Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Berita Industri
-
Mesin Pelapis Vakum PVD Optik Penguapan Film Tipis AF
Mesin pelapis vakum PVD Optik Penguapan Lapisan Tipis AF dirancang untuk mengaplikasikan pelapisan lapisan tipis ke perangkat seluler menggunakan proses Physical Vapor Deposition (PVD). Proses ini melibatkan penciptaan lingkungan vakum di dalam ruang pelapisan tempat material padat diuapkan dan kemudian diendapkan...Baca selengkapnya -
Mesin pembuat cermin pelapis vakum aluminium perak
Mesin pembuat cermin pelapis vakum aluminium perak telah merevolusi industri pembuatan cermin dengan teknologi canggih dan rekayasa presisi. Mesin canggih ini dirancang untuk menerapkan lapisan tipis aluminium perak pada permukaan kaca, menciptakan cermin berkualitas tinggi...Baca selengkapnya -
Mesin pelapis vakum optik
Metallizer vakum optik adalah teknologi canggih yang telah merevolusi industri pelapisan permukaan. Mesin canggih ini menggunakan proses yang disebut metallization vakum optik untuk menerapkan lapisan tipis logam ke berbagai substrat, menciptakan permukaan yang sangat reflektif dan tahan lama.Baca selengkapnya -
Deposisi Uap Kimia yang Ditingkatkan Plasma Bab 2
Sebagian besar unsur kimia dapat diuapkan dengan menggabungkannya dengan gugus kimia, misalnya Si bereaksi dengan H membentuk SiH4, dan Al bergabung dengan CH3 membentuk Al(CH3). Dalam proses CVD termal, gas-gas di atas menyerap sejumlah energi termal saat melewati substrat yang dipanaskan dan membentuk re...Baca selengkapnya -
Deposisi Uap Kimia yang Ditingkatkan Plasma Bab 1
Chemical Vapor Deposition (CVD). Sesuai namanya, ini adalah teknik yang memanfaatkan reaktan prekursor gas untuk menghasilkan lapisan padat melalui reaksi kimia atomik dan intermolekul. Tidak seperti PVD, proses CVD sebagian besar dilakukan dalam lingkungan bertekanan tinggi (vakum rendah), dengan...Baca selengkapnya -
Elemen Proses dan Mekanisme Tindakan yang Mempengaruhi Kualitas Perangkat Film Tipis (Bagian 2)
3. Pengaruh suhu substrat Suhu substrat merupakan salah satu kondisi penting untuk pertumbuhan membran. Suhu substrat memberikan tambahan energi pada atom atau molekul membran, dan terutama memengaruhi struktur membran, koefisien aglutinasi, koefisien ekspansi, dan agregasi...Baca selengkapnya -
Faktor Proses dan Mekanisme yang Mempengaruhi Kualitas Perangkat Film Tipis (Bagian 1)
Pembuatan perangkat film tipis optik dilakukan dalam ruang vakum, dan pertumbuhan lapisan film merupakan proses mikroskopis. Namun, saat ini, proses makroskopis yang dapat dikontrol secara langsung adalah beberapa faktor makroskopis yang memiliki hubungan tidak langsung dengan kualitas...Baca selengkapnya -
Sejarah perkembangan teknologi penguapan
Proses pemanasan bahan padat dalam lingkungan vakum tinggi untuk menyublimkan atau menguapkan dan menyimpannya pada substrat tertentu untuk memperoleh lapisan tipis dikenal sebagai pelapisan penguapan vakum (disebut pelapisan penguapan). Sejarah pembuatan lapisan tipis dengan penguapan vakum...Baca selengkapnya -
Pengenalan Pelapisan ITO
Indium tin oxide (Indium Tin Oxide, disebut sebagai ITO) adalah bahan semikonduktor tipe-n dengan celah pita lebar, terdoping berat, dengan transmitansi cahaya tampak tinggi dan karakteristik resistivitas rendah, sehingga banyak digunakan dalam sel surya, tampilan panel datar, jendela elektrokromik, anorganik dan organik...Baca selengkapnya -
Mesin pelapis putar vakum laboratorium
Pelapis vakum laboratorium merupakan peralatan penting dalam bidang pengendapan lapisan tipis dan modifikasi permukaan. Peralatan canggih ini dirancang untuk mengaplikasikan lapisan tipis berbagai bahan secara akurat dan merata ke substrat. Proses ini melibatkan penerapan larutan cair atau larutan...Baca selengkapnya -
Mode deposisi berbantuan sinar ion dan pemilihan energinya
Ada dua mode utama pengendapan berbantuan berkas ion, satu adalah hibrida dinamis; yang lainnya adalah hibrida statis. Yang pertama mengacu pada film dalam proses pertumbuhan yang selalu disertai dengan energi dan arus berkas tertentu dari pemboman ion dan film; yang terakhir diendapkan terlebih dahulu di permukaan...Baca selengkapnya -
Teknologi Deposisi Berkas Ion
① Teknologi pengendapan berbantuan sinar ion ditandai dengan daya rekat yang kuat antara film dan substrat, lapisan film sangat kuat. Eksperimen telah menunjukkan bahwa: daya rekat pengendapan berbantuan sinar ion meningkat beberapa kali lipat dibandingkan daya rekat pengendapan uap termal hingga ratusan kali lipat...Baca selengkapnya -
Pelapisan Ion Vakum
Pelapisan ion vakum (disebut sebagai pelapisan ion) diusulkan oleh perusahaan Somdia DM Mattox di Amerika Serikat pada tahun 1963. Pada tahun 1970-an, teknologi perawatan permukaan baru berkembang pesat. Teknologi ini mengacu pada penggunaan sumber penguapan atau target sputtering dalam atmosfer vakum sehingga film...Baca selengkapnya -
Cara menghilangkan lapisan film pada kaca berlapis
Kaca berlapis dibagi menjadi kaca berlapis evaporatif, kaca berlapis magnetron sputtering, dan kaca berlapis yang diendapkan dengan uap. Karena metode pembuatan film berbeda, metode penghilangan film juga berbeda. Saran 1, Gunakan asam klorida dan bubuk seng untuk memoles dan menggosok...Baca selengkapnya -
Peran Pelapis Alat Pemotong - Bab 2
Bahkan pada suhu pemotongan yang sangat tinggi, masa pakai alat pemotong dapat diperpanjang dengan pelapisan, sehingga mengurangi biaya pemesinan secara signifikan. Selain itu, pelapisan alat pemotong dapat mengurangi kebutuhan akan cairan pelumas. Tidak hanya mengurangi biaya material, tetapi juga membantu melindungi lingkungan...Baca selengkapnya
