ยินดีต้อนรับสู่บริษัท Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
English
บ้าน
สินค้า
สายเคลือบต่อเนื่อง
อุปกรณ์เคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์
อุปกรณ์เคลือบไอออนสปัตเตอร์แบบอาร์คแคโทดิก
อุปกรณ์เคลือบฟิล์มออปติคอลแบบสปัตเตอร์แมกนีตรอน
อุปกรณ์เคลือบออปติกระเหยลำแสงอิเล็กตรอน
อุปกรณ์เคลือบป้องกันรอยนิ้วมือ
อุปกรณ์เคลือบแข็ง
อุปกรณ์เคลือบสารต้านทานการระเหย
อุปกรณ์เคลือบแบบม้วนต่อม้วน
อุปกรณ์เคลือบ CVD
อุปกรณ์ทำความสะอาดพลาสม่าสูญญากาศ
อุปกรณ์เคลือบทดลอง
การประยุกต์ใช้ในอุตสาหกรรม
อุตสาหกรรมโทรศัพท์มือถือ
อุตสาหกรรมยานยนต์
อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์
อุตสาหกรรมการใช้งานออปติกและเลนส์
อุตสาหกรรมพลังงานแสงอาทิตย์และเซมิคอนดักเตอร์
การใช้งานเคลือบแข็ง
อุตสาหกรรมภาพยนตร์แบบยืดหยุ่น
อุตสาหกรรมภาพยนตร์แบบยืดหยุ่น
วัสดุแม่เหล็กชนิดใหม่
อุตสาหกรรมโคมไฟ
อุตสาหกรรมเฟอร์นิเจอร์และเครื่องใช้ในบ้าน
อุตสาหกรรมสุขาภิบาล
อุตสาหกรรมวัสดุก่อสร้าง
อุตสาหกรรมผลิตภัณฑ์เคมีรายวันและกระบวนการตกแต่ง
อุตสาหกรรมนาฬิกาและเครื่องประดับ
อุตสาหกรรมอุปกรณ์กีฬา
งานวิจัยเชิงวิชาการ
เกี่ยวกับเรา
บริการหลังการขาย
คุณสมบัติด้านเกียรติยศ
สิทธิบัตรองค์กร
เข้าร่วมกับเรา
การแนะนำเทคโนโลยี
กรณีศึกษาลูกค้า
ข่าว
ข่าวสารอุตสาหกรรม
ประกาศ
รับใบเสนอราคา
บ้าน
ข่าว
ข่าวสารอุตสาหกรรม
การประยุกต์ใช้ฟิล์มบางออปติคอลในอุตสาหกรรมกระจกเคลือบ
โดย admin เมื่อ 23-04-14
วัสดุรองรับสำหรับแว่นตาและเลนส์มีหลายประเภท เช่น CR39, PC (โพลีคาร์บอเนต), 1.53 Trivex156, พลาสติกที่มีดัชนีหักเหแสงปานกลาง, แก้ว ฯลฯ สำหรับเลนส์แก้ไขสายตานั้น เลนส์เรซินและแก้วมีการส่งผ่านแสงเพียงประมาณ 91% เท่านั้น และแสงบางส่วนจะสะท้อนกลับโดยวัสดุทั้งสอง...
อ่านเพิ่มเติม
คุณสมบัติของเครื่องเคลือบสูญญากาศ
โดย admin เมื่อ 23-04-13
1.ฟิล์มเคลือบสูญญากาศมีความบางมาก (ปกติ 0.01-0.1um) | 2.การเคลือบสูญญากาศสามารถใช้กับพลาสติกได้หลายชนิด เช่น ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA เป็นต้น 3.อุณหภูมิในการสร้างฟิล์มต่ำ ในอุตสาหกรรมเหล็กและเหล็กกล้า อุณหภูมิการเคลือบของการชุบสังกะสีแบบจุ่มร้อนโดยทั่วไปจะอยู่ระหว่าง 400 ℃ ถึง 450 ℃
อ่านเพิ่มเติม
บทนำสู่เทคโนโลยีฟิล์มบางโซลาร์เซลล์
โดย admin เมื่อ 23-04-07
หลังจากการค้นพบปรากฏการณ์โฟโตวอลตาอิกในยุโรปในปี 1863 สหรัฐอเมริกาก็ได้ผลิตเซลล์โฟโตวอลตาอิกเซลล์แรกด้วย (Se) ในปี 1883 ในช่วงแรก เซลล์โฟโตวอลตาอิกส่วนใหญ่ใช้ในอวกาศ การทหาร และสาขาอื่นๆ ในช่วง 20 ปีที่ผ่านมา ต้นทุนของโฟโตวอลตาอิกลดลงอย่างรวดเร็ว...
อ่านเพิ่มเติม
ผังกระบวนการของเครื่องเคลือบแบบสปัตเตอร์
โดย admin เมื่อ 23-04-07
1. การทำความสะอาดพื้นผิวด้วยการระเบิด 1.1) เครื่องเคลือบแบบสปัตเตอร์ใช้การปล่อยประจุเรืองแสงเพื่อทำความสะอาดพื้นผิว กล่าวคือ ชาร์จก๊าซอาร์กอนเข้าไปในห้อง แรงดันไฟฟ้าการปล่อยอยู่ที่ประมาณ 1,000 โวลต์ หลังจากเปิดแหล่งจ่ายไฟแล้ว จะเกิดการปล่อยประจุเรืองแสง และพื้นผิวจะได้รับการทำความสะอาดโดย ...
อ่านเพิ่มเติม
การประยุกต์ใช้ฟิล์มออปติคอลในผลิตภัณฑ์โทรศัพท์มือถือ
โดย admin เมื่อ 23-03-31
การประยุกต์ใช้ฟิล์มบางออปติคอลในผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์สำหรับผู้บริโภค เช่น โทรศัพท์มือถือ ได้เปลี่ยนจากเลนส์กล้องแบบดั้งเดิมไปสู่ทิศทางที่หลากหลายขึ้น เช่น เลนส์กล้อง ตัวป้องกันเลนส์ ฟิลเตอร์ตัดแสงอินฟราเรด (IR-CUT) และการเคลือบ NCVM บนฝาครอบแบตเตอรี่โทรศัพท์มือถือ คุณสมบัติของกล้อง...
อ่านเพิ่มเติม
ลักษณะเฉพาะของอุปกรณ์เคลือบ CVD
โดย admin เมื่อ 23-03-29
เทคโนโลยีการเคลือบ CVD มีคุณลักษณะดังต่อไปนี้: 1. การทำงานของกระบวนการของอุปกรณ์ CVD ค่อนข้างง่ายและยืดหยุ่น และสามารถเตรียมฟิล์มเดี่ยวหรือแบบผสมและฟิล์มโลหะผสมที่มีสัดส่วนต่างกันได้ 2. การเคลือบ CVD มีขอบเขตการใช้งานที่กว้างขวาง และสามารถใช้ในการเตรียม...
อ่านเพิ่มเติม
เครื่องเคลือบสูญญากาศมีกระบวนการอะไรบ้าง หลักการทำงานเป็นอย่างไร
โดย admin เมื่อ 23-03-23
กระบวนการเคลือบสูญญากาศแบ่งออกเป็น: การเคลือบด้วยการระเหยสูญญากาศ การเคลือบด้วยการสปัตเตอร์สูญญากาศ และการเคลือบด้วยไอออนสูญญากาศ 1、การเคลือบด้วยการระเหยสูญญากาศ ในสภาวะสูญญากาศ ทำให้วัสดุระเหย เช่น โลหะ โลหะผสม ฯลฯ จากนั้นเคลือบบนพื้นผิว
อ่านเพิ่มเติม
เครื่องดูดฝุ่นมีไว้ทำอะไร?
โดย admin เมื่อ 23-03-21
1、กระบวนการเคลือบสูญญากาศคืออะไร มีหน้าที่อะไร กระบวนการเคลือบสูญญากาศใช้การระเหยและการพ่นในสภาพแวดล้อมสูญญากาศเพื่อปล่อยอนุภาคของวัสดุฟิล์มที่สะสมบนโลหะ แก้ว เซรามิก เซมิคอนดักเตอร์ และชิ้นส่วนพลาสติกเพื่อสร้างชั้นเคลือบ สำหรับการตกแต่ง...
อ่านเพิ่มเติม
ข้อกำหนดด้านสิ่งแวดล้อมสำหรับอุปกรณ์เคลือบสูญญากาศ
โดย admin เมื่อ 23-03-17
เนื่องจากอุปกรณ์เคลือบสูญญากาศทำงานภายใต้สภาวะสุญญากาศ อุปกรณ์จึงต้องเป็นไปตามข้อกำหนดของสุญญากาศสำหรับสิ่งแวดล้อม มาตรฐานอุตสาหกรรมสำหรับอุปกรณ์เคลือบสูญญากาศประเภทต่างๆ ที่ผลิตในประเทศของฉัน (รวมถึงเงื่อนไขทางเทคนิคทั่วไปสำหรับอุปกรณ์เคลือบสูญญากาศ...
อ่านเพิ่มเติม
ลักษณะเฉพาะและการประยุกต์ใช้การชุบไอออน
โดย admin เมื่อ 23-03-15
ประเภทฟิล์ม วัสดุฟิล์ม พื้นผิว ลักษณะของฟิล์มและการใช้งาน ฟิล์มโลหะ CrAI、ZnPtNi Au,Cu、AI P、Au Au、W、Ti、Ta Ag、Au、AI、Pt เหล็ก เหล็กอ่อนโลหะผสมไททาเนียม เหล็กกล้าคาร์บอนสูง เหล็กอ่อนโลหะผสมไททาเนียม แก้วแข็ง พลาสติก นิกเกิล เหล็กอินโคเนล สแตนเลสสตีล ซิลิคอน ป้องกันการสึกหรอ ...
อ่านเพิ่มเติม
การเคลือบไอออนสูญญากาศและการจำแนกประเภท
โดย admin เมื่อ 23-03-10
การชุบไอออนสูญญากาศ (เรียกสั้นๆ ว่า ion plating) เป็นเทคโนโลยีการชุบพื้นผิวแบบใหม่ที่ได้รับการพัฒนาอย่างรวดเร็วในช่วงทศวรรษปี 1970 โดยได้รับการเสนอโดย DM Mattox แห่งบริษัท Somdia ในสหรัฐอเมริกาในปี 1963 ซึ่งหมายถึงกระบวนการใช้แหล่งระเหยหรือเป้าหมายการสปัตเตอร์เพื่อระเหยหรือพ่น...
อ่านเพิ่มเติม
เครื่องเคลือบออปติกสามารถใช้เคลือบฟิล์มออปติกได้หลายชนิด
โดย admin เมื่อ 23-03-10
① ฟิล์มกันแสงสะท้อน เช่น กล้องถ่ายรูป เครื่องฉายสไลด์ โปรเจ็กเตอร์ เครื่องฉายภาพยนตร์ กล้องโทรทรรศน์ กล้องส่องทางไกล ฟิล์ม MgF ชั้นเดียวเคลือบบนเลนส์และปริซึมของเครื่องมือออปติกต่างๆ และฟิล์มกันแสงสะท้อนแบนด์กว้างแบบสองชั้นหรือหลายชั้นที่ประกอบด้วย SiOFrO2, Al2O3, ...
อ่านเพิ่มเติม
ลักษณะของฟิล์มเคลือบสปัตเตอร์
โดย admin เมื่อ 23-03-09
① การควบคุมและความสามารถในการทำซ้ำของความหนาของฟิล์มได้ดี ความหนาของฟิล์มสามารถควบคุมได้ที่ค่าที่กำหนดไว้ล่วงหน้าหรือไม่ เรียกว่าความสามารถในการควบคุมความหนาของฟิล์ม ความหนาของฟิล์มที่ต้องการสามารถทำซ้ำได้หลายครั้ง ซึ่งเรียกว่าความสามารถในการทำซ้ำของความหนาของฟิล์ม เนื่องจากการปล่อยประจุ...
อ่านเพิ่มเติม
การแนะนำสั้นๆ เกี่ยวกับเทคโนโลยีการสะสมไอเคมี (CVD)
โดย admin เมื่อ 23-03-04
เทคโนโลยี Chemical Vapor Deposition (CVD) คือเทคโนโลยีการสร้างฟิล์มที่ใช้ความร้อน การเพิ่มประสิทธิภาพของพลาสมา การใช้แสงช่วย และวิธีการอื่น ๆ เพื่อให้สารที่เป็นก๊าซสร้างฟิล์มแข็งบนพื้นผิวของสารตั้งต้นผ่านปฏิกิริยาเคมีภายใต้ความดันปกติหรือต่ำ โดยทั่วไป ปฏิกิริยาใน...
อ่านเพิ่มเติม
ปัจจัยที่มีผลต่อประสิทธิภาพการชุบด้วยการระเหยสูญญากาศ
โดย admin เมื่อ 23-02-28
1. อัตราการระเหยจะมีผลต่อคุณสมบัติของการเคลือบที่ระเหย อัตราการระเหยมีอิทธิพลอย่างมากต่อฟิล์มที่สะสม เนื่องจากโครงสร้างการเคลือบที่เกิดจากอัตราการสะสมต่ำนั้นหลวมและเกิดการสะสมของอนุภาคขนาดใหญ่ได้ง่าย จึงปลอดภัยมากที่จะเลือกอัตราการระเหยที่สูงกว่า ...
อ่านเพิ่มเติม
<<
< ก่อนหน้า
17
18
19
20
21
22
ถัดไป >
>>
หน้าที่ 20 / 22
กด Enter เพื่อค้นหาหรือ ESC เพื่อปิด
English
French
German
Portuguese
Spanish
Russian
Japanese
Korean
Arabic
Irish
Greek
Turkish
Italian
Danish
Romanian
Indonesian
Czech
Afrikaans
Swedish
Polish
Basque
Catalan
Esperanto
Hindi
Lao
Albanian
Amharic
Armenian
Azerbaijani
Belarusian
Bengali
Bosnian
Bulgarian
Cebuano
Chichewa
Corsican
Croatian
Dutch
Estonian
Filipino
Finnish
Frisian
Galician
Georgian
Gujarati
Haitian
Hausa
Hawaiian
Hebrew
Hmong
Hungarian
Icelandic
Igbo
Javanese
Kannada
Kazakh
Khmer
Kurdish
Kyrgyz
Latin
Latvian
Lithuanian
Luxembou..
Macedonian
Malagasy
Malay
Malayalam
Maltese
Maori
Marathi
Mongolian
Burmese
Nepali
Norwegian
Pashto
Persian
Punjabi
Serbian
Sesotho
Sinhala
Slovak
Slovenian
Somali
Samoan
Scots Gaelic
Shona
Sindhi
Sundanese
Swahili
Tajik
Tamil
Telugu
Thai
Ukrainian
Urdu
Uzbek
Vietnamese
Welsh
Xhosa
Yiddish
Yoruba
Zulu
Kinyarwanda
Tatar
Oriya
Turkmen
Uyghur