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Nutizie

  • Tecnulugia di Rivestimentu Otticu: Effetti Visuali Migliorati

    In u mondu freneticu d'oghje, induve u cuntenutu visuale hà assai influenza, a tecnulugia di rivestimentu otticu ghjoca un rolu impurtante in u miglioramentu di a qualità di diversi schermi. Da i smartphones à i schermi TV, i rivestimenti ottici anu rivoluzionatu u modu in cui percepemu è sperimentemu u cuntenutu visuale. ...
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  • Migliurà u Rivestimentu di Sputtering Magnetron cù Alimentazione di Scarica d'Arcu

    Migliurà u Rivestimentu di Sputtering Magnetron cù Alimentazione di Scarica d'Arcu

    U rivestimentu per sputtering magnetron hè realizatu in scarica à bagliore, cù una bassa densità di corrente di scarica è una bassa densità di plasma in a camera di rivestimentu. Questu face chì a tecnulugia di sputtering magnetron abbia svantaghji cum'è una bassa forza di legame di u substratu di u film, una bassa velocità di ionizazione di i metalli è una bassa velocità di deposizione...
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  • Utilizzazione di scarica RF

    Utilizzazione di scarica RF

    1. Beneficu per a sputtering è a placcatura di film isolanti. U cambiamentu rapidu di a polarità di l'elettrodu pò esse adupratu per sputtering direttamente bersagli isolanti per ottene film isolanti. Se una fonte di alimentazione CC hè aduprata per sputtering è deposità film isolanti, u film isolante bluccherà l'ioni pusitivi da ent...
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  • Caratteristiche tecniche di u rivestimentu per evaporazione à vuoto

    Caratteristiche tecniche di u rivestimentu per evaporazione à vuoto

    1. U prucessu di rivestimentu per evaporazione à vuoto include l'evaporazione di i materiali di u film, u trasportu di l'atomi di vapore in altu vuoto, è u prucessu di nucleazione è crescita di l'atomi di vapore nantu à a superficia di a pezza. 2. U gradu di deposizione à vuoto di u rivestimentu per evaporazione à vuoto hè altu, gener...
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  • Tipi di rivestimenti duri

    Tipi di rivestimenti duri

    U TiN hè u primu rivestimentu duru utilizatu in l'utensili da taglio, cù vantaghji cum'è alta resistenza, alta durezza è resistenza à l'usura. Hè u primu materiale di rivestimentu duru industrializatu è largamente utilizatu, largamente utilizatu in utensili rivestiti è stampi rivestiti. U rivestimentu duru di TiN hè statu inizialmente depositatu à 1000 ℃...
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  • Caratteristiche di a mudificazione di a superficia di u plasma

    Caratteristiche di a mudificazione di a superficia di u plasma

    U plasma d'alta energia pò bombardà è irradià i materiali polimerichi, rumpendu e so catene moleculari, furmendu gruppi attivi, aumentendu l'energia superficiale è generendu incisioni. U trattamentu superficiale di u plasma ùn influenza micca a struttura interna è e prestazioni di u materiale in massa, ma solu significativamente...
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  • U prucessu di rivestimentu di ioni à piccula fonte d'arcu

    U prucessu di rivestimentu di ioni à piccula fonte d'arcu

    U prucessu di rivestimentu di ioni à fonte d'arcu catodicu hè basicamente u listessu cum'è altre tecnulugie di rivestimentu, è alcune operazioni cum'è l'installazione di pezzi è l'aspirazione ùn sò più ripetute. 1. Pulizia di bombardamentu di pezzi Prima di u rivestimentu, u gasu argon hè introduttu in a camera di rivestimentu cù un...
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  • Caratteristiche è Metodi di Generazione di u Flussu di Elettroni à Arcu

    Caratteristiche è Metodi di Generazione di u Flussu di Elettroni à Arcu

    1. Caratteristiche di u flussu di elettroni di luce à arcu A densità di u flussu di elettroni, u flussu di ioni è l'atomi neutri à alta energia in u plasma à arcu generatu da a scarica à arcu hè assai più alta chè quella di a scarica à bagliore. Ci sò più ioni di gas è ioni metallichi ionizzati, atomi eccitati à alta energia è vari gruppi attivi...
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  • Campi d'applicazione di a mudificazione di a superficia di u plasma

    Campi d'applicazione di a mudificazione di a superficia di u plasma

    1) A mudificazione di a superficia di u plasma si riferisce principalmente à certe mudificazioni di carta, filmi organichi, tessili è fibre chimiche. L'usu di u plasma per a mudificazione tessile ùn richiede micca l'usu di attivatori, è u prucessu di trattamentu ùn danneghja micca e caratteristiche di e fibre stesse. ...
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  • Applicazione di u rivestimentu ionicu in u campu di i filmi ottici sottili

    Applicazione di u rivestimentu ionicu in u campu di i filmi ottici sottili

    L'applicazione di film ottici sottili hè assai vasta, da occhiali, lenti di fotocamera, camere di telefoni cellulari, schermi LCD per telefoni cellulari, computer è televisori, illuminazione LED, dispositivi biometrici, à finestre à risparmiu energeticu in automobili è edifici, è ancu strumenti medichi, te...
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  • Film di visualizazione di l'infurmazioni è tecnulugia di rivestimentu ionicu

    Film di visualizazione di l'infurmazioni è tecnulugia di rivestimentu ionicu

    1. Tipu di film in u display di l'infurmazioni In più di i film sottili TFT-LCD è OLED, u display di l'infurmazioni include ancu film di elettrodi di cablaggio è film di elettrodi di pixel trasparenti in u pannellu di visualizazione. U prucessu di rivestimentu hè u prucessu principale di u display TFT-LCD è OLED. Cù u prugressu cuntinuu...
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  • A lege di crescita di u stratu di film di rivestimentu per evaporazione à vuoto

    A lege di crescita di u stratu di film di rivestimentu per evaporazione à vuoto

    Durante u rivestimentu per evaporazione, a nucleazione è a crescita di u stratu di film sò a basa di varie tecnulugie di rivestimentu ionicu 1.Nucleazione In a tecnulugia di rivestimentu per evaporazione à vuoto, dopu chì e particelle di u stratu di film sò evaporate da a fonte di evaporazione in forma d'atomi, volanu direttamente à u w ...
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  • Caratteristiche cumuni di a tecnulugia di rivestimentu ionicu di scarica luminosa migliorata

    Caratteristiche cumuni di a tecnulugia di rivestimentu ionicu di scarica luminosa migliorata

    1. A polarizazione di a pezza hè bassa A causa di l'aghjunta di un dispositivu per aumentà a velocità di ionizazione, a densità di corrente di scarica hè aumentata, è a tensione di polarizazione hè ridutta à 0,5 ~ 1 kV. U backsputtering causatu da un bumbardamentu eccessivu di ioni d'alta energia è l'effettu di dannu nantu à a superficia di a pezza...
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  • Vantaghji di i bersagli cilindrichi

    Vantaghji di i bersagli cilindrichi

    1) I bersagli cilindrichi anu un tassu d'utilizazione più altu ch'è i bersagli planari. In u prucessu di rivestimentu, ch'ellu sia un tipu magneticu rotativu o un bersagliu di sputtering cilindricu di tipu tubu rotativu, tutte e parte di a superficia di u tubu di u bersagliu passanu continuamente per l'area di sputtering generata davanti à...
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  • Prucessu di polimerizazione diretta à plasma

    Prucessu di polimerizazione diretta à plasma

    Prucessu di polimerizazione diretta à plasma U prucessu di polimerizazione à plasma hè relativamente simplice sia per l'equipaggiu di polimerizazione à elettrodi interni sia per l'equipaggiu di polimerizazione à elettrodi esterni, ma a selezzione di i parametri hè più impurtante in a polimerizazione à plasma, perchè i parametri anu un più grande...
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