Welkom by Guangdong Zhenhua Tegnologie Co., Ltd.
Nuus
-
Metaalfilmweerstand Temperatuurkoëffisiënt Eienskappe
Metaalfilmweerstandstemperatuurkoëffisiënt wissel met filmdikte, dun films is negatief, dik films is positief, en dikker films is soortgelyk maar nie identies aan grootmaatmateriale nie. Oor die algemeen verander die weerstandstemperatuurkoëffisiënt van negatief na positief...Lees meer -
Ioonbedekkingseienskappe en Toepassing Hoofstuk 2
③ Hoë kwaliteit van die deklaag Aangesien ioonbombardement die digtheid van die membraan kan verbeter, die organisatoriese struktuur van die membraan kan verbeter, wat die eenvormigheid van die membraanlaag goed maak, digte plate-organisasie, minder gaatjies en borrels, wat die kwaliteit van die membraan verbeter ...Lees meer -
Ioonbedekkingseienskappe en Toepassing - Hoofstuk 1
In vergelyking met verdampingsplatering en verstuiwingsplatering, is die belangrikste kenmerk van ioonplatering dat die energieke ione die substraat en die filmlaag bombardeer terwyl afsetting plaasvind. Die bombardement van gelaaide ione produseer 'n reeks effekte, hoofsaaklik soos volg. ① Membraan / basis...Lees meer -
Spesiale Magnetiese Beheerbedekkingstoerusting vir Kleurfilm
Die spesiale magnetron-bedekkingstoerusting vir kleurfilm gebruik die krag van 'n magnetiese veld om die afsetting van bedekkingsmateriaal op die filmsubstraat akkuraat te beheer. Hierdie innoverende tegnologie maak ongeëwenaarde eenvormigheid en konsekwentheid tydens die bedekkingsproses moontlik, wat lei tot hoë kwaliteit...Lees meer -
Horlosie-sputterbedekkingsmasjien
Die horlosie-sputterbedekkingsmasjien gebruik die fisiese dampafsettingsproses (PVD) om 'n dun lagie bedekkingsmateriaal op horlosie-onderdele aan te wend. Die metode bied uitstekende adhesie, eenvormige bedekking en 'n verskeidenheid bedekkingsopsies, insluitend metaal-, keramiek- en diamantagtige koolstof. Gevolglik...Lees meer -
Oksidasiebestande filmbedekkingsmasjien
Die oksidasiebestande filmbedekkingsmasjien is 'n baanbrekende tegnologie wat 'n beskermende laag bied om oksidasie te voorkom en die duursaamheid en langlewendheid van metaalkomponente te verbeter. Hierdie masjien wend 'n dun filmbedekking aan op die oppervlak van materiale, wat 'n versperring teen korrosie skep ...Lees meer -
Geïntegreerde lampbeskermende filmtoerusting
Die insluiting van gevorderde tegnologie in moderne beligtingsarmature verbeter hul werkverrigting en doeltreffendheid aansienlik. Dit maak hulle egter ook meer vatbaar vir skade as gevolg van verskeie eksterne faktore. Om hierdie waardevolle bates te beskerm en hul lewensduur te maksimeer, is...Lees meer -
Teikenkeuse en Klassifikasie
Met die toenemende ontwikkeling van sputterbedekking, veral magnetron-sputterbedekkingstegnologie, kan tans vir enige materiaal voorberei word deur ioonbombardement-teikenfilm, omdat die teiken gesputter word in die proses om dit op 'n soort substraat te bedek, die kwaliteit van die meet...Lees meer -
Vlekvrye staal plasmabedekkingsmasjien
In onlangse nuus het die vraag na vlekvrye staalprodukte toegeneem as gevolg van die uitstekende korrosiebestandheid en moderne estetiese aantrekkingskrag daarvan. Gevolglik soek vervaardigers voortdurend na nuwe en verbeterde metodes vir die bedekking van vlekvrye staal om aan die groeiende markvraag te voldoen. Dit is waar...Lees meer -
Kraan Goud Vakuumbedekkingsmasjien
Die bekendstelling van die toonaangewende goudvakuumbedekkingsmasjien is 'n belangrike ontwikkeling op die gebied van oppervlakbedekkingstegnologie. Tradisioneel is die aanwending van goudbedekkings 'n komplekse en duur proses wat gespesialiseerde toerusting en bekwame tegnici vereis. Hierdie nuwe masjien belowe egter...Lees meer -
Faktore wat filmvorming beïnvloed Hoofstuk 2
(4) Teikenmateriaal. Teikenmateriaal is die sleutel tot verstuiwingsbedekking, in die algemeen, solank die teikenmateriaal aan die vereistes voldoen, en streng beheer van die prosesparameters kan vereis word om die filmlaag te kry. Onsuiwerhede in die teikenmateriaal en oppervlakoksiede en ander onsuiwer stowwe...Lees meer -
Faktore wat filmvorming beïnvloed Hoofstuk 1
(1) Sputtergas. Die sputtergas moet die eienskappe van hoë sputteropbrengs, inert teenoor die teikenmateriaal, goedkoop, maklik verkrygbaar met hoë suiwerheid en ander eienskappe hê. Oor die algemeen is argon die meer ideale sputtergas. (2) Sputterspanning en substraatspanning. Hierdie...Lees meer -
Nano Vakuumbedekking Waterdigte Masjien
Die nano-vakuumbedekkings-waterdigtingsmasjien gebruik gevorderde nanotegnologie om 'n dun en deursigtige laag te skep wat beide waterdig en duursaam is. Deur lug en ander onsuiwerhede tydens die bedekkingsproses te verwyder, verseker die masjien 'n perfekte oppervlakafwerking wat bestand is teen water, vog...Lees meer -
Nano Vakuumbedekkingsmasjiene
Nano-vakuumbedekkingstegnologie maak golwe in die bedryf, en met goeie rede. Dit bied 'n reeks voordele, van verbeterde produkduursaamheid en weerstand teen omgewingsagteruitgang tot verbeterde fisiese en chemiese eienskappe. Namate die vraag na hoëgehalte-bedekkings aanhou groei, ...Lees meer -
Hardeware Vakuumbedekkingsmasjien
Een van die belangrikste ontwikkelings in hardeware-vakuumbedekkingsmasjientegnologie is die bekendstelling van gevorderde outomatiseringsvermoëns. Die nuwe masjiene is toegerus met die nuutste robotarms en rekenaarbeheerstelsels om presiese en doeltreffende bedekkingsprosesse moontlik te maak. Hierdie outomatisering...Lees meer
