Pengenalan: Dalam dunia kejuruteraan permukaan termaju, Pemendapan Wap Fizikal (PVD) muncul sebagai kaedah pilihan untuk meningkatkan prestasi dan ketahanan pelbagai bahan. Pernahkah anda tertanya-tanya bagaimana teknik canggih ini berfungsi? Hari ini, kita akan mendalami mekanik P yang rumit...
Dalam dunia yang pantas pada masa kini, di mana kandungan visual mempunyai banyak pengaruh, teknologi salutan optik memainkan peranan penting dalam meningkatkan kualiti pelbagai paparan. Daripada telefon pintar hingga skrin TV, salutan optik telah merevolusikan cara kita melihat dan mengalami kandungan visual. ...
Salutan percikan magnetron dijalankan dalam nyahcas cahaya, dengan ketumpatan arus nyahcas yang rendah dan ketumpatan plasma yang rendah dalam ruang salutan. Ini menjadikan teknologi percikan magnetron mempunyai kelemahan seperti daya ikatan substrat filem yang rendah, kadar pengionan logam yang rendah dan kadar pemendapan yang rendah...
1. Bermanfaat untuk percikan dan penyaduran filem penebat. Perubahan pesat dalam kekutuban elektrod boleh digunakan untuk memercikkan sasaran penebat secara langsung untuk mendapatkan filem penebat. Jika sumber kuasa DC digunakan untuk memercikkan dan memendapkan filem penebat, filem penebat akan menyekat ion positif daripada memasuki...
1. Proses salutan penyejatan vakum merangkumi penyejatan bahan filem, pengangkutan atom wap dalam vakum tinggi, dan proses nukleasi dan pertumbuhan atom wap pada permukaan bahan kerja. 2. Tahap vakum pemendapan salutan penyejatan vakum adalah tinggi, secara amnya...
TiN ialah salutan keras terawal yang digunakan dalam alat pemotong, dengan kelebihan seperti kekuatan tinggi, kekerasan tinggi, dan rintangan haus. Ia merupakan bahan salutan keras perindustrian pertama dan digunakan secara meluas, digunakan secara meluas dalam alat bersalut dan acuan bersalut. Salutan keras TiN pada mulanya dimendapkan pada suhu 1000 ℃...
Plasma bertenaga tinggi boleh membedil dan menyinari bahan polimer, memutuskan rantai molekulnya, membentuk kumpulan aktif, meningkatkan tenaga permukaan dan menghasilkan pengetsaan. Rawatan permukaan plasma tidak menjejaskan struktur dalaman dan prestasi bahan pukal, tetapi hanya menjejaskan dengan ketara...
Proses salutan ion sumber arka katodik pada asasnya sama seperti teknologi salutan lain, dan beberapa operasi seperti memasang bahan kerja dan menyedut habuk tidak lagi diulang. 1. Pembersihan bahan kerja dengan pengeboman Sebelum salutan, gas argon dimasukkan ke dalam ruang salutan dengan...
1. Ciri-ciri aliran elektron cahaya arka Ketumpatan aliran elektron, aliran ion, dan atom neutral bertenaga tinggi dalam plasma arka yang dihasilkan oleh nyahcas arka adalah jauh lebih tinggi daripada nyahcas cahaya. Terdapat lebih banyak ion gas dan ion logam yang terion, atom bertenaga tinggi tereksitasi, dan pelbagai kumpulan aktif...
1) Pengubahsuaian permukaan plasma terutamanya merujuk kepada pengubahsuaian tertentu pada kertas, filem organik, tekstil dan gentian kimia. Penggunaan plasma untuk pengubahsuaian tekstil tidak memerlukan penggunaan pengaktif, dan proses rawatan tidak merosakkan ciri-ciri gentian itu sendiri. ...
Aplikasi filem nipis optik sangat luas, bermula daripada cermin mata, kanta kamera, kamera telefon bimbit, skrin LCD untuk telefon bimbit, komputer dan televisyen, lampu LED, peranti biometrik, hinggalah tingkap penjimatan tenaga dalam kereta dan bangunan, serta instrumen perubatan,...
1. Jenis filem dalam paparan maklumat Selain filem nipis TFT-LCD dan OLED, paparan maklumat juga merangkumi filem elektrod pendawaian dan filem elektrod piksel lutsinar dalam panel paparan. Proses salutan merupakan proses teras paparan TFT-LCD dan OLED. Dengan program berterusan...
Semasa salutan penyejatan, nukleasi dan pertumbuhan lapisan filem adalah asas pelbagai teknologi salutan ion 1. Nukleasi Dalam teknologi salutan penyejatan vakum, selepas zarah lapisan filem disejat dari sumber penyejatan dalam bentuk atom, ia terbang terus ke...
1. Bias bahan kerja adalah rendah Disebabkan oleh penambahan peranti untuk meningkatkan kadar pengionan, ketumpatan arus nyahcas meningkat, dan voltan bias dikurangkan kepada 0.5~1kV. Pecutan balik yang disebabkan oleh pengeboman ion bertenaga tinggi yang berlebihan dan kesan kerosakan pada permukaan bahan kerja...
1) Sasaran silinder mempunyai kadar penggunaan yang lebih tinggi daripada sasaran satah. Dalam proses salutan, sama ada sasaran semburan silinder jenis magnet berputar atau tiub berputar, semua bahagian permukaan tiub sasaran terus melalui kawasan semburan yang dijana di hadapan...