Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd မှ ကြိုဆိုပါတယ်။
စက်မှုသတင်း
-
AF Thin Film Evaporation Optical PVD Vacuum Coating Machine
AF Thin Film Evaporation Optical PVD ဖုန်စုပ်စက်သည် Physical Vapor Deposition (PVD) လုပ်ငန်းစဉ်ကို အသုံးပြု၍ မိုဘိုင်းစက်ပစ္စည်းများတွင် ပါးလွှာသော ဖလင်အပေါ်ယံလွှာများကို အသုံးချရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အစိုင်အခဲပစ္စည်းများ အငွေ့ပျံပြီး စွန့်ပစ်သည့် coating chamber အတွင်း လေဟာနယ်တစ်ခု ဖန်တီးခြင်း ပါဝင်ပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
အလူမီနီယံ ငွေဖုန်စုပ်မှန် ထုတ်လုပ်မှုစက်
အလူမီနီယံငွေဖုန်စုပ်စက်သည် မှန်လုပ်ခြင်းစက်သည် ၎င်း၏အဆင့်မြင့်နည်းပညာနှင့် တိကျသောအင်ဂျင်နီယာဖြင့် ကြေးမုံထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းကို တော်လှန်ပြောင်းလဲခဲ့သည်။ ခေတ်မီဆန်းသစ်သော ဤစက်သည် ဖန်မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အလူမီနီယမ်ငွေကို ပါးလွှာသော အကာအရံဖြင့် ပုံဖော်ထားပြီး အရည်အသွေးမြင့်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Optical ဖုန်စုပ်စက်
optical vacuum metallizer သည် မျက်နှာပြင်အပေါ်ယံလွှာလုပ်ငန်းကို တော်လှန်ပြောင်းလဲခဲ့သည့် ခေတ်မီနည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဤအဆင့်မြင့်စက်သည် optical vacuum metallization ဟုခေါ်သော သတ္တုလွှာအလွှာကို အလွှာအမျိုးမျိုးတွင် အသုံးချကာ အလွန်ရောင်ပြန်ဟပ်ပြီး တာရှည်ခံသော မျက်နှာပြင်ကို ဖန်တီးပေးပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပလာစမာကို မြှင့်တင်ထားသော ဓာတုအငွေ့များ ဖြစ်ထွန်းမှု အခန်း ၂
ဓာတုဒြပ်စင်အများစုသည် ၎င်းတို့ကို ဓာတုအုပ်စုများနှင့် ပေါင်းစပ်ခြင်းဖြင့် အငွေ့ပျံနိုင်သည်၊ ဥပမာ- Si သည် SiH4 အဖြစ် H နှင့် ဓာတ်ပြုပြီး Al သည် CH3 နှင့် Al (CH3) အဖြစ်ပေါင်းစပ်သည်။ Thermal CVD လုပ်ငန်းစဉ်တွင်၊ အထက်ဖော်ပြပါ ဓာတ်ငွေ့များသည် အပူပေးထားသော အလွှာကို ဖြတ်သန်းကာ ပြန်လည်ဖွဲ့စည်းကာ အပူစွမ်းအင်အချို့ကို စုပ်ယူပါသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပလာစမာ မြှင့်တင်ထားသော ဓာတုအငွေ့များ ပေါက်ရောက်ခြင်း အခန်း ၁
Chemical Vapor Deposition (CVD)။ အမည်ဖော်ပြသည့်အတိုင်း၊ ၎င်းသည် အက်တမ်နှင့် စပ်ကြားမော်လီကျူးဓာတုတုံ့ပြန်မှုများဖြင့် အစိုင်အခဲရုပ်ရှင်များကို ထုတ်လုပ်ရန် ဓာတ်ငွေ့ရှေ့ပြေးဓာတ်ပြုခြင်းကို အသုံးပြုသည့် နည်းပညာတစ်ခုဖြစ်သည်။ PVD နှင့်မတူဘဲ၊ CVD လုပ်ငန်းစဉ်ကို အများအားဖြင့် ပိုမိုမြင့်မားသောဖိအား (လေဟာနယ်) ဝန်းကျင်တွင် လုပ်ဆောင်လေ့ရှိသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပါးလွှာသော ဖလင်စက်များ၏ အရည်အသွေးကို ထိခိုက်စေသော လုပ်ငန်းစဉ်များနှင့် လုပ်ဆောင်မှု ယန္တရားများ (အပိုင်း ၂)
3. အမြှေးပါးများ ကြီးထွားမှုအတွက် အရေးကြီးသော အခြေအနေများထဲမှ တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် အမြှေးပါးအက်တမ်များ သို့မဟုတ် မော်လီကျူးများအတွက် အပိုစွမ်းအင်ကို ဖြည့်စွက်ပေးကာ အဓိကအားဖြင့် အမြှေးပါးဖွဲ့စည်းပုံ၊ agglutination coefficient၊ expansion coefficient နှင့် aggregat...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ပါးလွှာသော ဖလင်စက်များ၏ အရည်အသွေးကို ထိခိုက်စေသော လုပ်ငန်းစဉ်များနှင့် ယန္တရားများ (အပိုင်း ၁)
ဖလင်အလွှာပါးလွှာသော ဖလင်ကိရိယာများ ထုတ်လုပ်မှုကို လေဟာနယ်ခန်းတွင် လုပ်ဆောင်ပြီး ဖလင်အလွှာ၏ ကြီးထွားမှုသည် အဏုကြည့်စနစ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ သို့သော်လည်း လက်ရှိအချိန်တွင်၊ တိုက်ရိုက်ထိန်းချုပ်နိုင်သော မက်ခရိုစကုပ်လုပ်ငန်းစဉ်များသည် အရည်အသွေးနှင့် သွယ်ဝိုက်ဆက်စပ်မှုရှိသည့် မက်ခရိုစကုပ်အချက်အချို့ဖြစ်သည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
အငွေ့ပျံခြင်းနည်းပညာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသမိုင်းမိတ်ဆက်
ပါးလွှာသောဖလင်တစ်ခုရရှိရန် မြင့်မားသောလေဟာနယ်ပတ်ဝန်းကျင်တွင် အစိုင်အခဲပစ္စည်းများကို အပူပေးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို sublimate သို့မဟုတ် အငွေ့ပျံစေရန်နှင့် ၎င်းတို့အား ပါးလွှာသောအလွှာတစ်ခုပေါ်တွင် အပ်နှံခြင်းအား Vacuum evaporation coating (ရေငွေ့ပျံအလွှာအဖြစ် ရည်ညွှန်းသည်)။ လေဟာနယ်အငွေ့ပျံမှုဖြင့် ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များပြင်ဆင်မှုသမိုင်း...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ITO Coating မိတ်ဆက်
Indium Tin Oxide (Indium Tin Oxide, ITO ဟုရည်ညွှန်းသည်) သည် ကျယ်ပြန့်သော ကြိုးဝိုင်းကွာဟမှု၊ ပြင်းထန်စွာ doped n-type ဆီမီးကွန်ဒတ်တာ ပစ္စည်းများ၊ မြင့်မားသော အလင်းပို့လွှတ်နိုင်စွမ်းနှင့် ခံနိုင်ရည်နည်းသော လက္ခဏာများ ပါရှိသောကြောင့် ဆိုလာဆဲလ်များ၊ ပြားချပ်ချပ်ပြကွက်များ၊ လျှပ်စစ်ပြတင်းပေါက်များ၊ inorganic နှင့် orga...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဓာတ်ခွဲခန်းဖုန်စုပ်စက်
ဓာတ်ခွဲခန်းဖုန်စုပ်စက်များသည် ပါးလွှာသောဖလင်များကို ထုတ်ယူခြင်းနှင့် မျက်နှာပြင်ပြုပြင်ခြင်းနယ်ပယ်တွင် အရေးကြီးသောကိရိယာများဖြစ်သည်။ ဤအဆင့်မြင့်စက်ကိရိယာသည် ပါးလွှာသောဖလင်များကို အလွှာများတွင် တိကျစွာနှင့် အညီအမျှအသုံးပြုရန် ဒီဇိုင်းထုတ်ထားသည်။ လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အရည်ဖျော်ရည် သို့မဟုတ် ဆပ်စ...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Ion beam သည် အပ်နှံမှုမုဒ်နှင့် ၎င်း၏ စွမ်းအင်ရွေးချယ်မှုကို အထောက်အကူပြုသည်။
ion beam-assisted deposition ၏ အဓိကမုဒ်နှစ်ခုရှိပြီး၊ တစ်ခုမှာ dynamic hybrid ဖြစ်သည်။ နောက်တစ်ခုက static hybrid ဖြစ်ပါတယ်။ ကြီးထွားမှုဖြစ်စဉ်တွင် ရုပ်ရှင်ကို ရည်ညွှန်းသည်မှာ ယခင်အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်းနှင့် ဖလင်၏ စွမ်းအင်နှင့် အလင်းတန်းတစ်ခုဖြင့် အမြဲလိုက်ပါသွားပါသည်။ နောက်တစ်ခုကို မြေပြင်ပေါ်မှာ ကြိုတင်တင်ထားပါတယ်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Ion Beam Deposition နည်းပညာ
① Ion beam assisted deposition နည်းပညာသည် ဖလင်နှင့် အလွှာကြားတွင် ခိုင်ခံ့သော တွယ်တာမှုဖြင့် လက္ခဏာရပ်ဖြစ်ပြီး ဖလင်အလွှာသည် အလွန်အားကောင်းသည်။ စမ်းသပ်ချက်များအရ ion beam assisted deposition of adhesion သည် thermal vapor deposition ၏ adhesion ထက် အဆပေါင်း ရာနှင့်ချီ၍ များပြားလာသည်..။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Vacuum Ion Coating ၊
Vacuum ion coating (အိုင်းယွန်း plating ဟုရည်ညွှန်းသည်) သည် 1963 ခုနှစ်တွင် United States မှ Somdia ကုမ္ပဏီ DM Mattox မှအဆိုပြုခဲ့ပြီး 1970s တွင် မျက်နှာပြင်ကုသမှုနည်းပညာအသစ်၏ လျင်မြန်စွာ ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်လာခဲ့သည်။ ၎င်းသည် ဖလင်ကို လေဟာနယ်တစ်ခုတွင် အငွေ့ပျံသည့်ရင်းမြစ် သို့မဟုတ် sputtering ပစ်မှတ်ကို အသုံးပြုခြင်းအား ရည်ညွှန်းသည်။ပိုပြီးဖတ်ပါ -
ဖလင်အလွှာကို coated glass ဖြင့်ဖယ်ရှားနည်း
Coated Glass ကို အငွေ့ပျံစေသော coated၊ magnetron sputtering coated နှင့် in-line vapor deposited coated glass ဟူ၍ ပိုင်းခြားထားပါသည်။ ဇာတ်ကားပြင်ဆင်ပုံခြင်း မတူညီသောကြောင့် ရုပ်ရှင်ကို ဖယ်ရှားသည့်နည်းလမ်းမှာလည်း ကွဲပြားပါသည်။ အကြံပြုချက် 1၊ ဟိုက်ဒရိုကလိုရစ်အက်ဆစ်နှင့် ဇင့်မှုန့်ကို ပွတ်တိုက်ခြင်းနှင့် ပွတ်တိုက်ခြင်းအတွက်...ပိုပြီးဖတ်ပါ -
Coatings ဖြတ်တောက်ခြင်း ကိရိယာ၏ အခန်းကဏ္ဍ- အခန်း ၂
အလွန်မြင့်မားသော အပူချိန်တွင်ပင်၊ ဖြတ်တောက်သည့်ကိရိယာ၏ အသုံးပြုမှုသက်တမ်းကို အပေါ်ယံပိုင်းဖြင့် သက်တမ်းတိုးနိုင်သဖြင့် စက်ပစ္စည်းကုန်ကျစရိတ်ကို သိသိသာသာ လျှော့ချနိုင်သည်။ ထို့အပြင်၊ ဖြတ်တောက်သည့်ကိရိယာအပေါ်ယံပိုင်းသည် ချောဆီများလိုအပ်မှုကို လျှော့ချနိုင်သည်။ ပစ္စည်းကုန်ကျစရိတ်ကို လျှော့ချပေးရုံသာမက ပတ်ဝန်းကျင်ကိုပါ ကာကွယ်ပေးပါတယ်...ပိုပြီးဖတ်ပါ
