Сардэчна запрашаем у кампанію Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Паведамленні
-
Праблемы стабільнасці абсталявання для вакуумнага пакрыцця ў бесперапыннай вытворчасці
Бесперапынная вытворчасць у вакуумных умовах нанясення пакрыццяў стварае унікальныя праблемы, якія непасрэдна ўплываюць на стабільнасць абсталявання, паўтаральнасць працэсу і якасць тонкай плёнкі. У высокапрадукцыйных лініях PVD, магнетроннага распылення, ALD або PECVD падтрыманне стабільных параметраў нанясення пакрыццяў на працягу працяглага часу...Чытаць далей -
Ці выходзіць з ладу ваша мікрадрыль у высокачастотных друкаваных платах і падкладках мікрасхем 5G?
Прадмова: Ад міжзлучальных злучэнняў да праблем мікраннага ўзроўню З хуткім развіццём сувязі 5G, сервераў штучнага інтэлекту і перадавых тэхналогій упакоўкі вытворчасць друкаваных плат (ПХБ) ператварылася ў платформу высокай шчыльнасці на аснове мікраадводаў. Укараненне плат HDI, шматслаёвых ПХБ,...Чытаць далей -
Розніца ў абсталяванні паміж высокаадбівальнымі і нізкаадбівальнымі пакрыццямі пры вакуумным нанясенні
У тэхналогіях вакуумнага пакрыцця тонкія плёнкі з высокім (HR) і нізкім (AR) адлюстраваннем ствараюць розныя праблемы і патрабаванні, якія непасрэдна ўплываюць на канструкцыю абсталявання, кіраванне працэсамі і стратэгіі нанясення. Хоць абодва тыпы пакрыццяў залежаць ад дакладнага кантролю таўшчыні плёнкі, стэіч...Чытаць далей -
Уплыў рэшткавых газаў на ўласцівасці тонкіх плёнак у працэсах вакуумнага пакрыцця
У тэхналогіях вакуумнага пакрыцця прысутнасць рэшткавых газаў у камеры нанясення можа істотна паўплываць на структурныя, аптычныя і механічныя ўласцівасці тонкіх плёнак. Незалежна ад таго, ці выкарыстоўваюцца працэсы PVD, магнетроннага распылення, ALD або PECVD, рэшткавыя газавыя часціцы, у тым ліку вадзяная пара, кісларод...Чытаць далей -
Падтрыманне стабільнай працы абсталявання для вакуумнага пакрыцця ва ўмовах высокай нагрузкі
У сучаснай вытворчасці вакуумных пакрыццяў высокія нагрузкі ствараюць значныя праблемы для стабільнасці і паслядоўнасці нанясення тонкіх плёнак. Па меры павелічэння патрабаванняў да высокай прадукцыйнасці, вялікіх памераў падкладак і шматслаёвых складаных пакрыццяў, сістэмы вакуумнага пакрыцця — няхай гэта будзе PVD, магнітныя...Чытаць далей -
Вызначальная роля складу матэрыялу мішэні на аптычныя характарыстыкі тонкай плёнкі
У сучасных тэхналогіях вакуумнага нанясення пакрыццяў аптычныя характарыстыкі тонкіх плёнак непарыўна звязаны са складам і якасцю матэрыялу мішэні, які выкарыстоўваецца ў працэсах нанясення. Незалежна ад таго, ці выкарыстоўваецца PVD, магнетроннае распыленне, ці перадавыя сістэмы ALD і PECVD, мішэнь служыць фундаментальным элементам...Чытаць далей -
Уплыў хуткаснай адпампоўкі на чысціню тонкай плёнкі
Пры фізічным асаджэнні з паравой фазы (PVD) і звязаных з імі працэсах вакуумнага пакрыцця чысціня плёнкі часта спрашчана асацыюецца з унутранай чысцінёй мэтавых або зыходных матэрыялаў. Аднак у практычнай вытворчасці канчатковая чысціня напыленай плёнкі вызначаецца не толькі складам матэрыялу, але і...Чытаць далей -
Аптымізацыя аптычных праекцыйных экранаў Zhenhua Vacuum Empowering | Магнетроннае распыленне GFM1916
1. Перадгісторыя прымянення З хуткім развіццём інтэлектуальных кабін пілотаў і перадавых тэхналогій дысплеяў, аптычныя кампаненты, такія як сістэмы HUD (праекцыйны дысплей) і ахоўнае шкло аўтамабільных дысплеяў, прад'яўляюць усё больш жорсткія патрабаванні да характарыстык пакрыцця. Тонкія плёнкі павінны не толькі д...Чытаць далей -
Zhuhua Vacuum дазваляе мадэрнізаваць працэсы электродаў для электронных кампанентаў | Рашэнне для бесперапыннай тонкаплёнкавай металізацыі керамічных кандэнсатараў і рэзістараў
№ 1 Перадгісторыя прымянення Электронныя кампаненты, такія як варыстары, тэрмістары і керамічныя дыэлектрычныя кандэнсатары, шырока выкарыстоўваюцца ў бытавой электроніцы, аўтамабільнай электроніцы, прамысловых сістэмах кіравання і новых энергетычных прымяненнях. Гэтыя галіны прад'яўляюць усё больш жорсткія патрабаванні да ...Чытаць далей -
Уплыў розных рэжымаў разраду на мікраструктуру пакрыццяў
У працэсе вакуумнага пакрыцця мікраструктура тонкіх плёнак адыгрывае вырашальную ролю ў вызначэнні іх механічных уласцівасцей, аптычных характарыстык і каразійнай устойлівасці. На мікраструктуру ў першую чаргу ўплываюць такія фактары, як шчыльнасць плёнкі, памер зерня, напружаны стан і шурпатасць паверхні...Чытаць далей -
Розніца паміж высокачастотнымі і сярэднечастотнымі крыніцамі харчавання пры вакуумным пакрыцці
У працэсах магнетроннага распылення і плазменнага нанясення тып крыніцы харчавання адыгрывае вырашальную ролю ў вызначэнні стабільнасці плазмы, эфектыўнасці распылення, шчыльнасці плёнкі і паўтаральнасці працэсу. Найбольш шырока выкарыстоўванымі тыпамі крыніц харчавання з'яўляюцца радыёчастотныя (РЧ) крыніцы харчавання і крыніцы харчавання сярэдняй частаты...Чытаць далей -
Zhenhua Vacuum: Высокакансістэнцыяльныя пакрыцці для напаўпразрыстай падсветленай аўтамабільнай аздаблення
№ 1 Перадгісторыя прымянення З хуткім укараненнем канцэпцый інтэлектуальнага асвятлення салона, кампаненты аўтамабільнай аздаблення ператвараюцца з чыста дэкаратыўных дэталяў у функцыянальныя падсветленыя элементы. Такія кампаненты, як дэталі ўнутранага асвятлення і напаўпразрыстыя падсветленыя лагатыпы, з'яўляюцца...Чытаць далей -
Тэхнічныя праблемы шматкамерных бесперапынных вакуумных сістэм пакрыцця
1. Тэхналагічныя асновы: ад аднакамернай пакетнай апрацоўкі да бесперапыннай вытворчасці. З ростам патрабаванняў да прапускной здольнасці, стабільнасці і кансістэнцыі пакрыцця ў аўтамабільнай оптыцы, дысплейных панэлях, кампанентах разумнай кабіны і функцыянальных дэкаратыўных плёнках, традыцыйная аднакамерная пакетная ...Чытаць далей -
Чаму модульная канструкцыя важная для абсталявання для вакуумнага пакрыцця?
1. Перадгісторыя галіны: дыверсіфікацыя працэсаў стымулюе развіццё абсталявання. З пастаяннай сегментацыяй такіх абласцей прымянення, як кампаненты салона аўтамабіляў, аптычныя прыборы, бытавая электроніка, цвёрдыя пакрыцці і функцыянальныя плёнкі, працэсы вакуумнага пакрыцця становяцца ўсё больш ...Чытаць далей -
Крытычная роля распрацоўкі крыніцы выпарэння ў кантролі якасці тонкай плёнкі
У працэсах фізічнага нанясення паравой фазы (PVD), заснаваных на тэрмічным выпарэнні, якасць плёнкі вызначаецца не толькі ўзроўнем вакууму, матэрыялам падкладкі або параметрамі працэсу. Структурная канструкцыя крыніцы выпарэння адыгрывае фундаментальную ролю ў вызначэнні стабільнасці нанясення, аднастайнасці плёнкі, ...Чытаць далей
