ZCL1009

Thiết bị được trang bị hệ thống phủ màng bằng phương pháp phún xạ magnetron + hệ thống phủ chống bám vân tay + hệ thống điều khiển vòng kín SPEEDFLO.
Thiết bị này sử dụng công nghệ lắng đọng phún xạ magnetron tần số trung bình và công nghệ chống bám vân tay. Đây là thiết bị phủ nano được thiết kế đặc biệt cho các khuôn mẫu laser chính xác. Sau khi khuôn mẫu được phủ lớp nano, một lớp phủ có hệ số ma sát cực thấp sẽ được hình thành trên bề mặt, giúp tránh bị trầy xước khi in kem hàn và kem hàn khó bám dính, từ đó bảo vệ hiệu quả bề mặt khuôn mẫu laser, nâng cao tuổi thọ và độ chính xác.
Thiết bị này phù hợp với các sản phẩm làm từ thép không gỉ và thủy tinh pha lê. Nó có thể lắng đọng nhiều loại oxit và kim loại đơn giản, cũng như chế tạo các màng màu làm sáng, màng màu chuyển sắc và các màng điện môi khác.