atomların (veya moleküllerin) ondan kaçmasına neden olması olayıdır. Bu olay, Grove tarafından 1842'de keşfedildi...Devamını oku -
Magnetron püskürtme kaplamanın özellikleri Bölüm 2
Magnetron püskürtme kaplamasının özellikleri (3) Düşük enerjili püskürtme. Hedefe uygulanan düşük katot voltajı nedeniyle, plazma katot yakınındaki boşluktaki manyetik alan tarafından bağlanır, böylece yüksek enerjili yüklü parçacıkların alt tabakanın yanına insanlar tarafından vurulması engellenir.Devamını oku -
Magnetron püskürtme kaplamanın özellikleri Bölüm 1
Diğer kaplama teknolojileriyle karşılaştırıldığında, magnetron püskürtme kaplama aşağıdaki özelliklerle karakterize edilir: çalışma parametreleri, kaplama biriktirme hızının ve kalınlığının (kaplanan alanın durumu) geniş bir dinamik ayar aralığına sahiptir, kolayca kontrol edilebilir ve tasarım yoktur...Devamını oku -
İyon demeti destekli biriktirme teknolojisi
İyon ışını destekli biriktirme teknolojisi, iyon ışını enjeksiyonu ve buhar biriktirme kaplama teknolojisinin iyon yüzey kompozit işleme teknolojisiyle birleştirilmesidir. İyon enjekte edilmiş malzemelerin yüzey modifikasyonu sürecinde, ister yarı iletken malzemeler ister mühendislik malzemeleri olsun, ...Devamını oku
