Vitajte v spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Správy
-
Technológia optického náteru: Vylepšené vizuálne efekty
V dnešnom rýchlo sa meniacom svete, kde má vizuálny obsah veľký vplyv, zohráva technológia optických povrchových úprav dôležitú úlohu pri zlepšovaní kvality rôznych displejov. Od smartfónov až po televízne obrazovky, optické povrchové úpravy spôsobili revolúciu v spôsobe, akým vnímame a prežívame vizuálny obsah. ...Čítať ďalej -
Zlepšenie magnetrónového naprašovania pomocou napájania oblúkovým výbojom
Magnetrónové naprašovanie sa vykonáva v žiarovom výboji s nízkou hustotou výbojového prúdu a nízkou hustotou plazmy v nanášacej komore. To spôsobuje, že technológia magnetrónového naprašovania má nevýhody, ako je nízka sila spájania filmu so substrátom, nízka rýchlosť ionizácie kovu a nízka rýchlosť nanášania...Čítať ďalej -
Využitie RF výboja
1. Výhodné pre naprašovanie a pokovovanie izolačnej fólie. Rýchla zmena polarity elektródy sa dá použiť na priame naprašovanie izolačných terčov na získanie izolačných fólií. Ak sa na naprašovanie a nanášanie izolačnej fólie použije zdroj jednosmerného prúdu, izolačná fólia zablokuje vstup kladných iónov...Čítať ďalej -
Technické vlastnosti vákuového naparovania
1. Proces vákuového odparovania zahŕňa odparovanie filmových materiálov, transport atómov pary vo vysokom vákuu a proces nukleácie a rastu atómov pary na povrchu obrobku. 2. Stupeň nanášania vákuovým odparovaním je vysoký, gener...Čítať ďalej -
Druhy tvrdých povlakov
TiN je najstarší tvrdý povlak používaný v rezných nástrojoch s výhodami, ako je vysoká pevnosť, vysoká tvrdosť a odolnosť proti opotrebovaniu. Je to prvý industrializovaný a široko používaný tvrdý povlakový materiál, ktorý sa bežne používa v povlakovaných nástrojoch a povlakovaných formách. Tvrdý povlak TiN bol pôvodne nanášaný pri teplote 1000 ℃...Čítať ďalej -
Charakteristiky modifikácie plazmového povrchu
Vysokoenergetická plazma môže bombardovať a ožarovať polymérne materiály, čím narúša ich molekulárne reťazce, vytvára aktívne skupiny, zvyšuje povrchovú energiu a spôsobuje leptanie. Plazmová povrchová úprava neovplyvňuje vnútornú štruktúru a vlastnosti sypkého materiálu, ale iba významne...Čítať ďalej -
Proces iónového povlakovania malým oblúkovým zdrojom
Proces nanášania iónov pomocou katódového oblúkového zdroja je v podstate rovnaký ako pri iných technológiách nanášania a niektoré operácie, ako je inštalácia obrobkov a vysávanie, sa už neopakujú. 1. Čistenie obrobkov bombardovaním Pred nanášaním sa do nanášacej komory zavádza argónový plyn pomocou...Čítať ďalej -
Charakteristiky a metódy generovania toku oblúkových elektrónov
1. Charakteristika toku elektrónov v oblúkovom výboji Hustota toku elektrónov, toku iónov a vysokoenergetických neutrálnych atómov v oblúkovej plazme generovanej oblúkovým výbojom je oveľa vyššia ako v prípade tlejúceho výboja. Je v nej ionizovaných viac plynových a kovových iónov, excitovaných vysokoenergetických atómov a rôznych aktívnych skupín...Čítať ďalej -
Oblasti použitia modifikácie plazmového povrchu
1) Modifikácia povrchu plazmou sa vzťahuje najmä na určité modifikácie papiera, organických fólií, textílií a chemických vlákien. Použitie plazmy na modifikáciu textílií nevyžaduje použitie aktivátorov a proces úpravy nepoškodzuje vlastnosti samotných vlákien. ...Čítať ďalej -
Aplikácia iónového povlaku v oblasti optických tenkých vrstiev
Použitie optických tenkých vrstiev je veľmi rozsiahle a siaha od okuliarov, objektívov fotoaparátov, fotoaparátov mobilných telefónov, LCD obrazoviek pre mobilné telefóny, počítače a televízory, LED osvetlenie, biometrické zariadenia až po energeticky úsporné okná v automobiloch a budovách, ako aj lekárske prístroje, te...Čítať ďalej -
Informačné zobrazovacie fólie a technológia iónového nanášania
1. Typ filmu v informačnom displeji Okrem tenkých filmov TFT-LCD a OLED obsahuje informačný displej aj filmy s vodičovými elektródami a priehľadné filmy s pixelovými elektródami v zobrazovacom paneli. Proces nanášania povrchovej úpravy je základným procesom displejov TFT-LCD a OLED. Vďaka nepretržitému procesu...Čítať ďalej -
Zákon rastu vrstvy vákuového odparovania
Počas odparovania je nukleácia a rast filmovej vrstvy základom rôznych technológií iónového povlakovania 1. Nukleácia Pri technológii vákuového odparovania sa častice filmovej vrstvy po odparení zo zdroja odparovania vo forme atómov dostanú priamo do...Čítať ďalej -
Spoločné vlastnosti vylepšenej technológie iónového nanášania tlejúcim výbojom
1. Nízke predpätie obrobku Vďaka pridaniu zariadenia na zvýšenie rýchlosti ionizácie sa zvyšuje hustota výbojového prúdu a predpätie sa znižuje na 0,5 ~ 1 kV. Spätné naprašovanie spôsobené nadmerným bombardovaním vysokoenergetickými iónmi a poškodením povrchu obrobku...Čítať ďalej -
Výhody valcových terčov
1) Valcové terče majú vyššiu mieru využitia ako planárne terče. V procese nanášania povlaku, či už ide o rotačný magnetický typ alebo valcový naprašovací terč s rotačnou trubicou, všetky časti povrchu terčovej trubice nepretržite prechádzajú naprašovacou plochou vytvorenou pred...Čítať ďalej -
Proces priamej polymerizácie plazmou
Proces priamej polymerizácie plazmou Proces plazmovej polymerizácie je relatívne jednoduchý pre zariadenia na polymerizáciu s vnútornou elektródou aj pre zariadenia na polymerizáciu s vonkajšou elektródou, ale výber parametrov je pri plazmovej polymerizácii dôležitejší, pretože parametre majú väčší...Čítať ďalej
