Добро пожаловать в Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Новости отрасли
-
Применение оптических тонких пленок в производстве стекол с покрытием
Существует множество типов субстратов для очков и линз, например, CR39, PC (поликарбонат), 1,53 Trivex156, пластик со средним показателем преломления, стекло и т. д. Для корректирующих линз коэффициент пропускания как смоляных, так и стеклянных линз составляет всего около 91%, и часть света отражается обратно двумя с...Читать далее -
Характеристики вакуумной напылительной машины
1.Пленка вакуумного покрытия очень тонкая (обычно 0,01-0,1 мкм)| 2.Вакуумное покрытие можно использовать для многих пластиков, таких как ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA и т. д. 3.Температура формирования пленки низкая. В металлургической промышленности температура покрытия при горячем цинковании обычно составляет от 400 ℃ до...Читать далее -
Введение в технологию тонких пленок солнечных фотоэлектрических систем
После открытия фотоэлектрического эффекта в Европе в 1863 году, в США был создан первый фотоэлектрический элемент с (Se) в 1883 году. В первые дни фотоэлектрические элементы в основном использовались в аэрокосмической, военной и других областях. За последние 20 лет резкое снижение стоимости фотоэлектрических элементов...Читать далее -
Технологический процесс машины для нанесения покрытий методом напыления
1. Бомбардировка очищающей подложки 1.1) Машина для распыления использует тлеющий разряд для очистки подложки. То есть, заряжает газ аргон в камере, напряжение разряда составляет около 1000 В, После включения питания генерируется тлеющий разряд, и подложка очищается ...Читать далее -
Применение оптической пленки в мобильных телефонах
Применение оптических тонких пленок в потребительской электронике, такой как мобильные телефоны, перешло от традиционных объективов камер к более разнообразным направлениям, таким как объективы камер, защитные пленки для объективов, инфракрасные отсекающие фильтры (IR-CUT) и покрытие NCVM на крышках аккумуляторов сотовых телефонов. Специфика...Читать далее -
Характеристики оборудования для нанесения покрытий методом химического осаждения из газовой фазы
Технология нанесения покрытий методом химического осаждения из газовой фазы имеет следующие характеристики: 1. Технологический процесс оборудования для химического осаждения из газовой фазы относительно прост и гибок, и с его помощью можно изготавливать отдельные или составные пленки, а также пленки из сплавов с различными пропорциями; 2. Покрытие методом химического осаждения из газовой фазы имеет широкий спектр применения и может использоваться для подготовки...Читать далее -
Каковы процессы вакуумного напыления? Каков принцип работы?
Процесс вакуумного напыления подразделяется на: нанесение покрытия методом вакуумного напыления, нанесение покрытия методом вакуумного напыления и нанесение покрытия методом вакуумного ионного напыления. 1. Нанесение покрытия методом вакуумного напыления. В условиях вакуума материал, например металл, металлический сплав и т. д., испаряется, а затем наносится на поверхность подложки...Читать далее -
Для чего нужен вакуумный аппарат?
1. Что такое процесс вакуумного покрытия? Какова его функция? Так называемый процесс вакуумного покрытия использует испарение и распыление в вакуумной среде для выделения частиц пленочного материала, которые наносятся на металл, стекло, керамику, полупроводники и пластиковые детали для формирования слоя покрытия, для деко...Читать далее -
Экологические требования к оборудованию для вакуумного нанесения покрытий
Поскольку вакуумное напылительное оборудование работает в условиях вакуума, оно должно соответствовать требованиям вакуума для окружающей среды. Отраслевые стандарты для различных типов вакуумного напылительного оборудования, разработанные в моей стране (включая общие технические условия для вакуумного напылительного оборудования,...Читать далее -
Характеристики и применение ионного осаждения
Тип пленки Материал пленки Подложка Характеристики пленки и применение Металлическая пленка CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt сталь, мягкая стальТитановый сплав, высокоуглеродистая сталь, мягкая стальТитановый сплавТвердый стеклопластик Никель, сталь Inconel, нержавеющая сталь Кремний Противоизносные ...Читать далее -
Вакуумное ионное покрытие и его классификация
Вакуумное ионное напыление (сокращенно ионное напыление) — это новая технология обработки поверхности, которая быстро развивалась в 1970-х годах и была предложена в 1963 году DM Mattox из компании Somdia в США. Она представляет собой процесс использования источника испарения или распыляемой мишени для испарения или распыления...Читать далее -
Машина для нанесения оптического покрытия может использоваться для нанесения покрытия на несколько оптических пленок.
① Антибликовая пленка. Например, камеры, диапроекторы, проекторы, кинопроекторы, телескопы, визоры и однослойные пленки MgF, нанесенные на линзы и призмы различных оптических приборов, а также двухслойные или многослойные широкополосные антибликовые пленки, состоящие из SiOFrO2, AlO, ...Читать далее -
Характеристики напыляемых пленок покрытий
① Хорошая управляемость и повторяемость толщины пленки Возможность управления толщиной пленки на заданном уровне называется управляемостью толщины пленки. Требуемая толщина пленки может быть повторена много раз, что называется повторяемостью толщины пленки. Поскольку разряд...Читать далее -
Краткое введение в технологию химического осаждения из паровой фазы (CVD)
Технология химического осаждения из паровой фазы (CVD) — это технология формирования плёнки, которая использует нагрев, плазменное усиление, фотосодействие и другие средства для того, чтобы газообразные вещества образовывали твёрдые плёнки на поверхности подложки посредством химической реакции при нормальном или низком давлении. Как правило, реакция в...Читать далее -
Факторы, влияющие на производительность вакуумного напыления
1. Скорость испарения повлияет на свойства испаряемого покрытия Скорость испарения оказывает большое влияние на осажденную пленку. Поскольку структура покрытия, образованная при низкой скорости осаждения, рыхлая и легко образует крупные частицы, можно с уверенностью выбрать более высокую скорость испарения...Читать далее
