Benvenuti a Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Notizia
-
Rivestitori sottovuoto anti-impronta in metallo
L'utilizzo di macchine per il rivestimento sottovuoto anti-impronta su metallo rappresenta un importante progresso nella tecnologia di protezione delle superfici. Combinando la tecnologia del vuoto con rivestimenti specializzati, queste macchine creano uno strato sottile e resistente all'usura sulle superfici metalliche, proteggendole da impronte digitali e altri agenti inquinanti.Per saperne di più -
Pratica macchina per rivestimento sotto vuoto
Nei settori della produzione manifatturiera avanzata e industriale, la domanda di macchine pratiche per il rivestimento sotto vuoto è in aumento. Queste macchine all'avanguardia stanno rivoluzionando il modo in cui una varietà di materiali viene rivestita, offrendo maggiore durata, prestazioni ed estetica. In questo blog...Per saperne di più -
Principio di selezione e classificazione del materiale target
Con il crescente sviluppo della tecnologia di rivestimento mediante sputtering, in particolare della tecnologia di rivestimento mediante sputtering magnetron, attualmente qualsiasi materiale può essere preparato con un film bersaglio mediante bombardamento ionico, poiché il bersaglio viene spruzzato nel processo di rivestimento su un qualche tipo di substrato, la qualità di...Per saperne di più -
Caratteristiche principali del rivestimento RF Sputtering
A. Elevata velocità di sputtering. Ad esempio, quando si esegue lo sputtering di SiO₂, la velocità di deposizione può arrivare fino a 200 nm/min, solitamente fino a 10~100 nm/min. La velocità di formazione del film è direttamente proporzionale alla potenza ad alta frequenza. B. L'adesione tra il film e il substrato è maggiore rispetto al vapore sotto vuoto...Per saperne di più -
Linee di rivestimento per la produzione di pellicole per lampade per auto
Le linee di produzione di pellicole per fari per auto sono una parte essenziale dell'industria automobilistica. Queste linee di produzione sono responsabili del rivestimento e della produzione di pellicole per fari, che svolgono un ruolo cruciale nel migliorarne l'estetica e la funzionalità. Con la crescente domanda di prodotti di alta qualità...Per saperne di più -
Il ruolo del campo magnetico nello sputtering magnetron
Lo sputtering magnetron include principalmente il trasporto di plasma a scarica, l'incisione del target, la deposizione di film sottili e altri processi; il campo magnetico sul processo di sputtering magnetron avrà un impatto. Nel sistema di sputtering magnetron, combinato con il campo magnetico ortogonale, gli elettroni sono soggetti a...Per saperne di più -
Requisiti del sistema di pompaggio della macchina per rivestimento sotto vuoto
La macchina per rivestimento sotto vuoto sul sistema di pompaggio ha i seguenti requisiti di base: (1) Il sistema di rivestimento sotto vuoto deve avere una portata di pompaggio sufficientemente grande, che non solo deve pompare fuori rapidamente i gas rilasciati dal substrato e dai materiali evaporati e i componenti nel ch...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento PVD per gioielli
La macchina per il rivestimento PVD dei gioielli utilizza un processo noto come deposizione fisica da vapore (PVD) per applicare un rivestimento sottile ma resistente ai gioielli. Questo processo prevede l'utilizzo di bersagli metallici solidi ad alta purezza, che vengono evaporati sotto vuoto. Il vapore metallico risultante viene quindi cond...Per saperne di più -
Piccola macchina flessibile per rivestimento sotto vuoto PVD
Uno dei principali vantaggi delle piccole macchine flessibili per il rivestimento PVD sotto vuoto è la loro versatilità. Queste macchine sono progettate per adattarsi a una varietà di dimensioni e forme di substrati, rendendole ideali per processi di produzione su piccola scala o personalizzati. Inoltre, le dimensioni compatte e la flessibilità...Per saperne di più -
Macchina per rivestimento sotto vuoto per utensili da taglio
In un settore manifatturiero in continua evoluzione, gli utensili da taglio svolgono un ruolo fondamentale nel dare forma ai prodotti che utilizziamo quotidianamente. Dal taglio di precisione nell'industria aerospaziale ai progetti complessi in campo medico, la domanda di utensili da taglio di alta qualità continua a crescere. Per soddisfare questa domanda, gli Stati Uniti...Per saperne di più -
Effetto del bombardamento ionico sull'interfaccia strato di pellicola/substrato
Quando inizia la deposizione degli atomi di membrana, il bombardamento ionico ha i seguenti effetti sull'interfaccia membrana/substrato. (1) Miscelazione fisica. A causa dell'iniezione di ioni ad alta energia, dello sputtering degli atomi depositati e dell'iniezione di rinculo degli atomi di superficie e del fenomeno di collisione a cascata,...Per saperne di più -
Rilancio e sviluppo del rivestimento mediante sputtering sotto vuoto
Lo sputtering è un fenomeno in cui particelle energetiche (solitamente ioni positivi di gas) colpiscono la superficie di un solido (di seguito chiamato materiale bersaglio), provocando la fuoriuscita di atomi (o molecole) dalla superficie del materiale bersaglio. Questo fenomeno fu scoperto da Grove nel 1842 quando...Per saperne di più -
Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron Capitolo 2
Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetron (3) Sputtering a bassa energia. Grazie alla bassa tensione catodica applicata al bersaglio, il plasma viene vincolato dal campo magnetico nello spazio vicino al catodo, inibendo così la penetrazione delle particelle cariche ad alta energia sul lato del substrato colpito. Il...Per saperne di più -
Caratteristiche del rivestimento mediante sputtering magnetronico Capitolo 1
Rispetto ad altre tecnologie di rivestimento, il rivestimento mediante sputtering magnetronico è caratterizzato dalle seguenti caratteristiche: i parametri di lavoro hanno un'ampia gamma di regolazione dinamica della velocità di deposizione del rivestimento e lo spessore (lo stato dell'area rivestita) può essere facilmente controllato e non vi è alcuna progettazione...Per saperne di più -
Tecnologia di deposizione assistita da fascio di ioni
La tecnologia di deposizione assistita da fascio ionico è la tecnologia di rivestimento con iniezione di fascio ionico e deposizione da vapore, combinata con la tecnologia di lavorazione dei compositi superficiali ionici. Nel processo di modifica superficiale dei materiali iniettati con ioni, siano essi materiali semiconduttori o materiali ingegneristici, è...Per saperne di più
