Добро пожаловать в Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Новости отрасли
-
Машина для вакуумного напыления тонких пленок AF с оптической PVD-напылительной установкой
Машина для вакуумного напыления тонкопленочных покрытий AF Thin Film Evaporation Optical PVD предназначена для нанесения тонкопленочных покрытий на мобильные устройства с использованием процесса физического осаждения из паровой фазы (PVD). Процесс заключается в создании вакуумной среды в камере для нанесения покрытий, где твердые материалы испаряются, а затем осаждаются...Читать далее -
Машина для производства зеркал с вакуумным покрытием из алюминия и серебра
Машина для вакуумного нанесения покрытия на алюминий-серебро произвела революцию в производстве зеркал благодаря передовым технологиям и точной инженерии. Эта современная машина предназначена для нанесения тонкого покрытия из алюминия-серебра на поверхность стекла, создавая высококачественные...Читать далее -
Оптическая вакуумная напылительная машина
Оптический вакуумный металлизатор — это передовая технология, которая произвела революцию в индустрии покрытия поверхностей. Эта передовая машина использует процесс, называемый оптической вакуумной металлизацией, для нанесения тонкого слоя металла на различные подложки, создавая высокоотражающую и прочную поверхность...Читать далее -
Плазменное химическое осаждение из паровой фазы Глава 2
Большинство химических элементов можно испарять, соединяя их с химическими группами, например, Si реагирует с H, образуя SiH4, а Al соединяется с CH3, образуя Al(CH3). В процессе термического CVD указанные выше газы поглощают определенное количество тепловой энергии, проходя через нагретую подложку, и образуют...Читать далее -
Плазменное химическое осаждение из паровой фазы Глава 1
Химическое осаждение из паровой фазы (CVD). Как следует из названия, это метод, который использует газообразные исходные реагенты для создания твердых пленок посредством атомных и межмолекулярных химических реакций. В отличие от PVD, процесс CVD в основном осуществляется в среде с более высоким давлением (более низким вакуумом), с...Читать далее -
Элементы процесса и механизмы действия, влияющие на качество тонкопленочных устройств (часть 2)
3. Влияние температуры субстрата Температура субстрата является одним из важных условий роста мембраны. Она обеспечивает дополнительную энергетическую подпитку атомов или молекул мембраны и в основном влияет на структуру мембраны, коэффициент агглютинации, коэффициент расширения и агрегат...Читать далее -
Факторы и механизмы процесса, влияющие на качество тонкопленочных устройств (часть 1)
Изготовление оптических тонкопленочных устройств осуществляется в вакуумной камере, а рост слоя пленки представляет собой микроскопический процесс. Однако в настоящее время макроскопическими процессами, которые можно контролировать напрямую, являются некоторые макроскопические факторы, имеющие косвенную связь с качеством...Читать далее -
История развития технологии выпаривания введение
Процесс нагревания твердых материалов в условиях высокого вакуума для их сублимации или испарения и нанесения на определенную подложку для получения тонкой пленки известен как напыление в вакууме (далее — напыление в вакууме). История получения тонких пленок методом напыления в вакууме...Читать далее -
Введение в покрытие ITO
Оксид индия и олова (Indium Tin Oxide, также известный как ITO) — это широкозонный, сильнолегированный полупроводниковый материал n-типа с высоким коэффициентом пропускания видимого света и низким удельным сопротивлением, поэтому он широко используется в солнечных элементах, плоских дисплеях, электрохромных окнах, неорганических и органических...Читать далее -
Лабораторная вакуумная центрифужная машина для нанесения покрытий
Лабораторные вакуумные центрифугирующие установки являются важными инструментами в области осаждения тонких пленок и модификации поверхности. Это передовое оборудование предназначено для точного и равномерного нанесения тонких пленок из различных материалов на подложки. Процесс включает в себя нанесение жидкого раствора или суспензии...Читать далее -
Режим осаждения с помощью ионного пучка и его выбор энергии
Существует два основных режима осаждения с помощью ионного пучка: динамический гибридный; статический гибридный. Первый относится к пленке в процессе роста, всегда сопровождаемом определенной энергией и током пучка ионной бомбардировки и пленки; последний предварительно осаждается на поверхности ...Читать далее -
Технология ионно-лучевого осаждения
① Технология ионно-лучевого осаждения характеризуется прочной адгезией между пленкой и подложкой, слой пленки очень прочный. Эксперименты показали, что: адгезия ионно-лучевого осаждения, чем адгезия термического осаждения из паровой фазы, увеличилась в несколько раз до сотен ...Читать далее -
Вакуумное ионное покрытие
Вакуумное ионное покрытие (называемое ионным покрытием) было предложено в США в 1963 году компанией Somdia DM Mattox, 1970-е годы стали временем быстрого развития новой технологии обработки поверхности. Оно относится к использованию источника испарения или распыляемой мишени в вакуумной атмосфере, так что пленка...Читать далее -
Слой пленки в покрытом стекле удаляется способом
Стекло с покрытием делится на стекло с покрытием, нанесенным испарением, магнетронным распылением и нанесенным осаждением паров в линию. Поскольку метод подготовки пленки отличается, метод ее удаления также отличается. Предложение 1. Использование соляной кислоты и цинкового порошка для полировки и шлифовки...Читать далее -
Роль покрытий режущих инструментов — Глава 2
Даже при очень высоких температурах резания срок службы режущего инструмента может быть продлен с помощью покрытия, что значительно снижает затраты на обработку. Кроме того, покрытие режущего инструмента может снизить потребность в смазочных жидкостях. Не только снижает материальные затраты, но и помогает защитить окружающую среду...Читать далее
