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Tipos de tecnología CVD
En términos generales, la CVD se puede dividir en dos tipos: uno consiste en la deposición en fase de vapor de un solo producto sobre el sustrato de una capa epitaxial monocristalina, que es estrictamente CVD; el otro consiste en la deposición de películas delgadas sobre el sustrato, incluyendo películas multiproducto y amorfas. Según...Leer más -
Espectros de transmisión y reflectancia y color de películas delgadas ópticas Capítulo 2
A partir de esto, aclararemos: (1) los dispositivos de película delgada, los espectros de transmitancia y reflectancia, y el color de la relación correspondiente, es decir, el espectro de un color; por el contrario, esta relación no es única, manifestándose como un multiespectro de color. Por lo tanto, la película...Leer más -
Espectros de transmisión y reflectancia y color de películas delgadas ópticas Capítulo 1
Los espectros de transmisión y reflectancia, así como los colores de las películas delgadas ópticas, son dos características de los dispositivos de película delgada que coexisten. 1. El espectro de transmisión y reflectancia es la relación entre la reflectancia y la transmitancia de los dispositivos de película delgada óptica y la longitud de onda. Es c...Leer más -
Máquina de recubrimiento al vacío por PVD óptico por evaporación de película fina AF
La máquina de recubrimiento al vacío por evaporación de película fina AF (PVD óptico) está diseñada para aplicar recubrimientos de película fina a dispositivos móviles mediante el proceso de deposición física de vapor (PVD). El proceso implica la creación de un entorno de vacío dentro de una cámara de recubrimiento donde los materiales sólidos se evaporan y luego se depositan...Leer más -
Máquina para fabricar espejos con recubrimiento al vacío de aluminio y plata
La máquina para fabricar espejos con recubrimiento al vacío de aluminio y plata ha revolucionado la industria de fabricación de espejos gracias a su tecnología avanzada e ingeniería de precisión. Esta máquina de vanguardia está diseñada para aplicar una fina capa de aluminio y plata a la superficie del vidrio, creando...Leer más -
Máquina de recubrimiento óptico al vacío
El metalizador óptico al vacío es una tecnología de vanguardia que ha revolucionado la industria del recubrimiento de superficies. Esta avanzada máquina utiliza un proceso llamado metalización óptica al vacío para aplicar una fina capa de metal a diversos sustratos, creando una superficie altamente reflectante y duradera.Leer más -
Deposición química de vapor mejorada con plasma Capítulo 2
La mayoría de los elementos químicos pueden vaporizarse al combinarlos con grupos químicos; por ejemplo, el Si reacciona con H para formar SiH₄, y el Al se combina con CH₃ para formar Al(CH₃). En el proceso de CVD térmico, los gases mencionados absorben cierta cantidad de energía térmica al atravesar el sustrato calentado y forman...Leer más -
Deposición química de vapor mejorada con plasma Capítulo 1
Deposición química en fase de vapor (CVD). Como su nombre indica, es una técnica que utiliza precursores gaseosos para generar películas sólidas mediante reacciones químicas atómicas e intermoleculares. A diferencia de la PVD, el proceso de CVD se lleva a cabo principalmente en un entorno de mayor presión (menor vacío), con...Leer más -
Elementos del proceso y mecanismos de acción que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 2)
3. Influencia de la temperatura del sustrato. La temperatura del sustrato es una condición importante para el crecimiento de la membrana. Proporciona energía adicional a los átomos o moléculas de la membrana y afecta principalmente la estructura de la membrana, el coeficiente de aglutinación, el coeficiente de expansión y la agregación...Leer más -
Factores y mecanismos de proceso que afectan la calidad de los dispositivos de película delgada (Parte 1)
La fabricación de dispositivos ópticos de película delgada se realiza en una cámara de vacío, y el crecimiento de la capa de película es un proceso microscópico. Sin embargo, actualmente, los procesos macroscópicos que pueden controlarse directamente son algunos factores macroscópicos que tienen una relación indirecta con la calidad...Leer más -
Introducción a la historia del desarrollo de la tecnología de evaporación
El proceso de calentar materiales sólidos en un entorno de alto vacío para sublimarlos o evaporarlos y depositarlos sobre un sustrato específico para obtener una película delgada se conoce como recubrimiento por evaporación al vacío (también conocido como recubrimiento por evaporación). La historia de la preparación de películas delgadas mediante evaporación al vacío...Leer más -
Introducción al recubrimiento ITO
El óxido de indio y estaño (ITO, también conocido como óxido de indio y estaño) es un material semiconductor de tipo n, fuertemente dopado, con banda prohibida amplia, alta transmitancia de luz visible y características de baja resistividad, y por lo tanto se utiliza ampliamente en células solares, pantallas planas, ventanas electrocrómicas, materiales inorgánicos y orgánicos...Leer más -
Máquina de recubrimiento por centrifugación al vacío de laboratorio
Los equipos de recubrimiento por centrifugación al vacío de laboratorio son herramientas importantes en el campo de la deposición de películas delgadas y la modificación de superficies. Este equipo avanzado está diseñado para aplicar películas delgadas de diversos materiales a sustratos de forma precisa y uniforme. El proceso implica la aplicación de una solución líquida o...Leer más -
Modo de deposición asistida por haz de iones y su selección de energía
Existen dos modos principales de deposición asistida por haz de iones: uno es híbrido dinámico y el otro, híbrido estático. El primero se refiere a que la película, durante el proceso de crecimiento, siempre está acompañada por una cierta energía y corriente de haz de bombardeo iónico; el segundo se predeposita sobre la superficie...Leer más -
Tecnología de deposición por haz de iones
① La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la película y el sustrato, lo que permite una capa de película muy resistente. Experimentos han demostrado que la adhesión de la deposición asistida por haz de iones es varias veces mayor que la de la deposición térmica de vapor, llegando a cientos de veces...Leer más
