Welkom bij Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nieuws
-
Metaal anti-vingerafdruk vacuümcoaters
Het gebruik van vacuümcoatingmachines voor anti-vingerafdrukken op metaal vertegenwoordigt een belangrijke vooruitgang in de oppervlaktebeschermingstechnologie. Door vacuümtechnologie en gespecialiseerde coatings te combineren, creëren deze machines een dunne, slijtvaste laag op metalen oppervlakken die beschermt tegen vingerafdrukken en andere invloeden.Lees verder -
Praktische vacuümcoatingmachine
In de geavanceerde productiesector en industriële productie neemt de vraag naar praktische vacuümcoatingmachines toe. Deze geavanceerde machines revolutioneren de manier waarop diverse materialen worden gecoat en bieden verbeterde duurzaamheid, prestaties en esthetiek. In deze blogpost...Lees verder -
Principe en classificatie van doelmateriaalselectie
Met de toenemende ontwikkeling van sputtercoatingtechnologie, met name magnetron-sputtercoatingtechnologie, kan tegenwoordig elk materiaal worden voorbereid door middel van ionenbombardement op een doelwitfilm. Omdat het doelwit wordt gesputterd tijdens het proces van het coaten ervan op een bepaald substraat, kan de kwaliteit van...Lees verder -
Belangrijkste kenmerken van RF-sputtercoating
A. Hoge sputtersnelheid. Bij het sputteren van SiO2 kan de depositiesnelheid bijvoorbeeld oplopen tot 200 nm/min, meestal tot 10-100 nm/min. De snelheid van filmvorming is recht evenredig met het hoogfrequente vermogen. B. De hechting tussen de film en het substraat is groter dan de vacuümdamp...Lees verder -
Productielijnen voor autolampfolie
Productielijnen voor autolampfolie zijn een essentieel onderdeel van de auto-industrie. Deze productielijnen zijn verantwoordelijk voor het coaten en produceren van autolampfolie, die een cruciale rol speelt bij het verbeteren van de esthetiek en functionaliteit van autolampen. Omdat de vraag naar hoogwaardige...Lees verder -
De rol van het magnetische veld bij magnetronsputteren
Magnetronsputteren omvat voornamelijk ontladingsplasmatransport, target-etsen, dunnefilmdepositie en andere processen. Het magnetische veld in het magnetronsputterenproces heeft hier invloed op. In het magnetronsputterensysteem, plus een orthogonaal magnetisch veld, worden de elektronen blootgesteld aan...Lees verder -
Vereisten voor het pompsysteem van de vacuümcoatingmachine
De vacuümcoatingmachine op het pompsysteem heeft de volgende basisvereisten: (1) Het coatingvacuümsysteem moet een voldoende grote pompsnelheid hebben, die niet alleen snel de gassen die uit het substraat vrijkomen en de verdampt materialen en de componenten in het vacuümch...Lees verder -
PVD-coatingmachine voor sieraden
De PVD-coatingmachine voor sieraden maakt gebruik van een proces dat bekend staat als Physical Vapor Deposition (PVD) om een dunne maar duurzame coating op sieraden aan te brengen. Dit proces maakt gebruik van zeer zuivere, vaste metalen targets die in een vacuümomgeving worden verdampt. De resulterende metaaldamp wordt vervolgens gecondenseerd...Lees verder -
Kleine flexibele PVD-vacuümcoatingmachine
Een van de belangrijkste voordelen van kleine, flexibele PVD-vacuümcoatingmachines is hun veelzijdigheid. Deze machines zijn ontworpen voor diverse substraatformaten en -vormen, waardoor ze ideaal zijn voor kleinschalige of op maat gemaakte productieprocessen. Bovendien zorgen het compacte formaat en de flexibele configuratie ervoor dat...Lees verder -
Snijgereedschappen Vacuümcoatingmachine
In de voortdurend veranderende maakindustrie spelen snijgereedschappen een cruciale rol bij het vormgeven van de producten die we dagelijks gebruiken. Van precisiesnijden in de lucht- en ruimtevaart tot complexe ontwerpen in de medische sector: de vraag naar hoogwaardige snijgereedschappen blijft toenemen. Om aan deze vraag te voldoen, hebben we...Lees verder -
Effect van ionenbombardement op de interface tussen filmlaag en substraat
Wanneer de afzetting van membraanatomen begint, heeft het ionenbombardement de volgende effecten op het membraan/substraat-grensvlak. (1) Fysieke menging. Door de injectie van hoogenergetische ionen, het sputteren van de afgezette atomen en de terugslaginjectie van oppervlakteatomen en het fenomeen van cascadebotsing, ...Lees verder -
Heropleving en ontwikkeling van vacuümsputtercoating
Sputteren is een fenomeen waarbij energetische deeltjes (meestal positieve ionen van gassen) het oppervlak van een vaste stof (hierna het doelmateriaal genoemd) raken, waardoor atomen (of moleculen) op het oppervlak van het doelmateriaal ontsnappen. Dit fenomeen werd ontdekt door Grove in 1842 toen...Lees verder -
Kenmerken van magnetron-sputtercoating Hoofdstuk 2
Kenmerken van magnetronsputtercoating (3) Sputteren met lage energie. Door de lage kathodespanning die op het doelwit wordt aangelegd, wordt het plasma gebonden door het magnetische veld in de ruimte nabij de kathode, waardoor de hoogenergetische geladen deeltjes die naar de zijkant van het substraat schieten, worden geblokkeerd. De...Lees verder -
Kenmerken van magnetron-sputtercoating Hoofdstuk 1
Magnetron sputtercoating wordt vergeleken met andere coatingtechnologieën gekenmerkt door de volgende eigenschappen: de werkparameters hebben een groot dynamisch instelbereik, de afzettingssnelheid van de coating en de dikte (de toestand van het gecoate gebied) kunnen eenvoudig worden geregeld en er is geen ontwerp...Lees verder -
Ionenbundel-ondersteunde depositietechnologie
Ionenbundelondersteunde depositietechnologie is de technologie van ionenbundelinjectie en dampdepositiecoating gecombineerd met ionenoppervlaktecomposietverwerkingstechnologie. Bij de oppervlaktemodificatie van ionengeïnjecteerde materialen, of het nu halfgeleidermaterialen of technische materialen zijn, is het van...Lees verder
