Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Berita
-
Pengenalan prinsip PVD
Pendahuluan: Dalam dunia rekayasa permukaan tingkat lanjut, Deposisi Uap Fisik (PVD) muncul sebagai metode andalan untuk meningkatkan kinerja dan daya tahan berbagai material. Pernahkah Anda bertanya-tanya bagaimana teknik mutakhir ini bekerja? Hari ini, kita akan membahas mekanisme rumit dari PVD...Baca selengkapnya -
Teknologi Pelapisan Optik: Efek Visual yang Ditingkatkan
Di dunia yang serba cepat saat ini, di mana konten visual memiliki pengaruh besar, teknologi pelapisan optik memainkan peran penting dalam meningkatkan kualitas berbagai tampilan. Dari ponsel pintar hingga layar TV, pelapisan optik telah merevolusi cara kita mempersepsikan dan mengalami konten visual. ...Baca selengkapnya -
Meningkatkan Pelapisan Sputtering Magnetron dengan Catu Daya Pelepasan Busur
Pelapisan magnetron sputtering dilakukan dalam lucutan pijar, dengan kerapatan arus lucutan rendah dan kerapatan plasma rendah di dalam ruang pelapisan. Hal ini membuat teknologi magnetron sputtering memiliki beberapa kekurangan seperti gaya ikatan substrat film yang rendah, laju ionisasi logam yang rendah, dan laju deposisi yang rendah...Baca selengkapnya -
Pemanfaatan pelepasan RF
1. Bermanfaat untuk proses sputtering dan pelapisan film isolasi. Perubahan polaritas elektroda yang cepat dapat digunakan untuk langsung melakukan sputtering pada target isolasi untuk mendapatkan film isolasi. Jika sumber daya DC digunakan untuk melakukan sputtering dan pengendapan film isolasi, film isolasi akan menghalangi ion positif untuk masuk...Baca selengkapnya -
Karakteristik teknis pelapisan penguapan vakum
1. Proses pelapisan penguapan vakum meliputi penguapan material film, pengangkutan atom uap dalam vakum tinggi, dan proses nukleasi serta pertumbuhan atom uap pada permukaan benda kerja. 2. Tingkat vakum deposisi pada pelapisan penguapan vakum tinggi, umumnya...Baca selengkapnya -
Jenis-jenis lapisan keras
TiN adalah lapisan keras paling awal yang digunakan pada alat potong, dengan keunggulan seperti kekuatan tinggi, kekerasan tinggi, dan ketahanan aus. Ini adalah material lapisan keras pertama yang diindustrialisasi dan digunakan secara luas, banyak digunakan pada alat berlapis dan cetakan berlapis. Lapisan keras TiN awalnya diendapkan pada suhu 1000 ℃...Baca selengkapnya -
Karakteristik Modifikasi Permukaan Plasma
Plasma berenergi tinggi dapat membombardir dan menyinari material polimer, memecah rantai molekulnya, membentuk gugus aktif, meningkatkan energi permukaan, dan menghasilkan pengikisan. Perlakuan permukaan plasma tidak memengaruhi struktur internal dan kinerja material secara keseluruhan, tetapi hanya secara signifikan...Baca selengkapnya -
Proses Pelapisan Ion Sumber Busur Kecil
Proses pelapisan ion sumber busur katodik pada dasarnya sama dengan teknologi pelapisan lainnya, dan beberapa operasi seperti pemasangan benda kerja dan penyedotan debu tidak lagi diulang. 1. Pembersihan benda kerja dengan bombardir Sebelum pelapisan, gas argon dimasukkan ke dalam ruang pelapisan dengan...Baca selengkapnya -
Karakteristik dan Metode Pembangkitan Aliran Elektron Busur
1. Karakteristik aliran elektron pada lucutan busur listrik Kepadatan aliran elektron, aliran ion, dan atom netral berenergi tinggi dalam plasma busur yang dihasilkan oleh lucutan busur jauh lebih tinggi daripada lucutan pijar. Terdapat lebih banyak ion gas dan ion logam yang terionisasi, atom berenergi tinggi yang tereksitasi, dan berbagai kelompok aktif...Baca selengkapnya -
Bidang Aplikasi Modifikasi Permukaan Plasma
1) Modifikasi permukaan plasma terutama mengacu pada modifikasi tertentu pada kertas, film organik, tekstil, dan serat kimia. Penggunaan plasma untuk modifikasi tekstil tidak memerlukan penggunaan aktivator, dan proses perawatannya tidak merusak karakteristik serat itu sendiri. ...Baca selengkapnya -
Penerapan pelapisan ion di bidang film tipis optik
Penerapan film tipis optik sangat luas, mulai dari kacamata, lensa kamera, kamera ponsel, layar LCD untuk ponsel, komputer, dan televisi, penerangan LED, perangkat biometrik, hingga jendela hemat energi di mobil dan bangunan, serta instrumen medis, dan lain-lain...Baca selengkapnya -
Film tampilan informasi dan teknologi pelapisan ion
1. Jenis film pada layar informasi Selain film tipis TFT-LCD dan OLED, layar informasi juga mencakup film elektroda kawat dan film elektroda piksel transparan pada panel tampilan. Proses pelapisan merupakan proses inti dari layar TFT-LCD dan OLED. Dengan kemajuan yang berkelanjutan...Baca selengkapnya -
Hukum pertumbuhan lapisan film pelapis penguapan vakum
Selama pelapisan evaporasi, nukleasi dan pertumbuhan lapisan film merupakan dasar dari berbagai teknologi pelapisan ion. 1. Nukleasi Dalam teknologi pelapisan evaporasi vakum, setelah partikel lapisan film menguap dari sumber penguapan dalam bentuk atom, partikel tersebut terbang langsung ke...Baca selengkapnya -
Fitur umum teknologi pelapisan ion lucutan pijar yang disempurnakan
1. Tegangan bias benda kerja rendah. Karena penambahan perangkat untuk meningkatkan laju ionisasi, kerapatan arus pelepasan meningkat, dan tegangan bias dikurangi menjadi 0,5~1kV. Backsputtering yang disebabkan oleh bombardir ion berenergi tinggi yang berlebihan dan efek kerusakan pada permukaan benda kerja...Baca selengkapnya -
Keunggulan Target Silinder
1) Target silindris memiliki tingkat pemanfaatan yang lebih tinggi daripada target planar. Dalam proses pelapisan, baik itu target sputtering silindris tipe magnet putar atau tipe tabung putar, semua bagian permukaan tabung target terus menerus melewati area sputtering yang dihasilkan di depannya...Baca selengkapnya
