ยินดีต้อนรับสู่บริษัท Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
ข่าว
-
บทนำระบบเคลือบสูญญากาศ
ระบบเคลือบสูญญากาศเป็นเทคโนโลยีที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางหรือสารเคลือบลงบนพื้นผิวในสภาพแวดล้อมสูญญากาศ กระบวนการนี้ช่วยให้มั่นใจได้ว่าสารเคลือบจะมีคุณภาพสูง สม่ำเสมอ และทนทาน ซึ่งเป็นสิ่งสำคัญในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น อิเล็กทรอนิกส์ อุปกรณ์ออปติก ยานยนต์ และอวกาศ มีอุตสาหกรรมต่างๆ มากมาย...อ่านเพิ่มเติม -
ระบบเคลือบสูญญากาศแบบอินไลน์ออปติคัลสปัตเตอร์คืออะไร
ระบบเคลือบสูญญากาศแบบอินไลน์ด้วยแสงสปัตเตอร์แมกนีตรอนเป็นเทคโนโลยีขั้นสูงที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางบนพื้นผิวต่างๆ โดยทั่วไปแล้วจะใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น ออปติก อิเล็กทรอนิกส์ และวัสดุศาสตร์ ต่อไปนี้เป็นภาพรวมโดยละเอียด: ส่วนประกอบและคุณสมบัติ: 1...อ่านเพิ่มเติม -
เทคโนโลยีฟิล์มบางเพชร-บทที่ 2
(3) RF Plasma CVD (RFCVD) สามารถใช้สร้างพลาสมาได้สองวิธี คือ วิธีการจับคู่แบบความจุและวิธีการจับคู่แบบเหนี่ยวนำ RF Plasma CVD ใช้ความถี่ 13.56 MHz ข้อดีของ RF Plasma คือมันแพร่กระจายในพื้นที่ที่ใหญ่กว่าพลาสมาไมโครเวฟมากอ่านเพิ่มเติม -
เทคโนโลยีฟิล์มบางเพชร-บทที่ 1
ฟิลาเมนต์ร้อน CVD เป็นวิธีการปลูกเพชรที่ความดันต่ำที่เก่าแก่ที่สุดและเป็นที่นิยมที่สุด 1982 Matsumoto et al. ได้ให้ความร้อนกับฟิลาเมนต์โลหะที่ทนไฟได้ที่อุณหภูมิสูงกว่า 2,000°C ซึ่งเป็นอุณหภูมิที่ก๊าซ H2 ที่ผ่านฟิลาเมนต์จะสร้างอะตอมไฮโดรเจนได้อย่างง่ายดาย การผลิตอะตอมไฮโดรเจนในช่วง...อ่านเพิ่มเติม -
อุปกรณ์เคลือบสูญญากาศมีการจำแนกประเภทอะไรบ้าง?
เทคโนโลยีการเคลือบสูญญากาศคือเทคโนโลยีที่เคลือบวัสดุฟิล์มบางบนพื้นผิวของวัสดุพื้นผิวภายใต้สภาพแวดล้อมสูญญากาศ ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ อุปกรณ์ออปติก บรรจุภัณฑ์ การตกแต่ง และสาขาอื่นๆ อุปกรณ์เคลือบสูญญากาศสามารถแบ่งได้หลักๆ เป็นประเภทต่อไปนี้...อ่านเพิ่มเติม -
เลือกยี่ห้อเครื่องเคลือบสูญญากาศอย่างไรให้ดี?
อุปกรณ์เคลือบสูญญากาศเป็นอุปกรณ์ชนิดหนึ่งสำหรับปรับเปลี่ยนพื้นผิวโดยใช้เทคโนโลยีสูญญากาศ ซึ่งส่วนใหญ่ประกอบด้วยห้องสูญญากาศ ระบบสูญญากาศ ระบบแหล่งความร้อน วัสดุเคลือบ และอื่นๆ ในปัจจุบัน อุปกรณ์เคลือบสูญญากาศได้รับการใช้กันอย่างแพร่หลายในยานยนต์ โทรศัพท์มือถือ อุปกรณ์ออปติก อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์...อ่านเพิ่มเติม -
บทนำเทคโนโลยีการเคลือบไอออนสูญญากาศ
1. หลักการของเทคโนโลยีการเคลือบด้วยไอออนสูญญากาศ โดยใช้เทคโนโลยีการคายประจุไฟฟ้าแบบสูญญากาศในห้องสูญญากาศ แสงอาร์คจะถูกสร้างขึ้นบนพื้นผิวของวัสดุแคโทด ทำให้เกิดอะตอมและไอออนก่อตัวบนวัสดุแคโทด ภายใต้การกระทำของสนามไฟฟ้า ลำแสงอะตอมและไอออนจะยิงไปที่...อ่านเพิ่มเติม -
คุณสมบัติทางเทคนิคของเครื่องเคลือบแบบสปัตเตอร์
การสปัตเตอร์แมกนีตรอนสูญญากาศเหมาะเป็นพิเศษสำหรับการเคลือบแบบสะสมปฏิกิริยา ในความเป็นจริง กระบวนการนี้สามารถสะสมฟิล์มบางของวัสดุออกไซด์ คาร์ไบด์ และไนไตรด์ใดๆ ก็ได้ นอกจากนี้ กระบวนการนี้ยังเหมาะเป็นพิเศษสำหรับการสะสมโครงสร้างฟิล์มหลายชั้น รวมถึงออปติคอล...อ่านเพิ่มเติม -
การแนะนำเทคโนโลยี DLC
DLC เป็นคำย่อของคำว่า “DIAMOND-LIKE CARBON” ซึ่งเป็นสารที่ประกอบด้วยธาตุคาร์บอนซึ่งมีลักษณะคล้ายเพชรและมีโครงสร้างของอะตอมของกราไฟต์ Diamond-Like Carbon (DLC) เป็นฟิล์มอสัณฐานที่ดึงดูดความสนใจจากชุมชนไตรโบโลยี...อ่านเพิ่มเติม -
สมบัติและการใช้งานของฟิล์มเพชร บทที่ 2
คุณสมบัติทางไฟฟ้าและการใช้งานของฟิล์มเพชร เพชรยังมีแบนด์วิดท์ต้องห้าม ความคล่องตัวของตัวพาสูง การนำความร้อนที่ดี อัตราการดริฟท์อิเล็กตรอนอิ่มตัวสูง ค่าคงที่ไดอิเล็กตริกต่ำ แรงดันพังทลายสูง และความคล่องตัวของรูอิเล็กตรอน เป็นต้น แรงดันพังทลายของเพชรคือสองหรือ...อ่านเพิ่มเติม -
สมบัติและการใช้งานของฟิล์มเพชร บทที่ 1
เพชรที่เกิดจากพันธะเคมีที่แข็งแรงจะมีคุณสมบัติทางกลและความยืดหยุ่นเป็นพิเศษ ความแข็ง ความหนาแน่น และการนำความร้อนของเพชรถือว่าสูงที่สุดในบรรดาวัสดุที่รู้จัก เพชรยังมีโมดูลัสความยืดหยุ่นสูงที่สุดในบรรดาวัสดุทั้งหมดอีกด้วย ค่าสัมประสิทธิ์แรงเสียดทานของเพชร ...อ่านเพิ่มเติม -
เซลล์แสงอาทิตย์ชนิดบทที่ 2
ประสิทธิภาพการแปลงแบตเตอรี่ผสมแกเลียมอาร์เซไนด์ (GaAs) Ⅲ ~ V สูงถึง 28% วัสดุผสม GaAs มีแบนด์แก๊ปออปติกที่เหมาะสมมาก รวมถึงประสิทธิภาพในการดูดซับที่สูง ทนทานต่อการฉายรังสี ไม่ไวต่อความร้อน เหมาะสำหรับการผลิตแบตเตอรี่แบบจุดต่อเดียวประสิทธิภาพสูง...อ่านเพิ่มเติม -
เซลล์แสงอาทิตย์ชนิดบทที่ 1
เซลล์แสงอาทิตย์ได้ถูกพัฒนามาถึงรุ่นที่ 3 โดยรุ่นที่ 1 คือ เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์ รุ่นที่ 2 คือ เซลล์แสงอาทิตย์ซิลิคอนอะมอร์ฟัสและซิลิคอนโพลีคริสตัลไลน์ และรุ่นที่ 3 คือ ทองแดง-เหล็ก-แกลเลียม-ซีลีไนด์ (CIGS) เป็นตัวแทนของ...อ่านเพิ่มเติม -
วิธีกระบวนการในการปรับปรุงความแข็งแรงเชิงกลของชั้นฟิล์ม
คุณสมบัติเชิงกลของชั้นเมมเบรนได้รับผลกระทบจากการยึดเกาะ ความเครียด ความหนาแน่นของการรวมตัวกัน ฯลฯ จากความสัมพันธ์ระหว่างวัสดุของชั้นเมมเบรนและปัจจัยกระบวนการ จะเห็นได้ว่าหากเราต้องการปรับปรุงความแข็งแรงเชิงกลของชั้นเมมเบรน เราควรเน้นที่...อ่านเพิ่มเติม -
การสะสมไอสารเคมี
การเจริญเติบโตแบบเอพิแทกเซียล ซึ่งมักเรียกอีกอย่างว่าเอพิแทกซี เป็นหนึ่งในกระบวนการที่สำคัญที่สุดในการผลิตวัสดุและอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ การเจริญเติบโตแบบเอพิแทกเซียลเกิดขึ้นภายใต้เงื่อนไขบางประการในสารตั้งต้นผลึกเดี่ยวบนกระบวนการเจริญเติบโตของชั้นฟิล์มผลิตภัณฑ์เดี่ยว...อ่านเพิ่มเติม
