Em termos gerais, a CVD pode ser dividida em dois tipos: um é a deposição de vapor de um único produto sobre o substrato, uma camada epitaxial monocristalina, que é estritamente chamada de CVD; o outro é a deposição de filmes finos sobre o substrato, incluindo filmes amorfos e de múltiplos produtos. De acordo com...
A partir disso, pretendemos esclarecer: (1) dispositivos de película fina, espectros de transmitância, reflectância e a cor da relação correspondente entre eles, ou seja, um espectro de uma cor; pelo contrário, essa relação "não é única", manifestando-se como um multiespectro de cores. Portanto, o filme...
Os espectros de transmissão e refletância e as cores de filmes finos ópticos são duas características de dispositivos de filmes finos que existem simultaneamente. 1. O espectro de transmissão e refletância é a relação entre a refletância e a transmitância de dispositivos de filmes finos ópticos com o comprimento de onda. É...
A máquina de revestimento a vácuo AF por evaporação óptica de película fina (PVD) foi projetada para aplicar revestimentos de película fina em dispositivos móveis usando o processo de deposição física de vapor (PVD). O processo envolve a criação de um ambiente de vácuo dentro de uma câmara de revestimento, onde os materiais sólidos são evaporados e, em seguida, depositados...
A máquina para fabricação de espelhos com revestimento a vácuo de alumínio e prata revolucionou a indústria de fabricação de espelhos com sua tecnologia avançada e engenharia de precisão. Esta máquina de última geração foi projetada para aplicar uma fina camada de alumínio e prata na superfície do vidro, criando...
O metalizador óptico a vácuo é uma tecnologia de ponta que revolucionou a indústria de revestimentos de superfície. Esta máquina avançada utiliza um processo chamado metalização óptica a vácuo para aplicar uma fina camada de metal a uma variedade de substratos, criando uma superfície altamente refletiva e durável...
A maioria dos elementos químicos pode ser vaporizada combinando-os com grupos químicos, por exemplo, o Si reage com o H para formar SiH4, e o Al combina-se com o CH3 para formar Al(CH3). No processo de CVD térmico, os gases acima absorvem uma certa quantidade de energia térmica ao passarem pelo substrato aquecido e formam...
Deposição Química de Vapor (CVD). Como o nome indica, é uma técnica que utiliza reagentes precursores gasosos para gerar filmes sólidos por meio de reações químicas atômicas e intermoleculares. Ao contrário da PVD, o processo de CVD é realizado principalmente em um ambiente de alta pressão (menor vácuo), com...
3. Influência da temperatura do substrato A temperatura do substrato é uma das condições importantes para o crescimento da membrana. Ela fornece suplemento energético adicional aos átomos ou moléculas da membrana e afeta principalmente a estrutura da membrana, o coeficiente de aglutinação, o coeficiente de expansão e a agregação...
A fabricação de dispositivos ópticos de filme fino é realizada em uma câmara de vácuo, e o crescimento da camada de filme é um processo microscópico. No entanto, atualmente, os processos macroscópicos que podem ser controlados diretamente são alguns fatores macroscópicos que têm uma relação indireta com a quali...
O processo de aquecimento de materiais sólidos em um ambiente de alto vácuo para sublimar ou evaporar e depositá-los em um substrato específico para obter uma película fina é conhecido como revestimento por evaporação a vácuo (referido como revestimento por evaporação). A história da preparação de filmes finos por evaporação a vácuo...
O óxido de índio e estanho (óxido de índio e estanho, conhecido como ITO) é um material semicondutor do tipo n, altamente dopado e com ampla banda proibida, com alta transmitância de luz visível e características de baixa resistividade, sendo, portanto, amplamente utilizado em células solares, telas planas, janelas eletrocrômicas, materiais inorgânicos e orgânicos...
Os centrifugadores a vácuo de laboratório são ferramentas importantes na área de deposição de filmes finos e modificação de superfícies. Este equipamento avançado foi projetado para aplicar com precisão e uniformidade filmes finos de diversos materiais em substratos. O processo envolve a aplicação de uma solução líquida ou sus...
Existem dois modos principais de deposição assistida por feixe de íons: um é o híbrido dinâmico; o outro é o híbrido estático. O primeiro refere-se ao filme em processo de crescimento, sempre acompanhado por uma certa energia e corrente de feixe de bombardeamento de íons e filme; o último é pré-depositado na superfície do...
① A tecnologia de deposição assistida por feixe de íons é caracterizada pela forte adesão entre o filme e o substrato, sendo a camada do filme muito resistente. Experimentos demonstraram que a adesão da deposição assistida por feixe de íons é várias vezes maior do que a adesão da deposição térmica a vapor, chegando a centenas de vezes...