Línia de producció de recobriment continu horitzontal ITO / ISI
Obteniu un pressupost
DESCRIPCIÓ DEL PRODUCTE
La línia de producció de recobriment continu horitzontal ITO / ISI és un gran equip de producció contínua de polverització de magnetrons planars, que adopta un disseny modular per facilitar l'expansió i l'actualització futures.Equipat amb múltiples grups de càtodes de magnetron grans, es pot aplicar a la combinació de múltiples estructures de membrana.Control totalment automàtic i sistema de transmissió d'alta estabilitat, que es pot connectar perfectament amb el manipulador per aconseguir un funcionament continu i estable de la línia de muntatge.Ritme de producció ràpid i gran capacitat de producció.
La línia de recobriment és adequada per xapar ITO, AZO, TCO i altres pel·lícules conductores transparents, així com metalls elementals Ti, Ag, Cu, Al, Cr, Ni i altres materials.S'utilitza principalment en panells domèstics intel·ligents, pantalla de visualització, pantalla tàctil, vidre de vehicles, panells fotovoltaics i altres productes.
APLICACIÓ DE LA INDÚSTRIA
DISPOSITIUS RELATIUS
Feu clic a Veure
Gran recobriment de polverització de magnetró horitzontal...
La gran línia de producció de recobriments de pols de magnetron horitzontal és un gran equip de producció contínua de polverització de magnetrons planars, que adopta un disseny modular per...
Línia de producció de recobriment multifuncional vertical
Models opcionals Línia de producció de recobriments multifuncionals vertical Línia de producció de recobriments de pel·lícules decoratives verticals
Producte de recobriment per polverització de magnetró horitzontal...
Amb l'atenció nacional a la protecció del medi ambient industrial, el procés de galvanoplastia d'aigua s'abandona gradualment.Al mateix temps, amb el ràpid creixement de la dem...
Línia de producció de recobriment vertical de doble cara
La línia de recobriment adopta un disseny d'estructura modular vertical i està equipada amb múltiples portes d'accés, la qual cosa és convenient per a la instal·lació i el manteniment independents de...
Revestiment de semiconductors de doble cara horitzontal...
La línia de recobriment adopta una estructura modular, que pot augmentar la cambra d'acord amb els requisits de procés i eficiència, i es pot revestir per ambdues cares, que és f...