Eynək və linzalar üçün CR39, PC (polikarbonat), 1.53 Trivex156, orta refraktiv indeksli plastik, şüşə və s. kimi bir çox növ substrat var. Korreksiyaedici linzalar üçün həm qatran, həm də şüşə linzaların keçiriciliyi cəmi 91% təşkil edir və işığın bir hissəsi iki s...
1.Vakuum örtüyünün filmi çox nazikdir (normalda 0,01-0,1um)| 2.Vakuum örtüyü ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA və s. kimi bir çox plastik üçün istifadə edilə bilər. 3. Film əmələ gətirən temperatur aşağıdır. Dəmir və polad sənayesində isti sinklənmənin örtük temperaturu ümumiyyətlə 400 ℃ a...
1863-cü ildə Avropada fotovoltaik effektin kəşfindən sonra ABŞ 1883-cü ildə (Se) ilə ilk fotovoltaik elementi hazırladı.İlk dövrlərdə fotovoltaik elementlər əsasən aerokosmik, hərbi və digər sahələrdə istifadə olunurdu. Son 20 ildə fotovoltanın qiymətinin kəskin azalması...
1. Bombardmanla təmizləyici substrat 1.1) Püskürtmə örtük maşını substratı təmizləmək üçün parıltı boşalmasından istifadə edir. Yəni, arqon qazını kameraya doldurun, boşalma gərginliyi 1000V civarındadır, enerji təchizatı işə salındıqdan sonra bir parıltı boşalması yaranır və substrat təmizlənir ...
Cib telefonları kimi istehlak elektronikası məhsullarında optik nazik filmlərin tətbiqi ənənəvi kamera linzalarından kamera linzaları, linza qoruyucuları, infraqırmızı kəsmə filtrləri (IR-CUT) və cib telefonunun batareya qapaqlarında NCVM örtüyü kimi müxtəlif istiqamətlərə keçdi. Kamera sürəti...
CVD örtük texnologiyası aşağıdakı xüsusiyyətlərə malikdir: 1. CVD avadanlığının texnoloji əməliyyatı nisbətən sadə və çevikdir və o, müxtəlif nisbətlərdə tək və ya kompozit plyonkaları və ərinti filmləri hazırlaya bilər; 2. CVD örtüyü geniş tətbiq sahəsinə malikdir və əvvəlcədən...
Vakuum örtük maşını prosesi aşağıdakılara bölünür: vakuum buxarlanma örtüyü, vakuum püskürtmə örtüyü və vakuum ion örtüyü. 1、Vakuum buxarlanma örtüyü Vakuum şəraitində materialı buxarlandırın, məsələn, metal, metal ərintisi və s. sonra onları substratın səthinə qoyun...
1, Vakuum örtük prosesi nədir? Funksiya nədir? Vakuum örtüyü adlanan proses vakuum mühitində film materialının hissəciklərini yaymaq üçün buxarlanma və püskürtmə üsulundan istifadə edir,Metal, şüşə, keramika, yarımkeçiricilər və plastik hissələrin üzərinə örtük təbəqəsi yaratmaq üçün çökdürülür, deko...
Vakuum örtük avadanlığı vakuum şəraitində işlədiyi üçün avadanlıq ətraf mühit üçün vakuum tələblərinə cavab verməlidir. Ölkəmdə hazırlanmış müxtəlif növ vakuum örtük avadanlığı üçün sənaye standartları (o cümlədən vakuum örtük avadanlığı üçün ümumi texniki şərtlər,...
Filmin növü Film materialı Substrat Filmin xüsusiyyətləri və tətbiqi Metal plyonka CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt polad, yumşaq poladTitan ərintisi, yüksək karbonlu polad, yumşaq poladTitan plastik ərintisi, kolonsuz polad Aşınmaya qarşı...
Vakuum ion örtüyü (qısaca ion örtük) 1963-cü ildə ABŞ-da Somdia şirkətindən DM Mattox tərəfindən təklif edilən 1970-ci illərdə sürətlə inkişaf etdirilən yeni səth təmizlənməsi texnologiyasıdır. Buxarlanma mənbəyindən və ya püskürtmə hədəfindən buxarlanma və ya püskürtmə üçün istifadə prosesinə aiddir...
① Yansıtma əleyhinə film. Məsələn, kameralar, slayd proyektorlar, proyektorlar, kinoproyektorlar, teleskoplar, görmə eynəkləri və müxtəlif optik alətlərin linzaları və prizmalarında örtülmüş bir qatlı MgF plyonkaları və SiOFrO2, AlO, ...
① Film qalınlığının yaxşı idarə oluna bilməsi və təkrarlana bilməsi Film qalınlığının əvvəlcədən müəyyən edilmiş dəyərdə idarə oluna bilib-bilməyəcəyinə plyonka qalınlığının idarəolunması deyilir. Lazım olan plyonka qalınlığı dəfələrlə təkrarlana bilər ki, bu da film qalınlığının təkrarlanabilirliyi adlanır. Çünki boşalma...
Kimyəvi Buxar Depoziti (CVD) texnologiyası, normal və ya aşağı təzyiq altında kimyəvi reaksiya yolu ilə substratın səthində qazlı maddələrin bərk filmlər əmələ gətirməsi üçün qızdırma, plazma gücləndirmə, foto yardımlı və digər vasitələrdən istifadə edən film əmələ gətirən texnologiyadır. Ümumiyyətlə, reaksiya...
1. Buxarlanma dərəcəsi buxarlanmış örtüyün xüsusiyyətlərinə təsir edəcək Buxarlanma sürəti yığılmış filmə böyük təsir göstərir. Aşağı çökmə sürəti ilə əmələ gələn örtük strukturu boş və böyük hissəciklərin çökməsi istehsal etmək asan olduğundan, daha yüksək buxarlanma seçmək çox təhlükəsizdir ...