Selamat datang di Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Berita
-
Pelapis Vakum Anti Sidik Jari dari Logam
Penggunaan mesin pelapis vakum anti-sidik jari pada logam merupakan kemajuan besar dalam teknologi perlindungan permukaan. Dengan menggabungkan teknologi vakum dan pelapis khusus, mesin ini menciptakan lapisan tipis yang tahan aus pada permukaan logam yang melindungi dari sidik jari dan noda lainnya...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Vakum Praktis
Di bidang manufaktur canggih dan produksi industri, permintaan akan mesin pelapis vakum praktis terus meningkat. Mesin canggih ini merevolusi cara pelapisan berbagai material, menghasilkan daya tahan, kinerja, dan estetika yang lebih baik. Dalam blog ini, kami akan membahas...Baca selengkapnya -
Prinsip dan Klasifikasi Pemilihan Material Target
Dengan semakin berkembangnya teknologi pelapisan sputtering, khususnya teknologi pelapisan sputtering magnetron, saat ini, untuk material apa pun dapat disiapkan dengan film target pemboman ion, karena target disputtering dalam proses pelapisan ke beberapa jenis substrat, kualitasnya...Baca selengkapnya -
Fitur Utama Pelapisan Sputtering RF
A. Laju sputtering tinggi. Misalnya, saat sputtering SiO2, laju deposisi dapat mencapai 200nm/menit, biasanya hingga 10~100nm/menit. Dan laju pembentukan film berbanding lurus dengan daya frekuensi tinggi. B. Adhesi antara film dan substrat lebih besar daripada vakum...Baca selengkapnya -
Lini Produksi Pelapisan Film Lampu Mobil
Lini produksi film lampu mobil merupakan bagian penting dari industri manufaktur otomotif. Lini produksi ini bertanggung jawab atas pelapisan dan produksi film lampu mobil, yang memainkan peran penting dalam meningkatkan estetika dan fungsionalitas lampu mobil. Seiring dengan meningkatnya permintaan akan film berkualitas tinggi...Baca selengkapnya -
Peran Medan Magnet dalam Magnetron Sputtering
Sputtering magnetron terutama mencakup pengangkutan plasma pelepasan, etsa target, pengendapan lapisan tipis, dan proses lainnya. Medan magnet pada proses sputtering magnetron akan memberikan dampak. Dalam sistem sputtering magnetron ditambah medan magnet ortogonal, elektron-elektron mengalami...Baca selengkapnya -
Persyaratan Mesin Pelapis Vakum Sistem Pemompaan
Mesin pelapis vakum pada sistem pemompaan memiliki persyaratan dasar berikut: (1) Sistem vakum pelapis harus memiliki laju pemompaan yang cukup besar, yang tidak hanya harus dengan cepat memompa keluar gas yang dilepaskan dari substrat dan bahan yang menguap serta komponen dalam vakum ch...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis PVD Perhiasan
Mesin pelapis PVD perhiasan menggunakan proses yang dikenal sebagai Physical Vapor Deposition (PVD) untuk menerapkan lapisan tipis namun tahan lama pada perhiasan. Proses ini melibatkan penggunaan target logam padat dengan kemurnian tinggi, yang diuapkan dalam lingkungan vakum. Uap logam yang dihasilkan kemudian dikondensasikan...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Vakum Pvd Fleksibel Kecil
Salah satu keuntungan utama dari mesin pelapis vakum PVD fleksibel berukuran kecil adalah keserbagunaannya. Mesin ini dirancang untuk mengakomodasi berbagai ukuran dan bentuk substrat, sehingga ideal untuk proses produksi skala kecil atau khusus. Selain itu, ukurannya yang ringkas dan konfigurasinya yang fleksibel...Baca selengkapnya -
Mesin Pelapis Vakum Alat Pemotong
Dalam industri manufaktur yang terus berkembang, alat pemotong memegang peranan penting dalam membentuk produk yang kita gunakan setiap hari. Mulai dari pemotongan presisi dalam industri kedirgantaraan hingga desain rumit dalam bidang medis, permintaan akan alat pemotong berkualitas tinggi terus meningkat. Untuk memenuhi permintaan ini, AS...Baca selengkapnya -
Efek pemboman ion pada antarmuka lapisan film/substrat
Ketika pengendapan atom membran dimulai, pemboman ion memiliki efek berikut pada antarmuka membran/substrat. (1) Pencampuran fisik. Karena injeksi ion berenergi tinggi, sputtering atom yang diendapkan dan injeksi mundur atom permukaan dan fenomena tabrakan bertingkat, akan...Baca selengkapnya -
Kebangkitan dan Pengembangan Pelapisan Sputtering Vakum
Sputtering adalah fenomena di mana partikel berenergi (biasanya ion positif gas) menghantam permukaan benda padat (di bawah ini disebut material target), menyebabkan atom (atau molekul) pada permukaan material target terlepas darinya. Fenomena ini ditemukan oleh Grove pada tahun 1842 ketika...Baca selengkapnya -
Karakteristik Pelapisan Sputtering Magnetron Bab 2
Karakteristik pelapisan sputtering magnetron (3) Sputtering energi rendah. Karena tegangan katode rendah yang diterapkan pada target, plasma terikat oleh medan magnet di ruang dekat katode, sehingga menghambat partikel bermuatan energi tinggi ke sisi substrat yang ditembakkan orang.Baca selengkapnya -
Karakteristik Pelapisan Sputtering Magnetron Bab 1
Dibandingkan dengan teknologi pelapisan lainnya, pelapisan sputtering magnetron memiliki ciri-ciri sebagai berikut: parameter kerja memiliki rentang penyesuaian dinamis yang besar terhadap kecepatan pengendapan lapisan dan ketebalannya (keadaan area yang dilapisi) yang dapat dikontrol dengan mudah, dan tidak ada desain...Baca selengkapnya -
Teknologi pengendapan berbantuan sinar ion
Teknologi pengendapan berbantuan sinar ion adalah teknologi pelapisan pengendapan uap dan injeksi sinar ion yang dikombinasikan dengan teknologi pemrosesan komposit permukaan ion. Dalam proses modifikasi permukaan material yang diinjeksi ion, baik material semikonduktor maupun material rekayasa, teknologi ini...Baca selengkapnya
