Vítejte ve společnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Novinky z oboru
-
Vakuový povlakovací stroj s optickým PVD napařováním tenkých vrstev AF
Vakuový povlakovací stroj AF Thin Film Evaporation Optical PVD je navržen pro nanášení tenkovrstvých povlaků na mobilní zařízení pomocí procesu fyzikální depozice z plynné fáze (PVD). Proces zahrnuje vytvoření vakuového prostředí uvnitř povlakovací komory, kde se pevné materiály odpařují a poté se ukládají...Číst dále -
Stroj na výrobu hliníkových stříbrných vakuových zrcadel
Stroj na vakuové nanášení hliníkově-stříbrného povlaku na zrcadla způsobil revoluci v odvětví výroby zrcadel díky své pokročilé technologii a přesnému inženýrství. Tento moderní stroj je navržen tak, aby nanášel tenkou vrstvu hliníkově-stříbrného povlaku na povrch skla a vytvářel tak vysoce kvalitní...Číst dále -
Optický vakuový lakovací stroj
Optický vakuový metalizátor je nejmodernější technologie, která způsobila revoluci v odvětví povrchových úprav. Tento pokročilý stroj využívá proces zvaný optická vakuová metalizace k nanášení tenké vrstvy kovu na různé substráty, čímž vytváří vysoce reflexní a odolný povrch...Číst dále -
Plazmou vylepšená chemická depozice z plynné fáze, kapitola 2
Většinu chemických prvků lze odpařit jejich kombinací s chemickými skupinami, např. Si reaguje s H za vzniku SiH4 a Al se slučuje s CH3 za vzniku Al(CH3). V tepelném CVD procesu výše uvedené plyny absorbují určité množství tepelné energie při průchodu zahřátým substrátem a tvoří re...Číst dále -
Plazmou vylepšená chemická depozice z plynné fáze, kapitola 1
Chemická depozice z plynné fáze (CVD). Jak název napovídá, jedná se o techniku, která využívá plynné prekurzorové reaktanty k vytváření pevných filmů pomocí atomových a intermolekulárních chemických reakcí. Na rozdíl od PVD se proces CVD provádí většinou v prostředí s vyšším tlakem (nižším vakuem),...Číst dále -
Prvky procesu a mechanismy ovlivňující kvalitu tenkovrstvých součástek (část 2)
3. Vliv teploty substrátu Teplota substrátu je jednou z důležitých podmínek pro růst membrány. Poskytuje dodatečný energetický doplněk atomům nebo molekulám membrány a ovlivňuje hlavně strukturu membrány, aglutinační koeficient, expanzní koeficient a agregát...Číst dále -
Procesní faktory a mechanismy ovlivňující kvalitu tenkovrstvých součástek (část 1)
Výroba optických tenkovrstvých zařízení se provádí ve vakuové komoře a růst vrstvy filmu je mikroskopický proces. V současné době však lze přímo řídit makroskopickými procesy, které mají nepřímý vztah ke kvalitě...Číst dále -
Úvod do historie vývoje technologie odpařování
Proces zahřívání pevných materiálů ve vysokém vakuu za účelem sublimace nebo odpaření a jejich nanesení na specifický substrát za účelem získání tenkého filmu je známý jako vakuové odpařování (označované jako odpařovací povlakování). Historie přípravy tenkých filmů vakuovým odpařováním...Číst dále -
Úvod do ITO povlaků
Oxid india a cínu (Indium Tin Oxide, označovaný jako ITO) je silně dopovaný polovodičový materiál typu n s širokou zakázanou pásmovou mezerou, vysokou propustností viditelného světla a nízkým odporem, a proto se široce používá v solárních článcích, plochých displejích, elektrochromatických oknech, anorganických a organických...Číst dále -
Laboratorní vakuový rotační potahovací stroj
Laboratorní vakuové rotační nanášečky jsou důležitými nástroji v oblasti nanášení tenkých vrstev a modifikace povrchů. Toto pokročilé zařízení je navrženo pro přesné a rovnoměrné nanášení tenkých vrstev z různých materiálů na substráty. Proces zahrnuje nanášení kapalného roztoku nebo suspenze...Číst dále -
Režim depozice s asistencí iontového svazku a jeho výběr energie
Existují dva hlavní způsoby depozice s asistencí iontového svazku: dynamický hybridní a statický hybridní. První způsob se týká filmu, který je v procesu růstu vždy doprovázen určitou energií a proudem svazku iontového bombardování a filmu; druhý způsob je předem nanesen na povrch...Číst dále -
Technologie iontového svazku
① Technologie depozice s asistencí iontového svazku se vyznačuje silnou adhezí mezi filmem a substrátem, vrstva filmu je velmi pevná. Experimenty ukázaly, že: depozice s asistencí iontového svazku má oproti termické depozici z plynné fáze několikanásobně vyšší adhezi až stonásobně vyšší...Číst dále -
Vakuové iontové povlakování
Vakuové iontové pokovování (označované jako iontové pokovování) navrhla v roce 1963 ve Spojených státech společnost DM Mattox ze Somdia. V 70. letech 20. století došlo k rychlému rozvoji nové technologie povrchové úpravy. Jedná se o použití zdroje odpařování nebo naprašovacího terče ve vakuové atmosféře, aby se film...Číst dále -
Filmová vrstva v potaženém skle se odstraňuje způsobem
Povlakované sklo se dělí na sklo nanášené odpařováním, magnetronovým naprašováním a sklo nanášené in-line napařováním. Vzhledem k tomu, že se způsob přípravy filmu liší, liší se i způsob jeho odstraňování. Návrh 1: Použití kyseliny chlorovodíkové a zinkového prášku k leštění a mazání...Číst dále -
Úloha povlaků řezných nástrojů - Kapitola 2
I při velmi vysokých řezných teplotách lze prodloužit životnost řezného nástroje povlakem, čímž se výrazně sníží náklady na obrábění. Povlak řezného nástroje navíc může snížit potřebu mazacích kapalin. Nejenže se snižují náklady na materiál, ale také se pomáhá chránit životní prostředí...Číst dále
