နိဒါန်း-
PVD (Physical Vapor Deposition) လုပ်ငန်းစဉ်တွင် ကျွန်ုပ်တို့၏ဘလော့ဂ်စီးရီးမှ ပြန်လည်ကြိုဆိုပါသည်။ ဤဆောင်းပါးတွင်၊ ကျွန်ုပ်တို့သည် PVD အစစ်ခံခြင်းဖြင့် ကောင်းမွန်သောရလဒ်များရရှိရန် လိုအပ်သော အခြေခံအဆင့်များကို နက်နဲစွာ စေ့စေ့ငုကြည့်ပါမည်။ PVD စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို ကျွမ်းကျင်စွာလုပ်ဆောင်ခြင်းဖြင့်၊ သင်သည် သင့်ထုတ်ကုန်များ၏ ကြာရှည်ခံမှု၊ ချေးခံနိုင်ရည်နှင့် အလှတရားများကို မြှင့်တင်ပေးနိုင်ပါသည်။ အောင်မြင်သော PVD အပေါ်ယံပိုင်းရလဒ်များကို ဖြစ်ပေါ်စေသည့် အဓိကအကြောင်းရင်းများကို စူးစမ်းလေ့လာခြင်းဖြင့် ကျွန်ုပ်တို့နှင့် ပူးပေါင်းပါ။
PVD Deposition ကို နားလည်ခြင်း
PVD အစစ်ခံခြင်းသည် သတ္တုများ၊ ကြွေထည်များနှင့် ပလတ်စတစ်စသည့် မျက်နှာပြင်အမျိုးမျိုးတွင် ပါးလွှာသော ဖလင်များနှင့် အပေါ်ယံအလွှာများကို တွင်ကျယ်စွာ အသုံးပြုသည့်နည်းလမ်းဖြစ်သည်။ လုပ်ငန်းစဉ်တွင် အစိုင်အခဲပစ္စည်း၏ အငွေ့ပျံခြင်းဖြစ်ပြီး၊ ထို့နောက် အလွှာပေါ်သို့ ငွေ့ရည်ဖွဲ့ကာ ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုအဖြစ် ဖြစ်ပေါ်လာသည်။ ရရှိလာသောအပေါ်ယံလွှာများသည် ပုံမှန်အားဖြင့် မာကျောခြင်း၊ ပွန်းပဲ့ခြင်းခံနိုင်ရည်နှင့် တောက်ပသောအသွင်အပြင်ကဲ့သို့သော ပိုမိုကောင်းမွန်သော ဂုဏ်သတ္တိများကို ပြသသည်။
PVD စုဆောင်းခြင်းကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်ရန် အဓိကအဆင့်များ-
1. မျက်နှာပြင်ပြင်ဆင်ခြင်း- PVD အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်မစတင်မီ မျက်နှာပြင်ပြင်ဆင်မှုသည် အရေးကြီးပါသည်။ နှံ့စပ်အောင် ဆေးကြောခြင်း၊ ပွတ်တိုက်ခြင်းနှင့် အညစ်အကြေးများကို ဖယ်ရှားပေးခြင်း၊ သင့်လျော်သော ကပ်တွယ်မှုကို သေချာစေပြီး အပြစ်အနာအဆာများကို ကာကွယ်ပေးပါသည်။ သန့်စင်သောမျက်နှာပြင်သည် ပိုမိုကောင်းမွန်သော coating adhesion ကို အားပေးပြီး သိုက်၏ အလုံးစုံအရည်အသွေးကို တိုးတက်စေသည်။
2. Deposition Chamber- သန့်ရှင်းပြီး ထိန်းချုပ်ထားသော ပတ်ဝန်းကျင်သည် အောင်မြင်သော PVD အစစ်ခံရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။ အငွေ့ပျံသော အက်တမ်များ သို့မဟုတ် မော်လီကျူးများကို အနှောက်အယှက်မရှိဘဲ လွတ်လွတ်လပ်လပ် ရွေ့လျားနိုင်စေမည့် ဖိအားနှင့် ထိန်းချုပ်ထားသော အပူချိန်တွင် သိုလှောင်ခန်းကို ဖိအားနည်းသော အပူချိန်တွင် ထိန်းသိမ်းထားသည်။ ဖိအား၊ အပူချိန်နှင့် အပ်နှံချိန်ကဲ့သို့သော မှန်ကန်သောရွေးချယ်မှု ကန့်သတ်ချက်များသည် အကောင်းဆုံးရလဒ်များအတွက် တိကျသော ဖလင်အထူနှင့် တူညီမှုကို သေချာစေသည်။
3. အငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်ကိုရွေးချယ်ခြင်း- ရေငွေ့ပျံခြင်းအရင်းအမြစ်ရွေးချယ်ခြင်းသည် PVD စုဆောင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်ကို များစွာအကျိုးသက်ရောက်စေသည်။ ရုပ်ရှင်အရည်အသွေးကောင်းစေရန်အတွက် ရွေးချယ်ထားသော ပစ္စည်းသည် သန့်ရှင်းစင်ကြယ်ရပါမည်။ လူကြိုက်များသော အငွေ့ပျံသည့်ရင်းမြစ်များတွင် ခံနိုင်ရည်ရှိသော အပူပေးလှေများ၊ အီလက်ထရွန်အလင်းတန်းရင်းမြစ်များ သို့မဟုတ် magnetron sputtering cathodes များပါဝင်သည်၊ တစ်ခုစီသည် သီးခြားလိုအပ်ချက်များနှင့်ကိုက်ညီပါသည်။
4. ရုပ်ရှင်စောင့်ကြည့်ခြင်းနှင့် အထူထိန်းချုပ်ခြင်း- အချိန်နှင့်တပြေးညီ စောင့်ကြည့်ခြင်းနှင့် ဖလင်အထူကို တိကျသောထိန်းချုပ်မှုသည် တသမတ်တည်းနှင့် တိကျသော PVD အစစ်ခံရန်အတွက် အရေးကြီးပါသည်။ Quartz crystal microbalances နှင့် optical monitoring systems ကဲ့သို့သော ခေတ်မီနည်းပညာများသည် အစစ်ခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ပိုမိုကောင်းမွန်သော ထိန်းချုပ်မှုနှင့် ချိန်ညှိမှုများကို ခွင့်ပြုပေးပါသည်။ လုံလောက်သော ဖလင်အထူကို ထိန်းသိမ်းထားခြင်းဖြင့် အလိုရှိသော စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို သေချာစေသည်။
5. စွန့်ပစ်ပြီးနောက် ကုသမှု- PVD အစစ်ခံခြင်း ပြီးမြောက်ပြီးနောက်၊ ကုသမှု ခံယူပြီးနောက် အဆင့်များသည် ဖလင်၏ ဂုဏ်သတ္တိများကို ပိုမိုမြှင့်တင်ပေးနိုင်ပါသည်။ စုပ်ယူမှု၊ အိုင်းယွန်းဗုံးကြဲခြင်း သို့မဟုတ် အိုင်းယွန်းခြစ်ခြင်းတို့သည် စုဆောင်းထားသောရုပ်ရှင်များ၏ ကပ်ငြိမှု၊ မျက်နှာပြင်အလွှာကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ရန်နှင့် ဖိစီးမှုကို ပြေလျော့စေရန် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုသည့်နည်းလမ်းများဖြစ်သည်။ သင့်လျော်သောကုသမှုပြီးနောက် PVD အပေါ်ယံပိုင်း၏ကြာရှည်ခံမှုနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ကိုသေချာစေသည်။
တင်ချိန်- ဇူလိုင် ၂၄-၂၀၂၃