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ニュース
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CVD技術の種類
CVDは大きく分けて2つの種類に分けられます。1つは基板上に単結晶エピタキシャル層を蒸着する単結晶CVD、もう1つは基板上に多結晶やアモルファス膜などの薄膜を堆積する多結晶CVDです。CVDは、基板上に単結晶エピタキシャル層を蒸着する単結晶CVDと、基板上に多結晶やアモルファス膜などの薄膜を堆積する多結晶CVDに分類されます。CVDは、基板上に単結晶エピタキシャル層を蒸着する単結晶CVDに分類されます。続きを読む -
光学薄膜の透過・反射スペクトルと色 第2章
これから明らかにしたいのは、(1) 薄膜デバイス、透過率、反射率スペクトル、そして色の間の対応関係、つまり色のスペクトル。しかし、この関係は「一意」ではなく、色の多重スペクトルとして現れる。したがって、薄膜デバイスは...続きを読む -
光学薄膜の透過・反射スペクトルと色 第1章
光学薄膜の透過・反射スペクトルと色は、薄膜デバイスが同時に持つ2つの特性です。1. 透過・反射スペクトルとは、光学薄膜デバイスの反射率と透過率と波長の関係です。これは、光学薄膜デバイスの透過率と反射率の波長依存性を表しています。続きを読む -
AF薄膜蒸着光学PVD真空コーティング装置
AF薄膜蒸着光学PVD真空コーティング装置は、物理蒸着（PVD）プロセスを用いてモバイルデバイスに薄膜コーティングを施すように設計されています。このプロセスでは、コーティングチャンバー内に真空環境を作り出し、固体材料を蒸発させてから蒸着させます。続きを読む -
アルミ銀真空コーティングミラー製造機
アルミ銀真空コーティングミラー製造機は、その高度な技術と精密工学により、ミラー製造業界に革命をもたらしました。この最先端の機械は、ガラスの表面にアルミ銀の薄いコーティングを施すことで、高品質なミラーを作り出すように設計されています。続きを読む -
光学真空コーティング機
光学真空蒸着装置は、表面コーティング業界に革命をもたらした最先端技術です。この先進的な装置は、光学真空蒸着と呼ばれるプロセスを用いて、様々な基板に薄い金属層を塗布し、反射率が高く耐久性のある表面コーティングを実現します。続きを読む -
プラズマ化学蒸着法 第2章
ほとんどの化学元素は、化学基と結合することで気化できます。例えば、SiはHと反応してSiH4を形成し、AlはCH3と反応してAl(CH3)を形成します。熱CVDプロセスでは、上記のガスは加熱された基板を通過する際に一定量の熱エネルギーを吸収し、再…続きを読む -
プラズマ化学蒸着法 第1章
化学蒸着（CVD）。その名の通り、気体の前駆体反応物を用いて原子および分子間の化学反応によって固体膜を生成する技術です。PVDとは異なり、CVDプロセスは主に高圧（低真空）環境で行われ、…続きを読む -
薄膜デバイスの品質に影響を与えるプロセス要素と動作メカニズム（パート2）
3. 基質温度の影響 基質温度は膜成長にとって重要な条件の一つです。膜原子または分子にエネルギーを補給し、主に膜構造、凝集係数、膨張係数、凝集度に影響を与えます。続きを読む -
薄膜デバイスの品質に影響を与えるプロセス要因とメカニズム（パート1）
光学薄膜デバイスの製造は真空チャンバー内で行われ、薄膜の成長は微視的なプロセスです。しかしながら、現状では直接制御可能なマクロ的なプロセスは、品質に間接的な影響を与えるマクロ的な要因に限られています。続きを読む -
蒸発技術開発の歴史紹介
高真空環境下で固体材料を加熱・昇華または蒸発させ、特定の基板上に堆積させて薄膜を得るプロセスは、真空蒸着コーティング（蒸着コーティングとも呼ばれる）として知られています。真空蒸着による薄膜作製の歴史は…続きを読む -
ITOコーティングの紹介
インジウムスズ酸化物（インジウムスズ酸化物、ITO と呼ばれる）は、広いバンドギャップ、高濃度ドープの n 型半導体材料であり、高い可視光透過率と低い抵抗率の特性を備えているため、太陽電池、フラットパネルディスプレイ、エレクトロクロミックウィンドウ、無機および有機の...続きを読む -
ラボ用真空スピンコーティング機
実験室用真空スピンコーターは、薄膜堆積および表面改質の分野において重要なツールです。この高度な装置は、様々な材料の薄膜を基板に正確かつ均一に塗布するために設計されています。このプロセスでは、溶液または懸濁液を基板に塗布します。続きを読む -
イオンビーム支援蒸着モードとそのエネルギー選択
イオンビームアシスト蒸着には主に2つのモードがあり、一つはダイナミックハイブリッド、もう一つはスタティックハイブリッドです。前者は、成長プロセスにおいて常に一定のエネルギーとビーム電流でイオンが照射され、薄膜が形成されるプロセスです。後者は、薄膜表面にあらかじめイオンビームを照射して薄膜を堆積させるプロセスです。続きを読む -
イオンビーム蒸着技術
① イオンビームアシスト蒸着技術は、フィルムと基板間の密着性が強く、フィルム層が非常に強固であるという特徴があります。実験では、イオンビームアシスト蒸着の密着性は、熱蒸着に比べて数倍から数百倍向上することが示されています。続きを読む
