Salvete ad Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nuntii
-
Technologia Obductionis Opticae: Effectus Visuales Aucti
In mundo hodierno celerrimo, ubi res visuales magnam vim habent, technologia obductionis opticae magnum momentum agit in qualitate variarum ostentationum emendanda. A telephonis gestabilibus ad monitoria televisifica, obductiones opticae modum quo res visuales percipimus et experimur revolutionaverunt. ...Plura lege -
Augmentatio Tegumenti Magnetronis Sputtering cum Fonte Potentiae Arcus Exonerationis
Magnetron sputtering depositionis per emissionem luminis perficitur, cum densitate currentis emissionis humili et densitate plasmatis humili in camera depositionis. Hoc efficit ut technologia magnetron sputtering incommoda habeat, ut vim nexus substrati pelliculae humilem, ratem ionizationis metalli humilem, et ratem depositionis humilem...Plura lege -
Usus emissionis radiofrequentiae
1. Utile ad pelliculam insulatricem per pulverizationem et depositionem. Celeris mutatio polaritatis electrodi adhiberi potest ad scopos insulantes directe per pulverizationem ut pelliculae insulatrices obtineantur. Si fons potentiae DC ad pelliculam insulatricem per pulverizationem et depositionem adhibetur, pellicula insulatrix iones positivos ab ingressu prohibebit...Plura lege -
Proprietates technicae obductionis evaporationis vacui
1. Processus depositionis per evaporationem vacui evaporationem materiarum pellicularum, translationem atomorum vaporis in alto vacuo, et processum nucleationis et accretionis atomorum vaporis in superficie materiae operis comprehendit. 2. Gradus depositionis vacui depositionis per evaporationem vacui altus est, gener...Plura lege -
Genera tegumentorum durorum
TiN est prima materia obductiva dura in instrumentis secandis adhibita, cum commodis ut magna firmitas, alta duritia, et resistentia attritionis. Prima est materia obductiva dura industrializata et late adhibita, late in instrumentis obductis et formis obductis adhibita. Obductiva dura TiN initio ad 1000°C deposita est...Plura lege -
Characteres Modificationis Superficiei Plasmatis
Plasma altae energiae materias polymericas bombardare et irradiare potest, catenas moleculares frangens, greges activos formans, energiam superficialem augens, et corrosionem generans. Tractatio superficiei plasmatis structuram internam et functionem materiae principalis non afficit, sed tantum significanter...Plura lege -
Processus Obductionis Ionum Fontis Arcus Parvi
Processus obductionis ionum fontis arcus cathodici fere idem est ac aliarum technologiarum obductionis, et quaedam operationes, ut installatio partium laboris et purgatio vacuum, non amplius repetuntur. 1. Purgatio bombardamento partium laboris Ante obductionem, gas argon in cameram obductionis introducitur cum...Plura lege -
Characteres et Methodi Generationis Fluxus Electronum Arcus
1. Characteres fluxus electronici lucis arcualis Densitas fluxus electronici, fluxus ionici, et atomorum neutrorum altae energiae in plasma arcuali generato per emissionem arcualis multo maior est quam ea emissionis luminis. Plures iones gasii et iones metallici ionizati, atomi altae energiae excitati, et variae grow activae...Plura lege -
Campi Applicationis Modificationis Superficiei Plasmatis
1) Modificatio superficiei plasmaticae imprimis ad quasdam modificationes chartae, pellicularum organicarum, textilium, et fibrarum chemicarum refertur. Usus plasmatis ad modificationem textilium non requirit usum activatorum, et processus tractationis ipsas fibrarum proprietates non laedit. ...Plura lege -
Applicatio obductionis ionicae in campo pellicularum tenuium opticarum
Usus tenuium pellicularum opticarum latissimus est, a vitris, lentibus camerarum, cameris telephonorum mobilium, tegumentis LCD pro telephonis mobilibus, computatris et televisionibus, luminibus LED, instrumentis biometricis, ad fenestras energiae conservantes in autocinetis et aedificiis, necnon instrumenta medica, te...Plura lege -
Pelliculae ostentationis informationum et technologia obductionis ionum
1. Genus pelliculae in ostensione informationis Praeter pelliculas tenues TFT-LCD et OLED, ostensio informationis etiam pelliculas electrodorum filorum et pelliculas electrodorum pixelorum perspicuas in tabula ostensionis includit. Processus obductionis est processus principalis ostensionis TFT-LCD et OLED. Cum progressu continuo...Plura lege -
Lex accretionis strati pelliculae evaporationis vacui obductae
Per evaporationem, nucleatio et incrementum pelliculae fundamentum sunt variarum technologiarum ionum obductionis. 1. Nucleatio In technologia evaporationis vacui obductionis, postquam particulae pelliculae ex fonte evaporationis in forma atomorum evaporantur, directe ad... volant.Plura lege -
Communia technologiae amplificatae obductionis ionum emissionis luminescentis
1. Inclinatio partis fabricandae humilis est. Ob additionem instrumenti ad augendam ratem ionizationis, densitas currentis exonerationis augetur, et tensio polaritatis ad 0.5~1kV reducitur. Pulverisatio inversa, quae a nimia ionica energiae bombardamento et effectu damni in superficiem partis fabricandae oritur...Plura lege -
Commoda scoporum cylindricorum
1) Scopi cylindrici maiorem usum habent quam scopi plani. In processu obductionis, sive scopum magneticum rotatorium sive scopum cylindricum tubulare rotatorium sit, omnes partes superficiei tubi scopi continue per aream pulverisationis ante... generatam transeunt.Plura lege -
Processus polymerizationis plasmatis directae
Processus polymerizationis plasmatis directae Processus polymerizationis plasmatis relative simplex est tam pro apparatu polymerizationis electrodi interni quam pro apparatu polymerizationis electrodi externi, sed selectio parametrorum maioris momenti est in polymerizatione plasmatis, quia parametri maiorem habent...Plura lege
