У свеце пастаяннага тэхналагічнага прагрэсу прынцып плазменнай ачысткі змяніў правілы гульні. Гэтая рэвалюцыйная тэхналогія ачысткі набыла папулярнасць ва ўсіх галінах прамысловасці дзякуючы сваёй эфектыўнасці і дзейснасці. Сёння мы паглыбімся ў прынцыпы плазменных ачышчальнікаў і тое, як яны могуць змяніць наш спосаб ачысткі.
Плазменныя ачышчальнікі працуюць па ўнікальным прынцыпе, які адрознівае іх ад традыцыйных метадаў ачысткі. Спалучаючы газ нізкага ціску і электрычныя палі, плазменныя ачышчальнікі ствараюць высокаэнергетычнае асяроддзе, здольнае выдаляць паверхневыя забруджванні і прымешкі. Гэты працэс называецца плазменнай ачысткай.
Канцэпцыя плазменнай ачысткі заснавана на іанізацыі газаў. Калі газ нізкага ціску, напрыклад, аргон або кісларод, падвяргаецца ўздзеянню электрычнага поля, ён іянізуецца, утвараючы плазму. Плазма, якую часта называюць чацвёртым станам рэчыва, складаецца з энергічнага газу, які змяшчае свабодныя электроны, іоны і нейтральныя атамы.
Плазма, якая вырабляецца плазменным ачышчальнікам, валодае ўнікальнымі ачышчальнымі ўласцівасцямі. Па-першае, яна можа эфектыўна выдаляць арганічныя і неарганічныя забруджванні з розных паверхняў, у тым ліку з металаў, шкла, керамікі і палімераў. Па-другое, плазма можа змяняць паверхневыя ўласцівасці матэрыялу, паляпшаючы яго адгезійныя якасці, спрыяючы лепшаму змочванню і спрашчаючы наступныя працэсы нанясення пакрыццяў або склейвання.
Працэс ачысткі плазменным ачышчальнікам складаецца з некалькіх этапаў. Спачатку паверхня, якая падлягае ачыстцы, змяшчаецца ў вакуумную камеру. Затым у камеру ўводзіцца газ пад нізкім ціскам і прыкладваецца электрычнае поле для стварэння плазмы. Плазма ўзаемадзейнічае з паверхняй, каб раскласці забруджвальнікі праз серыю хімічных рэакцый. Пабочныя прадукты гэтых рэакцый затым выдаляюцца з камеры, пакідаючы чыстую паверхню без рэшткаў.
Плазменныя ачышчальнікі выкарыстоўваюцца ў самых розных галінах прамысловасці, ад электронікі да аэракасмічнай. У электроннай прамысловасці плазменная ачыстка выкарыстоўваецца для выдалення арганічных рэшткаў з...
Час публікацыі: 02 верасня 2023 г.