ยินดีต้อนรับสู่บริษัท Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
ข่าวสารอุตสาหกรรม
-
คุณสมบัติหลักของการเคลือบ RF Sputtering
A. อัตราการสปัตเตอร์สูง ตัวอย่างเช่น เมื่อสปัตเตอร์ SiO2 อัตราการสะสมอาจสูงถึง 200 นาโนเมตรต่อนาที โดยปกติจะอยู่ที่ 10~100 นาโนเมตรต่อนาที และอัตราการก่อตัวของฟิล์มจะแปรผันโดยตรงกับกำลังความถี่สูง B. การยึดเกาะระหว่างฟิล์มกับพื้นผิวจะมากกว่าการดูดสูญญากาศ...อ่านเพิ่มเติม -
สายการผลิตฟิล์มเคลือบโคมไฟรถยนต์
สายการผลิตฟิล์มโคมไฟรถยนต์เป็นส่วนสำคัญของอุตสาหกรรมการผลิตยานยนต์ สายการผลิตเหล่านี้รับผิดชอบการเคลือบและการผลิตฟิล์มโคมไฟรถยนต์ ซึ่งมีบทบาทสำคัญในการเพิ่มความสวยงามและการใช้งานของโคมไฟรถยนต์ เนื่องจากความต้องการฟิล์มคุณภาพสูง...อ่านเพิ่มเติม -
บทบาทของสนามแม่เหล็กในการสปัตเตอร์แมกนีตรอน
การสปัตเตอร์แมกนีตรอนประกอบด้วยการขนส่งพลาสมาแบบปล่อยประจุ การกัดเป้าหมาย การสะสมฟิล์มบาง และกระบวนการอื่นๆ โดยสนามแม่เหล็กในกระบวนการสปัตเตอร์แมกนีตรอนจะมีผลกระทบต่อระบบสปัตเตอร์แมกนีตรอนบวกกับสนามแม่เหล็กตั้งฉาก อิเล็กตรอนจะอยู่ภายใต้...อ่านเพิ่มเติม -
ข้อกำหนดของระบบปั๊มสำหรับเครื่องเคลือบสูญญากาศ
เครื่องเคลือบสูญญากาศบนระบบปั๊มมีข้อกำหนดพื้นฐานดังต่อไปนี้: (1) ระบบสูญญากาศเคลือบควรมีอัตราการปั๊มที่ใหญ่เพียงพอ ซึ่งไม่เพียงแต่จะต้องสูบก๊าซที่ปล่อยออกมาจากพื้นผิวและวัสดุที่ระเหยและส่วนประกอบในสูญญากาศออกไปอย่างรวดเร็วเท่านั้น...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบ PVD สำหรับจิวเวลรี่
เครื่องเคลือบ PVD สำหรับเครื่องประดับใช้กระบวนการที่เรียกว่า Physical Vapor Deposition (PVD) เพื่อเคลือบเครื่องประดับให้มีเนื้อบางแต่ทนทาน กระบวนการนี้เกี่ยวข้องกับการใช้โลหะแข็งที่มีความบริสุทธิ์สูงซึ่งจะระเหยในสภาพแวดล้อมสุญญากาศ จากนั้นไอโลหะที่ได้จะผ่านกระบวนการเคลือบ PVD...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD แบบยืดหยุ่นขนาดเล็ก
ข้อดีหลักประการหนึ่งของเครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD แบบยืดหยุ่นขนาดเล็กคือความคล่องตัว เครื่องเหล่านี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อรองรับขนาดและรูปร่างของวัสดุพิมพ์ที่หลากหลาย ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับกระบวนการผลิตขนาดเล็กหรือแบบกำหนดเอง นอกจากนี้ ยังมีขนาดกะทัดรัดและความยืดหยุ่นในการกำหนด...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องมือตัด เครื่องเคลือบสูญญากาศ
ในอุตสาหกรรมการผลิตที่มีการเปลี่ยนแปลงอยู่ตลอดเวลา เครื่องมือตัดมีบทบาทสำคัญในการกำหนดรูปร่างของผลิตภัณฑ์ที่เราใช้ทุกวัน ตั้งแต่การตัดที่แม่นยำในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศไปจนถึงการออกแบบที่ซับซ้อนในสาขาการแพทย์ ความต้องการเครื่องมือตัดคุณภาพสูงยังคงเพิ่มขึ้นอย่างต่อเนื่อง เพื่อตอบสนองความต้องการนี้ สหรัฐอเมริกา...อ่านเพิ่มเติม -
ผลกระทบของการโจมตีด้วยไอออนบนอินเทอร์เฟซของชั้นฟิล์ม/พื้นผิว
เมื่อการสะสมของอะตอมของเมมเบรนเริ่มขึ้น การโจมตีด้วยไอออนจะมีผลต่อไปนี้ต่ออินเทอร์เฟซของเมมเบรน/สารตั้งต้น (1) การผสมทางกายภาพ เนื่องจากการฉีดไอออนพลังงานสูง การสปัตเตอร์ของอะตอมที่สะสม และการฉีดแรงสะท้อนกลับของอะตอมบนพื้นผิว และปรากฏการณ์การชนกันแบบคาสเคด...อ่านเพิ่มเติม -
การฟื้นคืนชีพและการพัฒนาการเคลือบแบบสปัตเตอร์สูญญากาศ
การสปัตเตอร์คือปรากฏการณ์ที่อนุภาคพลังงานสูง (โดยปกติคือไอออนบวกของก๊าซ) กระทบกับพื้นผิวของของแข็ง (ด้านล่างเรียกว่าวัสดุเป้าหมาย) ทำให้อะตอม (หรือโมเลกุล) บนพื้นผิวของวัสดุเป้าหมายหลุดออกมา ปรากฏการณ์นี้ถูกค้นพบโดย Grove ในปี พ.ศ. 2385 เมื่อ...อ่านเพิ่มเติม -
ลักษณะการเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ บทที่ 2
ลักษณะเฉพาะของการเคลือบด้วยแมกนีตรอนสปัตเตอร์ (3) การสปัตเตอร์พลังงานต่ำ เนื่องจากแรงดันไฟฟ้าแคโทดต่ำที่ใช้กับเป้าหมาย พลาสมาจึงถูกผูกไว้ด้วยสนามแม่เหล็กในพื้นที่ใกล้แคโทด จึงยับยั้งอนุภาคที่มีประจุพลังงานสูงที่ด้านข้างของพื้นผิวที่ยิงคน...อ่านเพิ่มเติม -
ลักษณะการเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์ บทที่ 1
เมื่อเปรียบเทียบกับเทคโนโลยีการเคลือบอื่นๆ การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์แมกนีตรอนจะมีลักษณะเฉพาะดังต่อไปนี้: พารามิเตอร์การทำงานมีช่วงการปรับแบบไดนามิกที่กว้างสำหรับความเร็วในการเคลือบและความหนา (สถานะของพื้นที่เคลือบ) ซึ่งสามารถควบคุมได้ง่าย และไม่มีการออกแบบ...อ่านเพิ่มเติม -
เทคโนโลยีการสะสมด้วยความช่วยเหลือของลำแสงไอออน
เทคโนโลยีการเคลือบผิวด้วยความช่วยเหลือของลำแสงไอออนคือเทคโนโลยีการฉีดลำแสงไอออนและการเคลือบด้วยไอที่ผสมผสานกับเทคโนโลยีการประมวลผลคอมโพสิตบนพื้นผิวไอออน ในกระบวนการปรับเปลี่ยนพื้นผิวของวัสดุที่ฉีดไอออน ไม่ว่าจะเป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์หรือวัสดุวิศวกรรม มันคือ...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบสูญญากาศทดลอง
ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมา มีความก้าวหน้าและความก้าวหน้าที่สำคัญในด้านเทคโนโลยีการเคลือบสูญญากาศ ซึ่งเป็นไปได้ด้วยความพยายามอย่างไม่รู้จักเหน็ดเหนื่อยในการทดลองและการวิจัย ในบรรดาเครื่องจักรจำนวนมากที่ใช้ในสาขานี้ เครื่องเคลือบสูญญากาศเชิงทดลองถือเป็นเครื่องมือสำคัญในการบรรลุผลสำเร็จ...อ่านเพิ่มเติม -
หลักการทำงานของเทคโนโลยี CVD
เทคโนโลยี CVD มีพื้นฐานมาจากปฏิกิริยาเคมี ปฏิกิริยาที่สารตั้งต้นอยู่ในสถานะก๊าซและผลิตภัณฑ์หนึ่งอยู่ในสถานะของแข็ง มักเรียกว่าปฏิกิริยา CVD ดังนั้นระบบปฏิกิริยาเคมีของ CVD จึงต้องเป็นไปตามเงื่อนไขสามประการต่อไปนี้ (1) ที่อุณหภูมิการสะสม...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบเลนส์แว่นตาแบบสูญญากาศ
ในโลกยุคปัจจุบันที่เต็มไปด้วยความเร่งรีบ แว่นตาได้กลายมาเป็นส่วนสำคัญในชีวิตของเรา เครื่องประดับที่ดูเรียบง่ายเหล่านี้ได้เปลี่ยนจากสิ่งจำเป็นกลายมาเป็นเครื่องประดับที่แสดงถึงแฟชั่น อย่างไรก็ตาม หลายคนไม่ทราบถึงขั้นตอนที่ซับซ้อนในการประกอบเลนส์แว่นตาที่สมบูรณ์แบบ นี่คือ...อ่านเพิ่มเติม
