ຍິນດີຕ້ອນຮັບ Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
-
AF Thin Film Evaporation Optical PVD Vacuum Coating Machine
AF Thin Film Evaporation Optical PVD vacuum coating machine is designed to use thin film coating to mobile devices using the Physical Vapor Deposition (PVD). ຂະບວນການດັ່ງກ່າວກ່ຽວຂ້ອງກັບການສ້າງສະພາບແວດລ້ອມສູນຍາກາດພາຍໃນຫ້ອງເຄືອບບ່ອນທີ່ວັດສະດຸແຂງຖືກລະເຫີຍແລະຫຼັງຈາກນັ້ນ deposi ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
Aluminum silver vacuum coating mirror machine manufacturing
ເຄື່ອງເຮັດກະຈົກເງິນອະລູມິນຽມເຄືອບສູນຍາກາດໄດ້ປະຕິວັດອຸດສາຫະກໍາການຜະລິດກະຈົກດ້ວຍເຕັກໂນໂລຊີກ້າວຫນ້າທາງດ້ານແລະວິສະວະກໍາຄວາມແມ່ນຍໍາ. ເຄື່ອງທີ່ທັນສະໃໝນີ້ຖືກອອກແບບມາເພື່ອໃຊ້ການເຄືອບບາງໆຂອງເງິນອາລູມິນຽມໃສ່ຫນ້າແກ້ວ, ສ້າງຄຸນນະພາບສູງ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ເຄື່ອງເຄືອບສູນຍາກາດ optical
ເຄື່ອງດູດຝຸ່ນ optical ເປັນເຕັກໂນໂລຊີທີ່ທັນສະໄຫມທີ່ໄດ້ປະຕິວັດອຸດສາຫະກໍາການເຄືອບດ້ານ. ເຄື່ອງຈັກທີ່ກ້າວຫນ້ານີ້ໃຊ້ຂະບວນການທີ່ເອີ້ນວ່າໂລຫະສູນຍາກາດ optical ເພື່ອສະຫມັກຂໍເອົາຊັ້ນບາງໆຂອງໂລຫະໄປສູ່ຊັ້ນຍ່ອຍຕ່າງໆ, ສ້າງຄວາມສະທ້ອນສູງແລະທົນທານ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
Plasma Enhanced Vapor Deposition ສານເຄມີ ບົດທີ 2
ອົງປະກອບທາງເຄມີສ່ວນໃຫຍ່ສາມາດເປັນໄອໄດ້ໂດຍການລວມພວກມັນກັບກຸ່ມເຄມີ, ເຊັ່ນ Si reacts ກັບ H ເພື່ອປະກອບເປັນ SiH4, ແລະ Al ສົມທົບກັບ CH3 ເພື່ອປະກອບເປັນ Al (CH3). ໃນຂະບວນການ CVD ຄວາມຮ້ອນ, ທາດອາຍຜິດຂ້າງເທິງດູດເອົາພະລັງງານຄວາມຮ້ອນຈໍານວນທີ່ແນ່ນອນຍ້ອນວ່າພວກມັນຜ່ານຊັ້ນຍ່ອຍທີ່ມີຄວາມຮ້ອນແລະປະກອບເປັນ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
plasma Enhanced vapor Deposition ສານເຄມີ ບົດທີ 1
ການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD). ດັ່ງທີ່ຊື່ຫມາຍເຖິງ, ມັນແມ່ນເຕັກນິກທີ່ນໍາໃຊ້ທາດປະຕິກິລິຍາທາດອາຍພິດກ່ອນການສ້າງຮູບເງົາແຂງໂດຍປະຕິກິລິຍາທາງເຄມີຂອງປະລໍາມະນູແລະລະຫວ່າງໂມເລກຸນ. ບໍ່ເຫມືອນກັບ PVD, ຂະບວນການ CVD ສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນດໍາເນີນຢູ່ໃນສະພາບແວດລ້ອມທີ່ມີຄວາມກົດດັນສູງ (ສູນຍາກາດຕ່ໍາ), wi ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ອົງປະກອບຂະບວນການແລະກົນໄກການປະຕິບັດຜົນກະທົບຄຸນນະພາບຂອງອຸປະກອນຮູບເງົາບາງ (ພາກທີ 2)
3. ອິດທິພົນຂອງອຸນຫະພູມ substrate ອຸນຫະພູມ substrate ແມ່ນຫນຶ່ງໃນເງື່ອນໄຂທີ່ສໍາຄັນສໍາລັບການຈະເລີນເຕີບໂຕຂອງເຍື່ອ. ມັນສະຫນອງການເສີມພະລັງງານເພີ່ມເຕີມຕໍ່ກັບອະຕອມຂອງເຍື່ອຫຼືໂມເລກຸນ, ແລະສ່ວນໃຫຍ່ແມ່ນຜົນກະທົບຕໍ່ໂຄງສ້າງເຍື່ອ, ຄ່າສໍາປະສິດ agglutination, ຄ່າສໍາປະສິດການຂະຫຍາຍຕົວແລະການລວບລວມ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ປັດໄຈຂະບວນການແລະກົນໄກຜົນກະທົບຄຸນນະພາບຂອງອຸປະກອນຮູບເງົາບາງ (ພາກທີ 1)
ການຜະລິດອຸປະກອນຮູບເງົາບາງ optical ແມ່ນດໍາເນີນຢູ່ໃນຫ້ອງສູນຍາກາດ, ແລະການເຕີບໃຫຍ່ຂອງຊັ້ນຮູບເງົາແມ່ນຂະບວນການ microscopic. ຢ່າງໃດກໍຕາມ, ໃນປັດຈຸບັນ, ຂະບວນການ macroscopic ທີ່ສາມາດຄວບຄຸມໂດຍກົງແມ່ນບາງປັດໃຈ macroscopic ທີ່ມີຄວາມສໍາພັນທາງອ້ອມກັບ quali ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ການແນະນຳປະຫວັດການພັດທະນາເຕັກໂນໂລຊີການລະເຫີຍ
ຂະບວນການໃຫ້ຄວາມຮ້ອນຂອງວັດສະດຸແຂງໃນສະພາບແວດລ້ອມສູນຍາກາດສູງເພື່ອ sublimate ຫຼື evaporate ແລະຝາກໃຫ້ເຂົາເຈົ້າກ່ຽວກັບ substrate ສະເພາະເພື່ອໃຫ້ໄດ້ຮັບເປັນຮູບເງົາບາງໆເປັນທີ່ຮູ້ຈັກເປັນ vacuum evaporation coating (ເອີ້ນວ່າການເຄືອບ evaporation). ປະຫວັດຂອງການກະກຽມຮູບເງົາບາງໆໂດຍ vacuum evapora...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ການແນະນໍາການເຄືອບ ITO
Indium tin oxide (Indium Tin Oxide, ເອີ້ນວ່າ ITO) ແມ່ນຊ່ອງຫວ່າງກວ້າງ, ວັດສະດຸ semiconductor n-type doped ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ, ມີການຖ່າຍທອດແສງສະຫວ່າງທີ່ເຫັນໄດ້ຊັດເຈນແລະຄຸນລັກສະນະຕ້ານທານຕໍ່າ, ແລະດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງຖືກນໍາໃຊ້ຢ່າງກວ້າງຂວາງໃນຈຸລັງແສງຕາເວັນ, ຈໍສະແດງຜົນຮາບພຽງ, ປ່ອງຢ້ຽມ electrochromic, ອະນົງຄະທາດແລະ orga ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ເຄື່ອງເຄືອບສູນຍາກາດໃນຫ້ອງທົດລອງ
ເຄື່ອງເຄືອບດິນເຜົາສູນຍາກາດໃນຫ້ອງທົດລອງແມ່ນເຄື່ອງມືທີ່ ສຳ ຄັນໃນຂະ ແໜງ ການຝາກຮູບເງົາບາງໆແລະການດັດແປງພື້ນຜິວ. ອຸປະກອນທີ່ກ້າວຫນ້ານີ້ໄດ້ຖືກອອກແບບເພື່ອນໍາໃຊ້ຮູບເງົາບາງໆຂອງວັດສະດຸຕ່າງໆຢ່າງຖືກຕ້ອງແລະເທົ່າທຽມກັນກັບຊັ້ນຍ່ອຍ. ຂະບວນການກ່ຽວກັບການນໍາໃຊ້ຂອງການແກ້ໄຂຂອງແຫຼວຫຼື sus ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຮູບແບບການປ່ອຍຕົວຂອງການຊ່ວຍເຫຼືອ beam ion ແລະການຄັດເລືອກພະລັງງານຂອງຕົນ
ມີສອງໂຫມດຕົ້ນຕໍຂອງ ion beam-assisted deposition, ຫນຶ່ງແມ່ນປະສົມແບບເຄື່ອນໄຫວ; ອັນອື່ນແມ່ນປະສົມແບບຄົງທີ່. ອະດີດຫມາຍເຖິງຮູບເງົາໃນຂະບວນການຂະຫຍາຍຕົວແມ່ນສະເຫມີໄປໂດຍພະລັງງານສະເພາະໃດຫນຶ່ງແລະ beam ໃນປະຈຸບັນຂອງ bombardment ion ແລະຮູບເງົາ; ຫຼັງຈາກນັ້ນແມ່ນໄດ້ຝາກໄວ້ລ່ວງຫນ້າໃນດ້ານຂອງ th ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ເທກໂນໂລຍີການຝັງຕົວ Ion Beam
① ເທກໂນໂລຍີການຝັງຕົວຂອງ Ion beam ຊ່ວຍແມ່ນມີລັກສະນະການຍຶດຫມັ້ນລະຫວ່າງຮູບເງົາແລະ substrate, ຊັ້ນຂອງຮູບເງົາມີຄວາມເຂັ້ມແຂງຫຼາຍ. ການທົດລອງໄດ້ສະແດງໃຫ້ເຫັນວ່າ: ion beam ຊ່ວຍເຫຼືອຂອງການຕິດຕົວຂອງການຕິດຕັ້ງຂອງ vapor deposition ເພີ່ມຂຶ້ນຫຼາຍເທົ່າກັບຫຼາຍຮ້ອຍ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ການເຄືອບ Ion ສູນຍາກາດ
ການເຄືອບ ion ສູນຍາກາດ (ເອີ້ນວ່າເປັນ ion plating) ແມ່ນສະຫະລັດໃນ 1963 ບໍລິສັດ Somdia DM Mattox ສະເຫນີ, 1970s ໄດ້ພັດທະນາຢ່າງໄວວາຂອງເຕັກໂນໂລຊີການປິ່ນປົວພື້ນຜິວໃຫມ່. ມັນຫມາຍເຖິງການນໍາໃຊ້ແຫຼ່ງການລະເຫີຍຫຼືເປົ້າຫມາຍ sputtering ໃນບັນຍາກາດສູນຍາກາດເພື່ອໃຫ້ຮູບເງົາ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຊັ້ນຮູບເງົາໃນແກ້ວເຄືອບເອົາວິທີການ
ແກ້ວເຄືອບແມ່ນແບ່ງອອກເປັນ evaporative coated, magnetron sputtering coated ແລະ in-line vapor deposited glass coated. ເນື່ອງຈາກວິທີການຂອງການກະກຽມຮູບເງົາແມ່ນແຕກຕ່າງກັນ, ວິທີການເອົາຮູບເງົາແມ່ນແຕກຕ່າງກັນ. ຄໍາແນະນໍາ 1, ການນໍາໃຊ້ອາຊິດ hydrochloric ແລະຝຸ່ນສັງກະສີສໍາລັບການຂັດແລະ rubbi ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ພາລະບົດບາດຂອງການຕັດເຄື່ອງເຄືອບ - ບົດທີ 2
ເຖິງແມ່ນວ່າຢູ່ໃນອຸນຫະພູມການຕັດສູງຫຼາຍ, ຊີວິດການນໍາໃຊ້ຂອງເຄື່ອງມືຕັດສາມາດຂະຫຍາຍອອກດ້ວຍການເຄືອບ, ດັ່ງນັ້ນການຫຼຸດຜ່ອນຄ່າໃຊ້ຈ່າຍໃນເຄື່ອງຈັກຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ. ນອກຈາກນັ້ນ, ການເຄືອບເຄື່ອງມືຕັດສາມາດຫຼຸດຜ່ອນຄວາມຕ້ອງການຂອງນ້ໍາຫລໍ່ລື່ນ. ບໍ່ພຽງແຕ່ຫຼຸດຄ່າໃຊ້ຈ່າຍດ້ານວັດຖຸເທົ່ານັ້ນ, ຫາກຍັງຊ່ວຍປົກປັກຮັກສາສິ່ງແວດລ້ອມ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
