Welkom by Guangdong Zhenhua Tegnologie Co., Ltd.
Nuus
-
Optiese Bedekkingstegnologie: Verbeterde Visuele Effekte
In vandag se vinnig veranderende wêreld, waar visuele inhoud baie invloed het, speel optiese bedekkingstegnologie 'n belangrike rol in die verbetering van die gehalte van verskeie skerms. Van slimfone tot TV-skerms het optiese bedekkings die manier waarop ons visuele inhoud waarneem en ervaar, gerevolusioneer. ...Lees meer -
Verbetering van magnetron-sputterbedekking met boogontladingskragtoevoer
Magnetron-sputterbedekking word uitgevoer in gloei-ontlading, met lae ontladingsstroomdigtheid en lae plasmadigtheid in die bedekkingskamer. Dit maak dat magnetron-sputtertegnologie nadele het soos lae filmsubstraatbindingskrag, lae metaalionisasietempo en lae afsettingskoers...Lees meer -
Benutting van RF-ontlading
1. Voordelig vir die verstuiwing en platering van isolasiefilm. Die vinnige verandering in elektrodepolariteit kan gebruik word om isolerende teikens direk te verstuiwer om isolerende films te verkry. As 'n GS-kragbron gebruik word om die isolasiefilm te verstuiwer en te deponeer, sal die isolasiefilm positiewe ione blokkeer om binne te gaan...Lees meer -
Tegniese eienskappe van vakuumverdampingslaag
1. Die vakuumverdampingsbedekkingsproses sluit die verdamping van filmmateriale, die vervoer van dampatome in hoë vakuum, en die proses van nukleasie en groei van dampatome op die oppervlak van die werkstuk in. 2. Die afsettingsvakuumgraad van vakuumverdampingsbedekking is hoog, oor die algemeen...Lees meer -
Tipes harde bedekkings
TiN is die vroegste harde laag wat in snygereedskap gebruik word, met voordele soos hoë sterkte, hoë hardheid en slytasieweerstand. Dit is die eerste geïndustrialiseerde en wyd gebruikte harde laagmateriaal, wat wyd gebruik word in bedekte gereedskap en bedekte vorms. TiN-harde laag is aanvanklik by 1000 ℃ neergelê...Lees meer -
Eienskappe van plasma-oppervlakmodifikasie
Hoë-energie plasma kan polimeermateriale bombardeer en bestraal, wat hul molekulêre kettings breek, aktiewe groepe vorm, oppervlakenergie verhoog en ets genereer. Plasma-oppervlakbehandeling beïnvloed nie die interne struktuur en werkverrigting van die grootmaatmateriaal nie, maar slegs beduidend...Lees meer -
Die Proses van Kleinboogbron-ioonbedekking
Die proses van katodiese boogbron-ioonbedekking is basies dieselfde as ander bedekkingstegnologieë, en sommige bewerkings soos die installering van werkstukke en stofsuig word nie meer herhaal nie. 1. Bombardementskoonmaak van werkstukke Voor bedekking word argongas in die bedekkingskamer ingebring met 'n...Lees meer -
Eienskappe en Generasiemetodes van Boogelektronvloei
1. Eienskappe van booglig-elektronvloei Die digtheid van elektronvloei, ioonvloei en hoë-energie neutrale atome in boogplasma wat deur boogontlading gegenereer word, is baie hoër as dié van gloei-ontlading. Daar is meer gasione en metaalione geïoniseerde, opgewekte hoë-energie atome en verskeie aktiewe gro...Lees meer -
Toepassingsvelde van plasma-oppervlakmodifikasie
1) Plasma-oppervlakmodifikasie verwys hoofsaaklik na sekere modifikasies van papier, organiese films, tekstiele en chemiese vesels. Die gebruik van plasma vir tekstielmodifikasie vereis nie die gebruik van aktiveerders nie, en die behandelingsproses beskadig nie die eienskappe van die vesels self nie. ...Lees meer -
Toepassing van ioonbedekking in die veld van optiese dun films
Die toepassing van optiese dun films is baie uitgebreid, wat wissel van brille, kameralense, selfoonkameras, LCD-skerms vir selfone, rekenaars en televisies, LED-beligting, biometriese toestelle, tot energiebesparende vensters in motors en geboue, sowel as mediese instrumente, te...Lees meer -
Inligtingsvertoonfilms en ioonbedekkingstegnologie
1. Tipe film in inligtingskerm Benewens TFT-LCD en OLED dun films, sluit die inligtingskerm ook bedradingselektrodefilms en deursigtige pixelelektrodefilms in die skermpaneel in. Die bedekkingsproses is die kernproses van TFT-LCD en OLED-skerms. Met die deurlopende prog...Lees meer -
Die groeiwet van die vakuumverdampingslaagfilmlaag
Tydens verdampingsbedekking is die nukleasie en groei van die filmlaag die basis van verskeie ioonbedekkingstegnologieë 1. Nukleasie In vakuumverdampingsbedekkingstegnologie vlieg die filmlaagdeeltjies direk na die w nadat hulle in die vorm van atome uit die verdampingsbron verdamp is...Lees meer -
Algemene kenmerke van verbeterde gloei-ontladingsioonbedekkingstegnologie
1. Die werkstukvooroordeel is laag As gevolg van die byvoeging van 'n toestel om die ionisasietempo te verhoog, word die ontladingsstroomdigtheid verhoog en die voorspanning verminder tot 0.5~1kV. Die terugsputtering wat veroorsaak word deur oormatige bombardement van hoë-energie ione en die skade-effek op die werkstuk se oppervlak...Lees meer -
Voordele van Silindriese teikens
1) Silindriese teikens het 'n hoër benuttingstempo as planêre teikens. In die bedekkingsproses, of dit nou 'n roterende magnetiese tipe of 'n roterende buistipe silindriese sputterteiken is, gaan alle dele van die oppervlak van die teikenbuis voortdurend deur die sputterarea wat voor die ... gegenereer word.Lees meer -
Plasma direkte polimerisasieproses
Plasma direkte polimerisasieproses Die proses van plasma polimerisasie is relatief eenvoudig vir beide interne elektrode polimerisasie toerusting en eksterne elektrode polimerisasie toerusting, maar parameterkeuse is belangriker in plasma polimerisasie, want parameters het 'n groter...Lees meer
