An der haiteger, séier evoluéierter Welt, wou visuell Inhalter vill Afloss hunn, spillt d'optesch Beschichtungstechnologie eng wichteg Roll bei der Verbesserung vun der Qualitéit vu verschiddenen Ecranen. Vu Smartphones bis Fernsehbildschirmer hunn optesch Beschichtungen d'Aart a Weis wéi mir visuell Inhalter gesinn an erliewen revolutionéiert. ...
Magnetron-Sputterbeschichtung gëtt mat Glüh-Entladung duerchgefouert, mat enger gerénger Entladungsstroumdicht an enger gerénger Plasmadicht an der Beschichtungskammer. Dëst mécht d'Magnetron-Sputtertechnologie mat Nodeeler wéi enger gerénger Bindungskraaft vum Filmsubstrat, enger gerénger Metallioniséierungsquote an enger gerénger Oflagerungsquote...
1. Nëtzlech fir d'Sputteren an d'Beschichtung vun Isolatiounsfolien. Déi séier Ännerung vun der Elektrodenpolaritéit kann benotzt ginn, fir isoléierend Ziler direkt ze sputteren, fir isoléierend Filmer ze kréien. Wann eng Gläichstroumquell benotzt gëtt, fir d'Isolatiounsfolie ze sputteren an ofzesetzen, blockéiert d'Isolatiounsfolie positiv Ionen, déi erakommen...
1. De Vakuumverdampfungsbeschichtungsprozess ëmfaasst d'Verdampfung vu Filmmaterialien, den Transport vun Dampatome am Héichvakuum, an de Prozess vun der Keimbildung a Wuesstem vun Dampatome op der Uewerfläch vum Werkstéck. 2. Den Oflagerungsvakuumgrad vun der Vakuumverdampfungsbeschichtung ass héich, generell...
TiN ass déi fréist haart Beschichtung, déi a Schneidinstrumenter benotzt gouf, mat Virdeeler wéi héijer Festigkeit, héijer Häert a Verschleißbeständegkeet. Et ass dat éischt industrialiséiert an wäit verbreet haart Beschichtungsmaterial, dat wäit verbreet a beschichteten Instrumenter a beschichtete Formen agesat gëtt. D'Hart TiN Beschichtung gouf ufanks bei 1000 ℃ ofgesat...
Héichenergetescht Plasma kann Polymermaterialien bombardéieren an bestrahlen, wouduerch hir molekular Ketten zerstéiert ginn, aktiv Gruppen entstinn, d'Uewerflächenenergie erhéicht an Ätzung generéiert. D'Plasmaoberflächenbehandlung beaflosst net déi intern Struktur an d'Leeschtung vum Groussmaterial, mä nëmmen däitlech...
De Prozess vun der kathodescher Bouquell-Ionenbeschichtung ass am Fong dee selwechte wéi aner Beschichtungstechnologien, an e puer Operatiounen wéi d'Installatioun vun Werkstécker an d'Staubsaugen ginn net méi widderholl. 1. Bombardementreinigung vun de Werkstécker Virum Beschichtungsprozess gëtt Argongas mat engem...
1. Charakteristike vum Elektronenstroum duerch Bougeliicht D'Dicht vum Elektronenstroum, Ionenstroum an héichenergeteschen neutralen Atomer am Bouplasma, déi duerch Bouentladung generéiert ginn, ass vill méi héich wéi déi vun der Glühentladung. Et gi méi Gasionen a Metallionen, déi ioniséiert, ugereegt héichenergeteschen Atomer a verschidde aktiv Gro...
1) Plasmaoberflächenmodifikatioun bezitt sech haaptsächlech op verschidde Modifikatioune vu Pabeier, organesche Folien, Textilien a chemesche Faseren. D'Benotzung vu Plasma fir d'Textilmodifikatioun erfuerdert keng Aktivatoren, an de Behandlungsprozess beschiedegt d'Charakteristike vun de Faseren selwer net. ...
D'Uwendung vun opteschen Dënnschichten ass ganz extensiv, vu Brëller, Kameralënsen, Handykameraen, LCD-Bildschirmer fir Handyen, Computeren an Fernseher, LED-Beliichtung, biometresch Geräter, bis hin zu energiespuerenden Fënsteren an Autoen a Gebaier, souwéi medizinesch Instrumenter, ...
1. Aart vu Film am Informatiounsdisplay Nieft TFT-LCD an OLED Dënnfilmer enthält den Informatiounsdisplay och Verdrahtungselektrodefilmer an transparent Pixelelektrodefilmer am Displaypanel. De Beschichtungsprozess ass de Kärprozess vum TFT-LCD an OLED Display. Mam kontinuéierleche Prog...
Wärend der Verdampfungsbeschichtung sinn d'Keimbildung an d'Wuesstum vun der Filmschicht d'Basis vu verschiddenen Ionenbeschichtungstechnologien 1. Keimbildung An der Vakuumverdampfungsbeschichtungstechnologie fléien d'Filmschichtpartikelen, nodeems se aus der Verdampfungsquell a Form vun Atomer verdampft sinn, direkt an d'W ...
1. D'Bias vum Werkstéck ass niddreg. Duerch d'Zousätz vun engem Apparat fir d'Ioniséierungsquote ze erhéijen, gëtt d'Entladungsstroumdicht erhéicht an d'Biasspannung op 0,5~1kV reduzéiert. D'Récksputterung, verursaacht duerch exzessivt Bombardement vun héichenergeteschen Ionen, an den Effekt op d'Uewerfläch vum Werkstéck...
1) Zylindresch Ziler hunn eng méi héich Auslastungsquote wéi planar Ziler. Am Beschichtungsprozess, egal ob et e rotéierend Magnéit-Typ oder e rotéierend Rouer-Zylindrescht Sputterzil ass, passéieren all Deeler vun der Uewerfläch vum Zilrouer kontinuéierlech duerch de Sputterberäich, deen virum ... generéiert gëtt.
Plasma-Direktpolymerisatiounsprozess De Prozess vun der Plasmapolymerisatioun ass relativ einfach souwuel fir intern Elektrodenpolymerisatiounsausrüstung wéi och fir extern Elektrodenpolymerisatiounsausrüstung, awer d'Parameterauswiel ass méi wichteg bei der Plasmapolymerisatioun, well d'Parameteren eng méi grouss ...