Vítejte ve společnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Zprávy
-
Technologie optického povlaku: Vylepšené vizuální efekty
V dnešním uspěchaném světě, kde má vizuální obsah velký vliv, hraje technologie optických povlaků důležitou roli ve zlepšování kvality různých displejů. Od chytrých telefonů až po televizní obrazovky, optické povlaky způsobily revoluci ve způsobu, jakým vnímáme a prožíváme vizuální obsah. ...Číst dále -
Vylepšení magnetronového naprašování pomocí zdroje napájení pro obloukový výboj
Magnetronové naprašování se provádí doutnavým výbojem s nízkou hustotou výbojového proudu a nízkou hustotou plazmatu v nanášecí komoře. To způsobuje, že technologie magnetronového naprašování má nevýhody, jako je nízká síla spojení filmu a substrátu, nízká rychlost ionizace kovu a nízká rychlost nanášení...Číst dále -
Využití RF výboje
1. Výhodné pro naprašování a pokovování izolační fólie. Rychlá změna polarity elektrod může být použita k přímému naprašování izolačních terčů za účelem získání izolačních fólií. Pokud se k naprašování a nanášení izolační fólie použije zdroj stejnosměrného proudu, izolační fólie zablokuje vstup kladných iontů...Číst dále -
Technické vlastnosti vakuového napařování
1. Proces vakuového napařování zahrnuje odpařování filmových materiálů, transport atomů páry ve vysokém vakuu a proces nukleace a růstu atomů páry na povrchu obrobku. 2. Stupeň nanášení vakuového napařování je vysoký, gener...Číst dále -
Druhy tvrdých povlaků
TiN je nejstarší tvrdý povlak používaný v řezných nástrojích s výhodami, jako je vysoká pevnost, vysoká tvrdost a odolnost proti opotřebení. Je to první průmyslově vyvinutý a široce používaný tvrdý povlakový materiál, široce používaný v povlakovaných nástrojích a povlakovaných formách. Tvrdý povlak TiN byl původně nanášen při teplotě 1000 ℃...Číst dále -
Charakteristiky modifikace plazmového povrchu
Vysokoenergetická plazma může bombardovat a ozařovat polymerní materiály, čímž narušuje jejich molekulární řetězce, vytváří aktivní skupiny, zvyšuje povrchovou energii a generuje leptání. Plazmová povrchová úprava neovlivňuje vnitřní strukturu a vlastnosti sypkého materiálu, ale pouze významně...Číst dále -
Proces iontového povlakování malým obloukovým zdrojem
Proces nanášení iontů pomocí katodického obloukového zdroje je v podstatě stejný jako u jiných technologií nanášení povlaků a některé operace, jako je instalace obrobků a vysávání, se již neopakují. 1. Čištění obrobků bombardováním Před nanášením povlaku se do povlakovací komory zavádí plynný argon pomocí...Číst dále -
Charakteristiky a metody generování toku elektronů v oblouku
1. Charakteristika toku elektronů v obloukovém výboji Hustota toku elektronů, toku iontů a vysokoenergetických neutrálních atomů v obloukové plazmě generované obloukovým výbojem je mnohem vyšší než u doutnavého výboje. Je zde ionizováno více plynných iontů a kovových iontů, excitovaných vysokoenergetických atomů a různých aktivních skupin...Číst dále -
Oblasti použití plazmové modifikace povrchu
1) Modifikace povrchu plazmou se týká především určitých modifikací papíru, organických fólií, textilií a chemických vláken. Použití plazmy pro modifikaci textilií nevyžaduje použití aktivátorů a proces úpravy nepoškozuje vlastnosti samotných vláken. ...Číst dále -
Aplikace iontových povlaků v oblasti optických tenkých filmů
Použití optických tenkých vrstev je velmi rozsáhlé a sahá od brýlí, objektivů fotoaparátů, fotoaparátů mobilních telefonů, LCD obrazovek pro mobilní telefony, počítače a televizory, LED osvětlení, biometrických zařízení až po energeticky úsporná okna v automobilech a budovách, stejně jako lékařské přístroje, te...Číst dále -
Informační zobrazovací fólie a technologie iontového povlakování
1. Typ filmu v informačním displeji Kromě tenkých filmů TFT-LCD a OLED zahrnuje informační displej také filmy s drátovými elektrodami a průhledné filmy s pixelovými elektrodami v zobrazovacím panelu. Proces nanášení povlaku je základním procesem displejů TFT-LCD a OLED. Díky nepřetržitému prog...Číst dále -
Zákon růstu vrstvy povlakového filmu ve vakuovém odpařování
Během odpařování je nukleace a růst filmové vrstvy základem různých technologií iontového povlakování 1. Nukleace V technologii vakuového odpařování se částice filmové vrstvy po odpaření ze zdroje odpařování ve formě atomů dostanou přímo do ...Číst dále -
Společné vlastnosti vylepšené technologie iontového nanášení doutnavého výboje
1. Nízké předpětí obrobku Díky přidání zařízení pro zvýšení ionizační rychlosti se zvyšuje hustota výbojového proudu a předpětí se snižuje na 0,5~1 kV. Zpětné naprašování způsobené nadměrným bombardováním vysokoenergetickými ionty a poškozující účinek na povrch obrobku...Číst dále -
Výhody válcových terčů
1) Válcové terče mají vyšší míru využití než planární terče. V procesu nanášení povlaku, ať už se jedná o rotační magnetický typ nebo rotační trubkový válcový naprašovací terč, všechny části povrchu trubky terče nepřetržitě procházejí naprašovací oblastí vytvořenou před...Číst dále -
Proces přímé polymerace v plazmatu
Proces přímé polymerace v plazmě Proces plazmové polymerace je relativně jednoduchý jak pro zařízení pro polymeraci s vnitřní elektrodou, tak pro zařízení pro polymeraci s vnější elektrodou, ale výběr parametrů je u plazmové polymerace důležitější, protože parametry mají větší...Číst dále
