Velkommen til Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Nyheder
-
Optisk belægningsteknologi: Forbedrede visuelle effekter
I dagens hurtige verden, hvor visuelt indhold har stor indflydelse, spiller optisk belægningsteknologi en vigtig rolle i at forbedre kvaliteten af forskellige skærme. Fra smartphones til tv-skærme har optiske belægninger revolutioneret den måde, vi opfatter og oplever visuelt indhold på. ...Læs mere -
Forbedring af magnetronsputteringbelægning med lysbueafladningsstrømforsyning
Magnetronsputtering udføres ved glødeudladning med lav udladningsstrømtæthed og lav plasmatæthed i belægningskammeret. Dette gør magnetronsputteringsteknologien til en ulempe, såsom lav filmsubstratbindingskraft, lav metalioniseringshastighed og lav aflejringshastighed...Læs mere -
Udnyttelse af RF-udladning
1. Gavnlig til sputtering og plettering af isoleringsfilm. Den hurtige ændring i elektrodepolaritet kan bruges til direkte at sputtere isolerende mål for at opnå isolerende film. Hvis en DC-strømkilde bruges til at sputtere og aflejre isoleringsfilm, vil isoleringsfilmen blokere positive ioner fra at komme ind...Læs mere -
Tekniske egenskaber ved vakuumfordampningsbelægning
1. Vakuumfordampningsprocessen omfatter fordampning af filmmaterialer, transport af dampatomer i højvakuum og processen med kimdannelse og vækst af dampatomer på emnets overflade. 2. Aflejringsvakuumgraden af vakuumfordampningsbelægning er høj, generelt...Læs mere -
Typer af hårde belægninger
TiN er den tidligste hårde belægning, der blev brugt i skæreværktøjer, med fordele som høj styrke, høj hårdhed og slidstyrke. Det er det første industrialiserede og udbredte hårde belægningsmateriale, der er meget udbredt i belagte værktøjer og belagte forme. TiN-hårdbelægning blev oprindeligt aflejret ved 1000 ℃...Læs mere -
Karakteristika for plasmaoverflademodifikation
Højenergiplasma kan bombardere og bestråle polymermaterialer, bryde deres molekylkæder, danne aktive grupper, øge overfladeenergien og generere ætsning. Plasmaoverfladebehandling påvirker ikke bulkmaterialets indre struktur og ydeevne, men kun væsentligt ...Læs mere -
Processen med ionbelægning med lille lysbuekilde
Processen med katodisk lysbue-ionbelægning er grundlæggende den samme som andre belægningsteknologier, og nogle operationer såsom montering af emner og støvsugning gentages ikke længere. 1. Bombardementrengøring af emner Før belægning indføres argongas i belægningskammeret med en...Læs mere -
Karakteristika og genereringsmetoder for bueelektronstrømning
1. Karakteristika for elektronstrøm i lysbue Densiteten af elektronstrøm, ionstrøm og højenergiske neutrale atomer i lysbueplasma genereret af lysbueudladning er meget højere end den ved glødeudladning. Der er flere ioniserede gasioner og metalioner, exciterede højenergiatomer og forskellige aktive gro...Læs mere -
Anvendelsesområder for plasmaoverflademodifikation
1) Plasmaoverflademodifikation refererer primært til visse modifikationer af papir, organiske film, tekstiler og kemiske fibre. Brugen af plasma til tekstilmodifikation kræver ikke brug af aktivatorer, og behandlingsprocessen beskadiger ikke selve fibrenes egenskaber. ...Læs mere -
Anvendelse af ionbelægning inden for optiske tyndfilm
Anvendelsen af optiske tyndfilm er meget omfattende og spænder fra briller, kameralinser, mobiltelefonkameraer, LCD-skærme til mobiltelefoner, computere og fjernsyn, LED-belysning, biometriske enheder til energibesparende vinduer i biler og bygninger samt medicinske instrumenter, te...Læs mere -
Informationsdisplayfilm og ionbelægningsteknologi
1. Filmtype i informationsdisplayet Ud over TFT-LCD- og OLED-tyndfilm inkluderer informationsdisplayet også ledningselektrodefilm og transparente pixelelektrodefilm i displaypanelet. Belægningsprocessen er kerneprocessen i TFT-LCD- og OLED-display. Med den kontinuerlige prog...Læs mere -
Vækstloven for vakuumfordampningsbelægningsfilmlaget
Under fordampningsbelægning er kimdannelse og vækst af filmlaget grundlaget for forskellige ionbelægningsteknologier 1. Kimdannelse I vakuumfordampningsbelægningsteknologi flyver filmlagspartiklerne, efter at de er fordampet fra fordampningskilden i form af atomer, direkte til ...Læs mere -
Fælles træk ved forbedret glødeudladningsionbelægningsteknologi
1. Arbejdsemnets bias er lav. På grund af tilføjelsen af en enhed til at øge ioniseringshastigheden øges udladningsstrømtætheden, og biasspændingen reduceres til 0,5~1 kV. Tilbagesputteringen forårsaget af overdreven bombardement af højenergiioner og den beskadigende effekt på emnets overflade...Læs mere -
Fordele ved cylindriske mål
1) Cylindriske mål har en højere udnyttelsesgrad end plane mål. I belægningsprocessen, uanset om det er et roterende magnetisk mål eller et cylindrisk sputtermål af den roterende rørtype, passerer alle dele af målrørets overflade kontinuerligt gennem det sputterområde, der genereres foran...Læs mere -
Plasma direkte polymerisationsproces
Plasma direkte polymerisationsprocessen Plasmapolymerisationsprocessen er relativt enkel for både intern elektrodepolymerisationsudstyr og ekstern elektrodepolymerisationsudstyr, men parametervalg er vigtigere i plasmapolymerisation, fordi parametre har en større...Læs mere
