CF1914

CF1914 ကိရိယာတွင် အလတ်စား ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering coating system + anode အလွှာ ion source + SPEEDFLO closed-loop control + crystal control monitoring system ပါရှိသည်။
အလယ်အလတ်ကြိမ်နှုန်း magnetron sputtering နည်းပညာကို အမျိုးမျိုးသော အောက်ဆိုဒ်များ အပ်နှံရန် အသုံးပြုသည်။ ရိုးရာအီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်အငွေ့ပျံမှုအပေါ်ယံပိုင်းပစ္စည်းကိရိယာများနှင့် နှိုင်းယှဉ်ပါက CF1914 သည် ပိုကြီးသော loading capacity ရှိပြီး ပုံသဏ္ဍာန်ပိုမိုရှိသော ထုတ်ကုန်များနှင့် လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေနိုင်သည်။ Coating film သည် ပိုမိုကျစ်လစ်သိပ်သည်းမှု၊ ပိုမိုအားကောင်းသော ကပ်ငြိမှု၊ ရေငွေ့မော်လီကျူးများကို စုပ်ယူရန် မလွယ်ကူသလို ပတ်ဝန်းကျင်အမျိုးမျိုးတွင် ပိုမိုတည်ငြိမ်သော အလင်းဓာတ်ဂုဏ်သတ္တိများကို ထိန်းသိမ်းထားနိုင်သည်။
စက်ပစ္စည်းသည် ဖန်၊ crystal၊ ကြွေထည်များနှင့် အပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိသော ပလပ်စတစ်ထုတ်ကုန်များအတွက် သင့်လျော်သည်။ ၎င်းသည် အမျိုးမျိုးသော အောက်ဆိုဒ်များနှင့် ရိုးရှင်းသောသတ္တုများကို စုဆောင်းနိုင်ပြီး တောက်ပသောအရောင်ဖလင်များ၊ gradient colour films နှင့် အခြားသော dielectric films များကို ပြင်ဆင်နိုင်သည်။ ရေမွှေးပုလင်းများ၊ အလှကုန်ဖန်ပုလင်းများ၊ နှုတ်ခမ်းနီဦးထုပ်များ၊ crystal အဆင်တန်ဆာများ၊ နေကာမျက်မှန်များ၊