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Branchennachrichten
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Heißdrahtlichtbogen-verstärkte plasmachemische Gasphasenabscheidungstechnologie
Bei der Heißdraht-Lichtbogen-verstärkten Plasma-Chemical-Vapor-Deposition-Technologie wird die Heißdraht-Lichtbogenpistole zur Emission von Lichtbogenplasma verwendet, abgekürzt als Heißdraht-Lichtbogen-PECVD-Technologie.Diese Technologie ähnelt der Ionenbeschichtungstechnologie mit Heißdraht-Lichtbogenpistole, der Unterschied besteht jedoch darin, dass der durch Heißdraht-Lichtbogenpistole erhaltene feste Film ...Weiterlesen -
Einführung in konventionelle Techniken zur Abscheidung harter Beschichtungen
1. Thermische CVD-Technologie Bei harten Beschichtungen handelt es sich meist um Metallkeramikbeschichtungen (TiN usw.), die durch die Reaktion von Metall in der Beschichtung und reaktive Vergasung entstehen.Zunächst wurde die thermische CVD-Technologie verwendet, um die Aktivierungsenergie der Kombinationsreaktion durch thermische Energie bei einem ... bereitzustellen.Weiterlesen -
Was ist eine Widerstandsverdunstungsquellenbeschichtung?
Die Widerstandsverdampfungsquellenbeschichtung ist eine grundlegende Vakuumverdampfungsbeschichtungsmethode.„Verdampfung“ bezieht sich auf eine Methode zur Herstellung dünner Filme, bei der das Beschichtungsmaterial in der Vakuumkammer erhitzt und verdampft wird, sodass die Materialatome oder -moleküle verdampfen und aus dem...Weiterlesen -
Einführung in die kathodische Lichtbogen-Ionenplattierungstechnologie
Die kathodische Lichtbogen-Ionenbeschichtungstechnologie nutzt die Kaltfeld-Bogenentladungstechnologie.Die früheste Anwendung der Kaltfeld-Bogenentladungstechnologie im Beschichtungsbereich erfolgte durch die Multi Arc Company in den Vereinigten Staaten.Der englische Name dieses Verfahrens ist Arc Ionplating (AIP).Kathodenbogen-Ionenbeschichtung...Weiterlesen -
Die Anwendung optischer Dünnschichten in der beschichteten Glasindustrie
Es gibt viele Arten von Substraten für Brillen und Linsen, wie CR39, PC (Polycarbonat), 1,53 Trivex156, Kunststoff mit mittlerem Brechungsindex, Glas usw. Bei Korrekturlinsen beträgt die Durchlässigkeit sowohl von Harz- als auch von Glaslinsen nur etwa 91 %. und ein Teil des Lichts wird von den beiden zurückreflektiert...Weiterlesen -
Merkmale der Vakuumbeschichtungsmaschine
1.Der Film der Vakuumbeschichtung ist sehr dünn (normalerweise 0,01–0,1 um)|2. Die Vakuumbeschichtung kann für viele Kunststoffe wie ABS, PE, PP, PVC, PA, PC, PMMA usw. verwendet werden. 3. Die Filmbildungstemperatur ist niedrig.In der Eisen- und Stahlindustrie liegt die Beschichtungstemperatur beim Feuerverzinken im Allgemeinen zwischen 400 °C und ...Weiterlesen -
Einführung in die Solar-Photovoltaik-Dünnschichttechnologie
Nach der Entdeckung des Photovoltaikeffekts in Europa im Jahr 1863 stellten die Vereinigten Staaten 1883 die erste Photovoltaikzelle mit (Se) her. In der Anfangszeit wurden Photovoltaikzellen hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, im Militär und in anderen Bereichen eingesetzt.In den letzten 20 Jahren sind die Kosten für Photovoltaik stark gesunken...Weiterlesen -
Prozessablauf der Sputterbeschichtungsmaschine
1. Bombardierungsreinigungssubstrat 1.1) Sputtering-Beschichtungsmaschine verwendet Glimmentladung, um das Substrat zu reinigen.Das heißt, laden Sie das Argongas in die Kammer, die Entladungsspannung beträgt etwa 1000 V. Nach dem Einschalten der Stromversorgung wird eine Glimmentladung erzeugt und das Substrat wird durch ... gereinigt.Weiterlesen -
Anwendung optischer Folien in Mobiltelefonprodukten
Die Anwendung optischer Dünnfilme in Unterhaltungselektronikprodukten wie Mobiltelefonen hat sich von herkömmlichen Kameraobjektiven hin zu einer diversifizierten Richtung verlagert, wie z. B. Kameraobjektive, Objektivschutz, Infrarot-Sperrfilter (IR-CUT) und NCVM-Beschichtung auf Batterieabdeckungen von Mobiltelefonen .Kamerageschwindigkeit...Weiterlesen -
Eigenschaften von CVD-Beschichtungsanlagen
Die CVD-Beschichtungstechnologie weist die folgenden Merkmale auf: 1. Der Prozessbetrieb von CVD-Geräten ist relativ einfach und flexibel und es können Einzel- oder Verbundfilme sowie Legierungsfilme mit unterschiedlichen Anteilen hergestellt werden.2. Die CVD-Beschichtung hat ein breites Anwendungsspektrum und kann zur Vorbehandlung verwendet werden.Weiterlesen -
Was sind die Verfahren der Vakuumbeschichtungsmaschine?Was ist das Funktionsprinzip?
Der Prozess der Vakuumbeschichtungsmaschine ist unterteilt in: Vakuumverdampfungsbeschichtung, Vakuumsputterbeschichtung und Vakuumionenbeschichtung.1、Vakuumverdampfungsbeschichtung Lassen Sie unter Vakuumbedingungen das Material verdampfen, z. B. das Metall, die Metalllegierung usw., und lagern Sie es dann auf der Substratoberfläche ab ...Weiterlesen -
Wozu dient die Vakuummaschine?
1、Was ist ein Vakuumbeschichtungsverfahren?Was ist die Funktion?Der sogenannte Vakuumbeschichtungsprozess nutzt Verdampfung und Sputtern in einer Vakuumumgebung, um Partikel aus Filmmaterial zu emittieren, die auf Metall, Glas, Keramik, Halbleitern und Kunststoffteilen abgeschieden werden, um eine Beschichtungsschicht zu bilden, zur Dekoration...Weiterlesen -
Umweltanforderungen für Vakuumbeschichtungsgeräte
Da Vakuumbeschichtungsanlagen unter Vakuumbedingungen arbeiten, müssen die Anlagen den Anforderungen des Vakuums an die Umgebung genügen.Die in meinem Land formulierten Industriestandards für verschiedene Arten von Vakuumbeschichtungsgeräten (einschließlich allgemeiner technischer Bedingungen für Vakuumbeschichtungsgeräte, ...)Weiterlesen -
Die Eigenschaften und Anwendung der Ionenplattierung
Filmtyp Filmmaterial Substrat Filmeigenschaften und Anwendung Metallfilm CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt Stahl, WeichstahlTitanlegierung, Kohlenstoffstahl, WeichstahlTitanlegierungHartglas Kunststoff Nickel, Inconel-Stahl, Edelstahl Silizium Verschleißschutz ...Weiterlesen -
Vakuumionenbeschichtung und ihre Klassifizierung
Vakuum-Ionenplattieren (kurz Ionenplattieren) ist eine neue Oberflächenbehandlungstechnologie, die in den 1970er Jahren schnell entwickelt wurde und 1963 von DM Mattox von der Somdia Company in den Vereinigten Staaten vorgeschlagen wurde. Es bezieht sich auf den Prozess der Verwendung einer Verdampfungsquelle oder des Sputterns Ziel zum Verdampfen oder Spucken...Weiterlesen
