Giới thiệu: Trong thế giới kỹ thuật bề mặt tiên tiến, lắng đọng hơi vật lý (PVD) nổi lên như một phương pháp được ưa chuộng để nâng cao hiệu suất và độ bền của nhiều loại vật liệu. Bạn đã bao giờ tự hỏi kỹ thuật tiên tiến này hoạt động như thế nào chưa? Hôm nay, chúng ta sẽ đi sâu vào cơ chế phức tạp của PVD...
Trong thế giới phát triển nhanh chóng ngày nay, nơi nội dung hình ảnh có sức ảnh hưởng lớn, công nghệ lớp phủ quang học đóng vai trò quan trọng trong việc nâng cao chất lượng của nhiều loại màn hình. Từ điện thoại thông minh đến màn hình TV, lớp phủ quang học đã cách mạng hóa cách chúng ta cảm nhận và trải nghiệm nội dung hình ảnh. ...
Quá trình phủ màng bằng phương pháp phún xạ magnetron được thực hiện trong điều kiện phóng điện phát sáng, với mật độ dòng điện phóng thấp và mật độ plasma thấp trong buồng phủ. Điều này khiến công nghệ phún xạ magnetron có những nhược điểm như lực liên kết giữa màng và chất nền thấp, tỷ lệ ion hóa kim loại thấp và tốc độ lắng đọng thấp...
1. Có lợi cho việc lắng đọng và mạ màng cách điện. Sự thay đổi nhanh chóng về cực tính điện cực có thể được sử dụng để trực tiếp lắng đọng các mục tiêu cách điện nhằm thu được màng cách điện. Nếu sử dụng nguồn điện một chiều để lắng đọng và tạo màng cách điện, màng cách điện sẽ ngăn chặn các ion dương xâm nhập...
1. Quy trình phủ màng bằng phương pháp bay hơi chân không bao gồm sự bay hơi của vật liệu màng, sự vận chuyển các nguyên tử hơi trong môi trường chân không cao, và quá trình hình thành và phát triển các nguyên tử hơi trên bề mặt vật liệu. 2. Độ chân không khi lắng đọng của phương pháp phủ màng bằng bay hơi chân không rất cao, nói chung...
TiN là lớp phủ cứng đầu tiên được sử dụng trong dụng cụ cắt gọt, với những ưu điểm như độ bền cao, độ cứng cao và khả năng chống mài mòn. Đây là vật liệu phủ cứng được công nghiệp hóa và sử dụng rộng rãi đầu tiên, được sử dụng rộng rãi trong các dụng cụ và khuôn mẫu được phủ. Lớp phủ cứng TiN ban đầu được lắng đọng ở nhiệt độ 1000 ℃...
Plasma năng lượng cao có thể bắn phá và chiếu xạ vật liệu polymer, phá vỡ chuỗi phân tử của chúng, tạo thành các nhóm hoạt tính, tăng năng lượng bề mặt và tạo ra hiện tượng ăn mòn. Xử lý bề mặt bằng plasma không ảnh hưởng đến cấu trúc bên trong và hiệu năng của vật liệu khối, mà chỉ làm thay đổi đáng kể...
Quy trình phủ ion nguồn hồ quang catốt về cơ bản giống với các công nghệ phủ khác, và một số thao tác như lắp đặt phôi và hút chân không không còn được lặp lại. 1. Làm sạch phôi bằng phương pháp bắn phá Trước khi phủ, khí argon được đưa vào buồng phủ bằng...
1. Đặc điểm của dòng electron ánh sáng hồ quang: Mật độ dòng electron, dòng ion và các nguyên tử trung tính năng lượng cao trong plasma hồ quang được tạo ra bởi phóng điện hồ quang cao hơn nhiều so với phóng điện phát sáng. Có nhiều ion khí và ion kim loại bị ion hóa, các nguyên tử năng lượng cao bị kích thích và nhiều nhóm hoạt động khác nhau...
1) Việc xử lý bề mặt bằng plasma chủ yếu đề cập đến một số phương pháp xử lý khác nhau đối với giấy, màng hữu cơ, vải dệt và sợi hóa học. Việc sử dụng plasma để xử lý vải dệt không cần sử dụng chất hoạt hóa, và quá trình xử lý không làm hỏng các đặc tính của chính sợi vải. ...
Ứng dụng của màng mỏng quang học rất rộng rãi, từ kính mắt, ống kính máy ảnh, camera điện thoại di động, màn hình LCD cho điện thoại di động, máy tính và tivi, đèn LED, thiết bị sinh trắc học, đến cửa sổ tiết kiệm năng lượng trong ô tô và các tòa nhà, cũng như các thiết bị y tế, v.v...
1. Loại màng phim trong màn hình hiển thị thông tin: Ngoài màng phim mỏng TFT-LCD và OLED, màn hình hiển thị thông tin còn bao gồm màng phim điện cực dây dẫn và màng phim điện cực điểm ảnh trong suốt trong tấm màn hình. Quá trình phủ màng là quá trình cốt lõi của màn hình TFT-LCD và OLED. Với sự tiến bộ liên tục...
Trong quá trình phủ màng bằng phương pháp bay hơi, sự hình thành mầm và phát triển của lớp màng là nền tảng của nhiều công nghệ phủ ion khác nhau. 1. Sự hình thành mầm: Trong công nghệ phủ màng bằng phương pháp bay hơi chân không, sau khi các hạt màng bay hơi từ nguồn bay hơi dưới dạng nguyên tử, chúng bay thẳng đến…
1. Điện áp phân cực phôi thấp: Do bổ sung thiết bị tăng tốc độ ion hóa, mật độ dòng phóng điện tăng lên, và điện áp phân cực giảm xuống còn 0,5~1kV. Hiện tượng bắn phá ngược gây ra bởi sự bắn phá quá mức của các ion năng lượng cao và tác động gây hư hại lên bề mặt phôi...
1) Mục tiêu hình trụ có tỷ lệ sử dụng cao hơn mục tiêu hình phẳng. Trong quá trình phủ, dù là mục tiêu phún xạ hình trụ loại từ tính quay hay loại ống quay, tất cả các phần trên bề mặt ống mục tiêu đều liên tục đi qua vùng phún xạ được tạo ra phía trước...