ยินดีต้อนรับสู่บริษัท Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
ข่าว
-
ประเภทของเทคโนโลยี CVD
โดยทั่วไป CVD สามารถแบ่งได้คร่าวๆ เป็น 2 ประเภท ประเภทหนึ่งคือการสะสมไอของชั้นเอพิแทกเซียลผลึกเดี่ยวในผลิตภัณฑ์เดียวบนพื้นผิว ซึ่งเป็น CVD แบบแคบ อีกประเภทหนึ่งคือการสะสมฟิล์มบางบนพื้นผิว ซึ่งได้แก่ ฟิล์มหลายผลิตภัณฑ์และฟิล์มอสัณฐาน ตาม...อ่านเพิ่มเติม -
การส่งผ่านและการสะท้อนแสงสเปกตรัมและสีของฟิล์มบางออปติคัล บทที่ 2
จากนี้เราจะชี้แจงให้ชัดเจนขึ้น: (1) อุปกรณ์ฟิล์มบาง การส่งผ่าน สเปกตรัมการสะท้อนแสง และสีของความสัมพันธ์ที่สอดคล้องกันระหว่างสเปกตรัมของสี ในทางตรงกันข้าม ความสัมพันธ์นี้ “ไม่ซ้ำกัน” แสดงออกมาในรูปแบบของสเปกตรัมสีหลายสเปกตรัม ดังนั้น ฟิล์ม...อ่านเพิ่มเติม -
การส่งผ่านและการสะท้อนแสงสเปกตรัมและสีของฟิล์มบางออปติคัล บทที่ 1
สเปกตรัมการส่งผ่านและการสะท้อนแสงและสีของฟิล์มบางออปติกเป็นลักษณะสองประการของอุปกรณ์ฟิล์มบางที่มีอยู่ในเวลาเดียวกัน 1. สเปกตรัมการส่งผ่านและการสะท้อนแสงคือความสัมพันธ์ระหว่างการสะท้อนแสงและการส่งผ่านของอุปกรณ์ฟิล์มบางออปติกที่มีความยาวคลื่น สเปกตรัมนี้...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD แบบออปติคัลระเหยฟิล์มบาง AF
เครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD แบบออปติคัลระเหยฟิล์มบาง AF ออกแบบมาเพื่อเคลือบฟิล์มบางบนอุปกรณ์พกพาโดยใช้กระบวนการ Physical Vapor Deposition (PVD) กระบวนการนี้เกี่ยวข้องกับการสร้างสภาพแวดล้อมสูญญากาศภายในห้องเคลือบซึ่งวัสดุแข็งจะระเหยแล้วจึงเคลือบ...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องผลิตกระจกเคลือบสูญญากาศอลูมิเนียมเงิน
เครื่องเคลือบกระจกสูญญากาศอลูมิเนียมเงินได้ปฏิวัติอุตสาหกรรมการผลิตกระจกด้วยเทคโนโลยีขั้นสูงและวิศวกรรมแม่นยำ เครื่องที่ทันสมัยนี้ได้รับการออกแบบมาเพื่อเคลือบอลูมิเนียมเงินบาง ๆ บนพื้นผิวของกระจก ทำให้ได้กระจกคุณภาพสูง...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบสูญญากาศออปติคอล
เครื่องเคลือบโลหะสูญญากาศแบบออปติคอลเป็นเทคโนโลยีล้ำสมัยที่ปฏิวัติวงการอุตสาหกรรมการเคลือบพื้นผิว เครื่องขั้นสูงนี้ใช้กระบวนการที่เรียกว่าการเคลือบโลหะสูญญากาศแบบออปติคอลเพื่อเคลือบโลหะเป็นชั้นบางๆ บนพื้นผิวต่างๆ เพื่อสร้างพื้นผิวที่สะท้อนแสงได้ดีและทนทาน...อ่านเพิ่มเติม -
บทที่ 2 การสะสมไอเคมีด้วยพลาสม่าเสริม
ธาตุเคมีส่วนใหญ่สามารถระเหยได้โดยการรวมเข้ากับกลุ่มเคมี เช่น Si ทำปฏิกิริยากับ H เพื่อสร้าง SiH4 และ Al รวมกับ CH3 เพื่อสร้าง Al(CH3) ในกระบวนการ CVD เชิงความร้อน ก๊าซดังกล่าวข้างต้นจะดูดซับพลังงานความร้อนจำนวนหนึ่งเมื่อผ่านสารตั้งต้นที่ได้รับความร้อนและก่อตัวใหม่...อ่านเพิ่มเติม -
บทที่ 1 การสะสมไอเคมีด้วยพลาสม่าเสริม
การสะสมไอเคมี (CVD) ตามชื่อที่บ่งบอก เป็นเทคนิคที่ใช้สารตั้งต้นที่เป็นก๊าซเพื่อสร้างฟิล์มแข็งโดยใช้ปฏิกิริยาเคมีอะตอมและระหว่างโมเลกุล ไม่เหมือนกับ PVD กระบวนการ CVD ส่วนใหญ่จะดำเนินการในสภาพแวดล้อมที่มีความดันสูงกว่า (สูญญากาศต่ำกว่า)อ่านเพิ่มเติม -
องค์ประกอบกระบวนการและกลไกการทำงานที่ส่งผลต่อคุณภาพของอุปกรณ์ฟิล์มบาง (ตอนที่ 2)
3. อิทธิพลของอุณหภูมิของสารตั้งต้น อุณหภูมิของสารตั้งต้นเป็นเงื่อนไขสำคัญอย่างหนึ่งสำหรับการเจริญเติบโตของเยื่อหุ้มเซลล์ โดยให้พลังงานเพิ่มเติมแก่อะตอมหรือโมเลกุลของเยื่อหุ้มเซลล์ และส่งผลต่อโครงสร้างของเยื่อหุ้มเซลล์ ค่าสัมประสิทธิ์การเกาะกลุ่ม ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัว และการรวมตัวเป็นหลักอ่านเพิ่มเติม -
ปัจจัยกระบวนการและกลไกที่มีผลต่อคุณภาพของอุปกรณ์ฟิล์มบาง (ตอนที่ 1)
การผลิตอุปกรณ์ฟิล์มบางออปติคอลจะดำเนินการในห้องสูญญากาศ และการเติบโตของชั้นฟิล์มเป็นกระบวนการในระดับจุลภาค อย่างไรก็ตาม ในปัจจุบัน กระบวนการในระดับมหภาคที่สามารถควบคุมได้โดยตรงคือปัจจัยระดับมหภาคบางประการที่มีความสัมพันธ์ทางอ้อมกับคุณภาพ...อ่านเพิ่มเติม -
ประวัติการพัฒนาเทคโนโลยีการระเหย
กระบวนการให้ความร้อนวัสดุแข็งในสภาพแวดล้อมสูญญากาศสูงเพื่อระเหิดหรือระเหยและเคลือบบนพื้นผิวเฉพาะเพื่อให้ได้ฟิล์มบาง เรียกว่าการเคลือบระเหยสูญญากาศ (เรียกอีกอย่างว่าการเคลือบระเหย) ประวัติความเป็นมาของการเตรียมฟิล์มบางโดยใช้การระเหยสูญญากาศ...อ่านเพิ่มเติม -
บทนำการเคลือบ ITO
อินเดียมทินออกไซด์ (อินเดียมทินออกไซด์ เรียกอีกอย่างว่า ITO) เป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ชนิด n ที่มีแบนด์แก๊ปกว้างและมีการโด๊ปอย่างหนัก โดยมีการส่งผ่านแสงที่มองเห็นได้สูงและมีคุณสมบัติต้านทานไฟฟ้าต่ำ จึงใช้กันอย่างแพร่หลายในเซลล์แสงอาทิตย์ จอภาพแบบจอแบน หน้าต่างอิเล็กโทรโครมิก วัสดุอนินทรีย์และอินทรีย์...อ่านเพิ่มเติม -
เครื่องเคลือบสูญญากาศแบบหมุนในห้องปฏิบัติการ
เครื่องเคลือบสูญญากาศในห้องปฏิบัติการเป็นเครื่องมือสำคัญในสาขาการเคลือบฟิล์มบางและการปรับเปลี่ยนพื้นผิว อุปกรณ์ขั้นสูงนี้ได้รับการออกแบบมาให้เคลือบฟิล์มบางของวัสดุต่างๆ ได้อย่างแม่นยำและสม่ำเสมอ กระบวนการนี้เกี่ยวข้องกับการใช้สารละลายของเหลวหรือสารแขวนลอย...อ่านเพิ่มเติม -
โหมดการสะสมด้วยความช่วยเหลือของลำแสงไอออนและการเลือกพลังงาน
การสะสมด้วยลำแสงไอออนมี 2 โหมดหลัก โหมดหนึ่งคือไฮบริดแบบไดนามิก และอีกโหมดหนึ่งคือไฮบริดแบบคงที่ โหมดแรกหมายถึงฟิล์มในกระบวนการเจริญเติบโตที่มักมาพร้อมกับพลังงานและกระแสลำแสงของการยิงไอออนและฟิล์มเสมอ โหมดหลังจะสะสมไว้ล่วงหน้าบนพื้นผิวของฟิล์ม...อ่านเพิ่มเติม -
เทคโนโลยีการสะสมลำแสงไอออน
① เทคโนโลยีการเคลือบด้วยลำแสงไอออนช่วยนั้นมีลักษณะเฉพาะคือมีการยึดเกาะที่แข็งแกร่งระหว่างฟิล์มกับพื้นผิว โดยชั้นฟิล์มนั้นมีความแข็งแรงมาก จากการทดลองพบว่า: การเคลือบด้วยลำแสงไอออนช่วยทำให้การยึดเกาะเพิ่มขึ้นหลายเท่าเมื่อเทียบกับการยึดเกาะของการเคลือบด้วยไอความร้อนอ่านเพิ่มเติม
