Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd-ə xoş gəlmisiniz.
Sənaye Xəbərləri
-
AF İncə Film Buxarlanma Optik PVD Vakuum Kaplama Maşını
AF İncə Film Buxarlanma Optik PVD vakuum örtük maşını Fiziki Buxar Depoziti (PVD) prosesindən istifadə edərək mobil cihazlara nazik film örtükləri tətbiq etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Bu proses bərk materialların buxarlandığı və sonra çökdürüldüyü örtük kamerasında vakuum mühitinin yaradılmasını nəzərdə tutur...Daha ətraflı oxuyun -
Alüminium gümüş vakuum örtüklü güzgü istehsal maşını
Alüminium gümüş vakuum örtüklü güzgü hazırlayan maşın qabaqcıl texnologiyası və dəqiq mühəndisliyi ilə güzgü istehsal sənayesində inqilab etdi. Bu müasir maşın şüşənin səthinə nazik alüminium gümüş örtüyü tətbiq etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur və yüksək keyfiyyətli...Daha ətraflı oxuyun -
Optik vakuum örtük maşını
Optik vakuum metalizatoru səthi örtmə sənayesində inqilab edən ən müasir texnologiyadır. Bu qabaqcıl maşın müxtəlif substratlara nazik metal təbəqə tətbiq etmək üçün optik vakuum metalizasiyası adlanan prosesdən istifadə edərək yüksək əks etdirən və davamlı surət yaradır...Daha ətraflı oxuyun -
Plazmada Gücləndirilmiş Kimyəvi Buxar Çöküntüsü Fəsil 2
Kimyəvi elementlərin əksəriyyəti kimyəvi qruplarla birləşdirilərək buxarlana bilər, məsələn, Si H ilə reaksiyaya girərək SiH4, Al isə CH3 ilə birləşərək Al(CH3) əmələ gətirir. İstilik CVD prosesində yuxarıda göstərilən qazlar qızdırılan substratdan keçərkən müəyyən miqdarda istilik enerjisini udur və yenidən...Daha ətraflı oxuyun -
Plazmada Gücləndirilmiş Kimyəvi Buxar Çöküntüsü Fəsil 1
Kimyəvi Buxar Çöküntüsü (CVD). Adından da göründüyü kimi, atomik və molekullararası kimyəvi reaksiyalar vasitəsilə bərk filmlər yaratmaq üçün qazlı prekursor reaktivlərindən istifadə edən bir texnikadır. PVD-dən fərqli olaraq, CVD prosesi əsasən daha yüksək təzyiq (aşağı vakuum) mühitində həyata keçirilir.Daha ətraflı oxuyun -
Nazik film cihazlarının keyfiyyətinə təsir edən proses elementləri və fəaliyyət mexanizmləri (2-ci hissə)
3. Substrat temperaturunun təsiri Substrat temperaturu membranın böyüməsi üçün vacib şərtlərdən biridir. O, membran atomlarına və ya molekullarına əlavə enerji əlavə edir və əsasən membranın quruluşuna, aglütinasiya əmsalına, genişlənmə əmsalına və aqreqatına təsir edir...Daha ətraflı oxuyun -
Nazik film cihazlarının keyfiyyətinə təsir edən proses amilləri və mexanizmləri (1-ci hissə)
Optik nazik film cihazlarının istehsalı vakuum kamerasında həyata keçirilir və film təbəqəsinin böyüməsi mikroskopik bir prosesdir. Bununla belə, hazırda birbaşa idarə oluna bilən makroskopik proseslər keyfiyyətlə dolayı əlaqəsi olan bəzi makroskopik amillərdir...Daha ətraflı oxuyun -
Buxarlanma texnologiyasının inkişaf tarixinə giriş
Qatı materialların yüksək vakuum mühitində qızdırılması prosesi sublimasiya etmək və ya buxarlanmaq və nazik bir təbəqə əldə etmək üçün onları müəyyən bir substratda yerləşdirmək üçün vakuum buxarlanma örtüyü kimi tanınır (buxarlanma örtüyü kimi istinad edilir). Vakuum buxarlanma üsulu ilə nazik təbəqələrin hazırlanması tarixi...Daha ətraflı oxuyun -
ITO Kaplama Təqdimatı
İndium qalay oksidi (İTO olaraq adlandırılan İndium Kalay Oksidi) yüksək görünən işıq keçiriciliyinə və aşağı müqavimət xüsusiyyətlərinə malik, geniş bant boşluğu, ağır qatqılı n tipli yarımkeçirici materiallardır və beləliklə günəş batareyalarında, düz panel ekranlarda, elektroxrom pəncərələrdə, qeyri-üzvi və orqaniklərdə geniş istifadə olunur.Daha ətraflı oxuyun -
Laboratoriya vakuum spin örtük maşını
Laboratoriya vakuum spin örtükləri nazik təbəqənin çökməsi və səthin modifikasiyası sahəsində vacib alətlərdir. Bu qabaqcıl avadanlıq müxtəlif materialların nazik təbəqələrini substratlara dəqiq və bərabər şəkildə tətbiq etmək üçün nəzərdə tutulmuşdur. Proses maye məhlul və ya sus...Daha ətraflı oxuyun -
İon şüası ilə dəstəklənən çökmə rejimi və onun enerji seçimi
İon şüası ilə dəstəklənən çökmənin iki əsas rejimi var, biri dinamik hibriddir; digəri statik hibriddir. Keçmiş artım prosesində həmişə ion bombardmanı və film müəyyən enerji və şüa cari ilə müşayiət olunur film aiddir; sonuncu th... səthində əvvəlcədən çökdürülür.Daha ətraflı oxuyun -
İon şüalarının çökdürülməsi texnologiyası
① İon şüasının köməyi ilə çökmə texnologiyası film və substrat arasında güclü yapışma ilə xarakterizə olunur, film təbəqəsi çox güclüdür. Təcrübələr göstərdi ki: ion şüası ilə dəstəklənən yapışma, termal buxar çöküntüsünün yapışması ilə müqayisədə bir neçə dəfə yüzlərlə ...Daha ətraflı oxuyun -
Vakuum ion örtüyü
Vakuum ion örtüyü (ion örtüyü olaraq adlandırılır) 1963-cü ildə Amerika Birləşmiş Ştatlarında Somdia şirkəti DM Mattox tərəfindən təklif edilmiş, 1970-ci illərdə yeni bir səth müalicəsi texnologiyasının sürətli inkişafı olmuşdur. Bu, vakuum atmosferində buxarlanma mənbəyinin və ya püskürtmə hədəfinin istifadəsinə aiddir ki, film...Daha ətraflı oxuyun -
Film təbəqəsi örtülmüş şüşədə çıxarılır
Örtülü şüşə buxarlanma ilə örtülmüş, maqnetron püskürtmə ilə örtülmüş və daxili buxarla örtülmüş örtüklü şüşələrə bölünür. Filmin hazırlanma üsulu fərqli olduğu üçün plyonkanın çıxarılması üsulu da fərqlidir. Təklif 1, Cilalama və sürtkü üçün xlorid turşusu və sink tozundan istifadə...Daha ətraflı oxuyun -
Kəsici alət örtüklərinin rolu-Fəsil 2
Çox yüksək kəsmə temperaturlarında belə, kəsici alətin istifadə müddəti örtüklə uzadıla bilər, beləliklə emal xərclərini əhəmiyyətli dərəcədə azaldır. Bundan əlavə, kəsici alət örtüyü sürtkü mayelərinə ehtiyacı azalda bilər. Nəinki maddi xərcləri azaldır, həm də ətraf mühitin qorunmasına kömək edir...Daha ətraflı oxuyun
