広東振華テクノロジー株式会社へようこそ。
業界ニュース
-
コーティングガラス業界における光学薄膜の応用
メガネやレンズの基材には、CR39、PC（ポリカーボネート）、1.53 Trivex156、中屈折率プラスチック、ガラスなど、さまざまな種類があります。矯正用レンズの場合、樹脂レンズとガラスレンズの透過率はどちらも約91％に過ぎず、一部の光は両方の層で反射されます。続きを読む -
真空コーティング機の特徴
1. 真空コーティングの皮膜は非常に薄い（通常0.01～0.1μm）| 2. 真空コーティングは、ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMAなど、多くのプラスチックに使用できます。 3. 皮膜形成温度が低い。鉄鋼業界では、熱亜鉛めっきのコーティング温度は一般的に400℃～500℃です。続きを読む -
太陽光発電薄膜技術入門
1863年にヨーロッパで光起電力効果が発見された後、1883年にアメリカ合衆国がSeを用いた最初の太陽電池を開発しました。初期の太陽電池は主に航空宇宙、軍事などの分野で使用されていました。過去20年間で、太陽光発電のコストは急激に低下し、現在では太陽光発電の需要が急増しています。続きを読む -
スパッタリングコーティング装置のプロセスフロー
1. 衝撃洗浄基板 1.1) スパッタリングコーティング装置は、グロー放電を利用して基板を洗浄します。つまり、チャンバー内にアルゴンガスを充填し、放電電圧を約1000Vに設定します。電源を入れるとグロー放電が発生し、基板は…続きを読む -
携帯電話製品における光学フィルムの応用
携帯電話などの民生用電子機器における光学薄膜の応用は、従来のカメラレンズから、カメラレンズ、レンズプロテクター、赤外線カットフィルター（IR-CUT）、携帯電話のバッテリーカバーへのNCVMコーティングなど、多様化しています。カメラの特殊用途は、...続きを読む -
CVDコーティング装置の特徴
CVDコーティング技術には、以下の特徴があります。1. CVD装置のプロセス操作は比較的シンプルで柔軟性が高く、単一または複合フィルムや異なる比率の合金フィルムを製造できます。2. CVDコーティングは用途が広く、さまざまな表面処理に使用できます。3. CVDコーティングは、さまざまな表面処理に使用できます。続きを読む -
真空コーティング機のプロセスと動作原理は何ですか？
真空コーティング機のプロセスは、真空蒸着コーティング、真空スパッタリングコーティング、真空イオンコーティングに分けられます。 1、真空蒸着コーティング 真空状態で金属、金属合金などの材料を蒸発させ、基板表面に堆積させます。続きを読む -
真空機は何のためにあるのですか?
1、真空コーティングプロセスとは何ですか？その機能は何ですか？真空コーティングプロセスは、真空環境下での蒸発とスパッタリングを利用してフィルム材料の粒子を放出し、金属、ガラス、セラミック、半導体、プラスチック部品に蒸着させてコーティング層を形成し、装飾を施すプロセスです。続きを読む -
真空コーティング装置の環境要件
真空コーティング装置は真空状態で動作するため、環境に対する真空要件を満たす必要があります。我が国では、各種真空コーティング装置に関する業界規格（真空コーティング装置の一般技術条件を含む）が制定されています。続きを読む -
イオンプレーティングの特徴と応用
フィルムタイプ フィルム材料 基板 フィルム特性および用途 金属フィルム CrAI、ZnPtNi Au、Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt 鋼、軟鋼チタン合金、高炭素鋼、軟鋼チタン合金硬質ガラス プラスチック ニッケル、インコネル 鋼、ステンレス鋼 シリコン 耐摩耗性...続きを読む -
真空イオンコーティングとその分類
真空イオンプレーティング（略してイオンプレーティング）は、1963年に米国ソムディア社のDMマトックス氏によって提案され、1970年代に急速に発展した新しい表面処理技術です。蒸発源またはスパッタリングターゲットを使用して、金属または合金を蒸発またはスパッタリングするプロセスを指します。続きを読む -
光学コーティング機は複数の光学フィルムをコーティングするために使用できます
① 反射防止フィルム。例えば、カメラ、スライド映写機、プロジェクター、映写機、望遠鏡、のぞき窓、各種光学機器のレンズやプリズムに塗布された単層MgF膜、SiOFrO2、AlOなどからなる二層または多層の広帯域反射防止フィルムなど。続きを読む -
スパッタリングコーティング膜の特性
① 膜厚の制御性と再現性に優れている 膜厚を所定の値に制御できるかどうかを膜厚制御性と呼び、必要な膜厚を何度も繰り返して得られるかどうかを膜厚再現性と呼んでいます。吐出口から吐出される液滴は…続きを読む -
化学蒸着（CVD）技術の簡単な紹介
化学気相成長（CVD）技術は、加熱、プラズマ増強、光アシストなどの手段を用いて、常圧または低圧下で気体物質を化学反応させ、基板表面に固体膜を形成する成膜技術です。一般的に、反応は…続きを読む -
真空蒸着めっきの性能に影響を与える要因
1. 蒸発速度は蒸着膜の特性に影響します。蒸発速度は蒸着膜に大きな影響を与えます。蒸着速度が低いと膜構造が緩くなり、大きな粒子が堆積しやすくなるため、高い蒸着速度を選択することが非常に安全です。続きを読む
