A vákuumbevonó rendszer egy olyan technológia, amelyet vékony film vagy bevonat felvitelére használnak egy felületre vákuumkörnyezetben. Ez az eljárás kiváló minőségű, egyenletes és tartós bevonatot biztosít, ami kulcsfontosságú számos iparágban, például az elektronikában, az optikában, az autóiparban és a repülőgépiparban. Különböző ...
A magnetronos porlasztásos optikai in-line vákuumos bevonórendszerek fejlett technológiát képviselnek, amellyel vékony filmeket lehet felvinni különféle hordozókra, és ezeket gyakran alkalmazzák olyan iparágakban, mint az optika, az elektronika és az anyagtudomány. Az alábbiakban részletes áttekintést talál: Alkatrészek és jellemzők: 1...
(3) Rádiófrekvenciás plazma CVD (RFCVD) Az RF kétféleképpen használható plazma előállítására: kapacitív csatolású módszerrel és induktív csatolású módszerrel. Az RF plazma CVD 13,56 MHz frekvenciát használ. Az RF plazma előnye, hogy sokkal nagyobb területen diffundál, mint a mikrohullámú pl...
A forró szálas CVD a gyémánt alacsony nyomáson történő növesztésének legkorábbi és legnépszerűbb módszere. 1982 Matsumoto és munkatársai egy tűzálló fémszálat 2000°C fölé hevítettek, amely hőmérsékleten a szálon áthaladó H2 gáz könnyen hidrogénatomokat termel. Az atomos hidrogén előállítása...
A vákuumbevonatolási technológia egy olyan technológia, amely vékonyréteg-anyagokat visz fel az aljzatanyagok felületére vákuumkörnyezetben, és amelyet széles körben használnak az elektronikában, az optikában, a csomagolásban, a dekorációban és más területeken. A vákuumbevonó berendezések főként a következő típusokra oszthatók...
A vákuumbevonó berendezés egyfajta berendezés a felület módosítására vákuumtechnológiát alkalmazva, amely főként vákuumkamrát, vákuumrendszert, hőforrás-rendszert, bevonóanyagot és így tovább tartalmaz. Jelenleg a vákuumbevonó berendezést széles körben használják az autóiparban, mobiltelefonokban, optikában,...
1. A vákuumionos bevonatolási technológia alapelve Vákuumíves kisülési technológiát alkalmazva vákuumkamrában ívfény keletkezik a katódanyag felületén, ami atomok és ionok kialakulását okozza a katódanyagon. Elektromos tér hatására az atom- és ionsugarak bombázzák a...
A vákuumos magnetronos porlasztás különösen alkalmas reaktív leválasztásos bevonatokhoz. Valójában ez az eljárás bármilyen oxid, karbid és nitrid anyag vékonyrétegeinek leválasztására alkalmas. Ezenkívül az eljárás különösen alkalmas többrétegű filmszerkezetek, beleértve az optikai...
„A DLC a »DIAMOND-LIKE CARBON« (gyémántszerű szén) rövidítése, egy szén elemekből álló anyag, amely természetében hasonló a gyémánthoz, és grafitatomok szerkezetével rendelkezik. A gyémántszerű szén (DLC) egy amorf film, amely felkeltette a tribológiai közösség figyelmét...”
A gyémántfilmek elektromos tulajdonságai és alkalmazásai A gyémánt tiltott sávszélességgel, nagy hordozómobilitással, jó hővezető képességgel, magas telítési elektronsodródási sebességgel, kis dielektromos állandóval, magas átütési feszültséggel és elektronlyuk-mobilitással stb. is rendelkezik. Átütési feszültsége két vagy...
Az erős kémiai kötéssel képződött gyémánt különleges mechanikai és rugalmas tulajdonságokkal rendelkezik. A gyémánt keménysége, sűrűsége és hővezető képessége a legmagasabb az ismert anyagok között. A gyémánt rendelkezik a legnagyobb rugalmassági modulusszal is az összes anyag közül. A gyémánt súrlódási együtthatója...
A gallium-arzenid (GaAs) Ⅲ ~ V összetett akkumulátor akár 28%-os konverziós hatásfoka. A GaAs összetett anyag ideális optikai sávszélességgel, valamint magas abszorpciós hatékonysággal, erős besugárzásállósággal, hőérzéketlenséggel rendelkezik, alkalmas nagy hatékonyságú egycsatlakozós akkumulátorok gyártására.
A napelemeket a harmadik generációra fejlesztették, amelyből az első generáció monokristályos szilícium napelem, a második generáció amorf szilícium és polikristályos szilícium napelem, a harmadik generáció pedig réz-acél-gallium-szelenid (CIGS), mint a...
A membránréteg mechanikai tulajdonságait befolyásolja a tapadás, a feszültség, az aggregációs sűrűség stb. A membránréteg anyaga és a folyamattényezők közötti kapcsolatból látható, hogy ha javítani akarjuk a membránréteg mechanikai szilárdságát, akkor a következőkre kell összpontosítanunk...
Az epitaxiális növekedés, amelyet gyakran epitaxiának is neveznek, a félvezető anyagok és eszközök gyártásának egyik legfontosabb folyamata. Az úgynevezett epitaxiális növekedés bizonyos körülmények között az egykristályos hordozón egytermékes filmréteg növesztésével történik...