Selamat datang ke Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Berita
-
Jenis Teknologi CVD
Secara umum, CVD boleh dibahagikan secara kasar kepada dua jenis: satu adalah dalam produk tunggal pada pemendapan wap substrat lapisan epitaxial kristal tunggal, iaitu CVD sempit; yang lain ialah pemendapan filem nipis pada substrat, termasuk filem berbilang produk dan amorf. Menurut t...Baca lagi -
Spektrum Transmisi dan Pantulan dan Warna Filem Nipis Optik Bab 2
Daripada ini kami akan menjelaskan: (1) peranti filem nipis, penghantaran, spektrum pemantulan dan warna hubungan yang sepadan antara, iaitu, spektrum warna; sebaliknya, hubungan ini "tidak unik", dimanifestasikan sebagai pelbagai spektrum warna. Oleh itu, filem '...Baca lagi -
Spektrum Transmisi dan Pantulan dan Warna Filem Nipis Optik Bab 1
Spektrum penghantaran dan pemantulan dan warna filem nipis optik adalah dua ciri peranti filem nipis yang wujud pada masa yang sama. 1. Spektrum penghantaran dan pemantulan ialah hubungan antara pemantulan dan pemancaran peranti filem nipis optik dengan panjang gelombang. Ia adalah c...Baca lagi -
Mesin Salutan Vakum PVD Optik Penyejatan Filem Nipis AF
Mesin salutan vakum PVD Optik Penyejatan Filem Nipis AF direka untuk menggunakan salutan filem nipis pada peranti mudah alih menggunakan proses Pemendapan Wap Fizikal (PVD). Proses ini melibatkan mewujudkan persekitaran vakum dalam ruang salutan di mana bahan pepejal disejat dan kemudian...Baca lagi -
Mesin pembuatan cermin salutan vakum perak aluminium
Mesin membuat cermin salutan vakum perak aluminium telah merevolusikan industri pembuatan cermin dengan teknologi canggih dan kejuruteraan ketepatannya. Mesin tercanggih ini direka bentuk untuk menggunakan salutan nipis perak aluminium pada permukaan kaca, menghasilkan...Baca lagi -
Mesin salutan vakum optik
Metallizer vakum optik ialah teknologi terkini yang telah merevolusikan industri salutan permukaan. Mesin canggih ini menggunakan proses yang dipanggil metalisasi vakum optik untuk menggunakan lapisan nipis logam pada pelbagai substrat, menghasilkan sur...Baca lagi -
Pemendapan Wap Kimia Dipertingkat Plasma Bab 2
Kebanyakan unsur kimia boleh diwap dengan menggabungkannya dengan kumpulan kimia, contohnya Si bertindak balas dengan H untuk membentuk SiH4, dan Al bergabung dengan CH3 untuk membentuk Al(CH3). Dalam proses CVD terma, gas di atas menyerap sejumlah tenaga haba semasa ia melalui substrat yang dipanaskan dan membentuk semula...Baca lagi -
Pemendapan Wap Kimia Dipertingkat Plasma Bab 1
Pemendapan Wap Kimia (CVD). Seperti namanya, ia adalah teknik yang menggunakan bahan tindak balas prekursor gas untuk menghasilkan filem pepejal melalui tindak balas kimia atom dan antara molekul. Tidak seperti PVD, proses CVD kebanyakannya dijalankan dalam persekitaran tekanan yang lebih tinggi (vakum yang lebih rendah), dengan...Baca lagi -
Elemen Proses dan Mekanisme tindakan yang menjejaskan kualiti peranti filem nipis (Bahagian 2)
3. Pengaruh suhu substrat Suhu substrat adalah salah satu syarat penting untuk pertumbuhan membran. Ia menyediakan tambahan tenaga tambahan kepada atom atau molekul membran, dan terutamanya mempengaruhi struktur membran, pekali aglutinasi, pekali pengembangan dan agregat...Baca lagi -
Faktor dan Mekanisme Proses yang mempengaruhi kualiti peranti filem nipis (Bahagian 1)
Pembuatan peranti filem nipis optik dijalankan dalam ruang vakum, dan pertumbuhan lapisan filem adalah proses mikroskopik. Walau bagaimanapun, pada masa ini, proses makroskopik yang boleh dikawal secara langsung adalah beberapa faktor makroskopik yang mempunyai hubungan tidak langsung dengan kualiti...Baca lagi -
Pengenalan sejarah pembangunan teknologi penyejatan
Proses memanaskan bahan pepejal dalam persekitaran vakum tinggi untuk menyublimkan atau menyejat dan memendapkannya pada substrat tertentu untuk mendapatkan filem nipis dikenali sebagai salutan penyejatan vakum (dirujuk sebagai salutan sejatan). Sejarah penyediaan filem nipis dengan penyejatan vakum...Baca lagi -
Pengenalan Salutan ITO
Indium tin oksida (Indium Tin Oxide, dirujuk sebagai ITO) ialah jurang jalur lebar, bahan semikonduktor jenis-n yang didopkan banyak, dengan penghantaran cahaya yang boleh dilihat tinggi dan ciri kerintangan rendah, dan dengan itu digunakan secara meluas dalam sel suria, paparan panel rata, tingkap elektrokromik, bukan organik dan organ...Baca lagi -
Mesin salutan putaran vakum makmal
Pelapis putaran vakum makmal adalah alat penting dalam bidang pemendapan filem nipis dan pengubahsuaian permukaan. Peralatan canggih ini direka untuk menggunakan filem nipis pelbagai bahan dengan tepat dan sekata pada substrat. Proses ini melibatkan penggunaan larutan cecair atau su...Baca lagi -
Mod pemendapan dibantu pancaran ion dan pemilihan tenaganya
Terdapat dua mod utama pemendapan berbantukan pancaran ion, satu ialah hibrid dinamik; satu lagi adalah hibrid statik. Yang pertama merujuk kepada filem dalam proses pertumbuhan sentiasa disertai oleh tenaga tertentu dan arus rasuk pengeboman ion dan filem; yang terakhir dipra-depositkan pada permukaan ke...Baca lagi -
Teknologi Pemendapan Rasuk Ion
① Teknologi pemendapan dibantu rasuk ion dicirikan oleh lekatan yang kuat antara filem dan substrat, lapisan filem sangat kuat. Eksperimen telah menunjukkan bahawa: pancaran ion pemendapan dibantu lekatan daripada lekatan pemendapan wap haba meningkat beberapa kali kepada ratusan ...Baca lagi
