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Nouvelles
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Introduction au système de revêtement sous vide
Un système de revêtement sous vide est une technologie permettant d'appliquer un film mince ou un revêtement sur une surface sous vide. Ce procédé garantit un revêtement de haute qualité, uniforme et durable, essentiel dans divers secteurs tels que l'électronique, l'optique, l'automobile et l'aérospatiale. Il existe différents…En savoir plus -
Qu'est-ce que les systèmes de revêtement sous vide optique en ligne par pulvérisation cathodique
Les systèmes de dépôt sous vide optique en ligne par pulvérisation cathodique magnétron sont une technologie avancée permettant de déposer des couches minces sur divers substrats. Ils sont couramment utilisés dans des secteurs tels que l'optique, l'électronique et la science des matériaux. Voici un aperçu détaillé : Composants et caractéristiques : 1.En savoir plus -
Technologie des couches minces de diamant - Chapitre 2
(3) CVD plasma radiofréquence (RFCVD)La RF peut être utilisée pour générer du plasma par deux méthodes différentes, la méthode de couplage capacitif et la méthode de couplage inductif.Le CVD plasma RF utilise une fréquence de 13,56 MHz.L'avantage du plasma RF est qu'il diffuse sur une zone beaucoup plus grande que le plasma micro-ondes...En savoir plus -
Technologie des couches minces de diamant - Chapitre 1
Le dépôt CVD à filament chaud est la méthode la plus ancienne et la plus répandue de croissance de diamant à basse pression. En 1982, Matsumoto et al. ont chauffé un filament de métal réfractaire à plus de 2 000 °C, température à laquelle le gaz H2 traversant le filament produit facilement des atomes d'hydrogène. La production d'hydrogène atomique pendant…En savoir plus -
Quelles sont les classifications des équipements de revêtement sous vide ?
La technologie de revêtement sous vide consiste à déposer des couches minces de matériaux sur la surface de substrats sous vide. Elle est largement utilisée dans l'électronique, l'optique, l'emballage, la décoration et d'autres domaines. Les équipements de revêtement sous vide se divisent principalement en plusieurs types :En savoir plus -
Comment choisir une bonne marque d'équipement de revêtement sous vide ?
Un équipement de revêtement sous vide est un équipement de modification de surface utilisant la technologie du vide. Il comprend principalement une chambre à vide, un système de vide, un système de source de chaleur, un matériau de revêtement, etc. Actuellement, il est largement utilisé dans les secteurs de l'automobile, de la téléphonie mobile, de l'optique, etc.En savoir plus -
Introduction à la technologie de revêtement ionique sous vide
1. Principe de la technologie de revêtement ionique sous vide. Grâce à la technologie de décharge d'arc sous vide dans une chambre à vide, une lumière d'arc est générée à la surface du matériau cathodique, provoquant la formation d'atomes et d'ions. Sous l'action d'un champ électrique, les faisceaux d'atomes et d'ions bombardent...En savoir plus -
Caractéristiques techniques de la machine de revêtement par pulvérisation cathodique
La pulvérisation cathodique magnétron sous vide est particulièrement adaptée aux revêtements par dépôt réactif. Ce procédé permet de déposer des couches minces de tout type d'oxyde, de carbure et de nitrure. Il est également particulièrement adapté au dépôt de structures multicouches, notamment de films optométr...En savoir plus -
Introduction à la technologie DLC
DLC est l'abréviation de « DIAMOND-LIKE CARBON », une substance composée d'éléments carbonés, de nature similaire au diamant, et dont la structure est celle des atomes de graphite. Le DLC (Diamond-Like Carbon) est un film amorphe qui a attiré l'attention de la communauté tribologique…En savoir plus -
Propriétés et applications des films de diamant chapitre 2
Propriétés électriques et applications des films de diamant Le diamant possède également une bande passante interdite, une mobilité élevée des porteurs, une bonne conductivité thermique, un taux de dérive des électrons à saturation élevé, une faible constante diélectrique, une tension de claquage élevée et une mobilité des trous d'électrons, etc. Sa tension de claquage est de deux ou...En savoir plus -
Propriétés et applications des films de diamant chapitre 1
Le diamant, formé par une forte liaison chimique, possède des propriétés mécaniques et élastiques particulières. Sa dureté, sa densité et sa conductivité thermique sont parmi les plus élevées parmi les matériaux connus. Il possède également le module d'élasticité le plus élevé de tous les matériaux. Le coefficient de frottement d'un diamant…En savoir plus -
Chapitre 2 sur les types de cellules solaires
Batterie composée d'arséniure de gallium (GaAs) Ⅲ ~ V avec une efficacité de conversion allant jusqu'à 28 %, le matériau composé GaAs présente une bande interdite optique très idéale, ainsi qu'une efficacité d'absorption élevée, une forte résistance à l'irradiation, insensible à la chaleur, adapté à la fabrication de batteries à jonction unique à haut rendement...En savoir plus -
Chapitre 1 sur les types de cellules solaires
Les cellules solaires ont été développées jusqu'à la troisième génération, dont la première génération est constituée de cellules solaires en silicium monocristallin, la deuxième génération est constituée de cellules solaires en silicium amorphe et en silicium polycristallin, et la troisième génération est constituée de cellules en cuivre-acier-gallium-séléniure (CIGS) en tant que représentant de...En savoir plus -
Méthodes de traitement pour améliorer la résistance mécanique de la couche de film
Les propriétés mécaniques de la couche membranaire sont affectées par l'adhérence, la contrainte, la densité d'agrégation, etc. À partir de la relation entre le matériau de la couche membranaire et les facteurs de processus, on peut voir que si nous voulons améliorer la résistance mécanique de la couche membranaire, nous devons nous concentrer sur...En savoir plus -
Dépôt chimique en phase vapeur
La croissance épitaxiale, souvent appelée épitaxie, est l'un des procédés les plus importants dans la fabrication de matériaux et de dispositifs semi-conducteurs. Cette croissance épitaxiale se produit, dans certaines conditions, sur un substrat monocristallin, lors de la croissance d'une couche de film monocristallin.En savoir plus
