Vitajte v spoločnosti Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Správy
-
Vákuové povlakovače proti odtlačkom prstov na kov
Použitie vákuových povlakovacích strojov na kovy s ochranou proti odtlačkom prstov predstavuje významný pokrok v technológii ochrany povrchov. Kombináciou vákuovej technológie a špecializovaných povlakov tieto stroje vytvárajú na kovových povrchoch tenkú, oteruvzdornú vrstvu, ktorá chráni pred odtlačkami prstov a inými nečistotami...Čítať ďalej -
Praktický vákuový lakovací stroj
V oblastiach pokročilej výroby a priemyselnej produkcie rastie dopyt po praktických vákuových lakovacích strojoch. Tieto špičkové stroje prinášajú revolúciu v spôsobe nanášania povrchov na rôzne materiály a poskytujú zvýšenú odolnosť, výkon a estetiku. V tomto blogovom príspevku...Čítať ďalej -
Princíp výberu a klasifikácia cieľového materiálu
S rastúcim rozvojom technológie naprašovania, najmä technológie magnetrónového naprašovania, je v súčasnosti možné pripraviť cieľový film iónovým bombardovaním pre akýkoľvek materiál, pretože cieľ sa naprašuje v procese nanášania na nejaký druh substrátu, kvalita...Čítať ďalej -
Hlavné vlastnosti RF naprašovania
A. Vysoká rýchlosť naprašovania. Napríklad pri naprašovaní SiO2 môže byť rýchlosť nanášania až 200 nm/min, zvyčajne až 10 ~ 100 nm/min. A rýchlosť tvorby filmu je priamo úmerná vysokofrekvenčnému výkonu. B. Adhézia medzi filmom a substrátom je väčšia ako pri vákuovom naparovaní...Čítať ďalej -
Linky na výrobu fólií na automobilové lampy
Výrobné linky na fólie na automobilové žiarovky sú neoddeliteľnou súčasťou automobilového priemyslu. Tieto výrobné linky sú zodpovedné za nanášanie a výrobu fólií na automobilové žiarovky, ktoré zohrávajú kľúčovú úlohu pri zlepšovaní estetiky a funkčnosti automobilových žiaroviek. Keďže dopyt po vysokokvalitných...Čítať ďalej -
Úloha magnetického poľa pri magnetrónovom naprašovaní
Magnetrónové naprašovanie zahŕňa najmä transport plazmového výboja, leptanie terča, nanášanie tenkých vrstiev a ďalšie procesy, pričom magnetické pole bude mať vplyv na proces magnetrónového naprašovania. V systéme magnetrónového naprašovania a ortogonálneho magnetického poľa sú elektróny vystavené...Čítať ďalej -
Požiadavky na vákuový lakovací stroj na čerpací systém
Vákuový nanášací stroj na čerpacom systéme má nasledujúce základné požiadavky: (1) Vákuový nanášací systém by mal mať dostatočne veľkú čerpaciu rýchlosť, ktorá by mala nielen rýchlo odčerpávať plyny uvoľnené zo substrátu a odparené materiály a komponenty vo vákuovom...Čítať ďalej -
Stroj na nanášanie PVD povrchovej úpravy šperkov
Stroj na nanášanie PVD povlaku na šperky využíva proces známy ako fyzikálne nanášanie z pár (PVD) na nanášanie tenkého, ale odolného povlaku na šperky. Tento proces zahŕňa použitie vysoko čistých, pevných kovových terčov, ktoré sa odparujú vo vákuovom prostredí. Výsledná kovová para sa potom kondenzuje...Čítať ďalej -
Malý flexibilný PVD vákuový lakovací stroj
Jednou z hlavných výhod malých flexibilných PVD vákuových lakovacích strojov je ich všestrannosť. Tieto stroje sú navrhnuté tak, aby vyhovovali rôznym veľkostiam a tvarom substrátov, vďaka čomu sú ideálne pre malosériové alebo zákazkové výrobné procesy. Navyše, ich kompaktná veľkosť a flexibilné prispôsobenie...Čítať ďalej -
Rezacie nástroje Vákuový nanášací stroj
V neustále sa rozvíjajúcom výrobnom priemysle zohrávajú rezné nástroje dôležitú úlohu pri formovaní produktov, ktoré používame každý deň. Od presného rezania v leteckom priemysle až po zložité návrhy v medicínskej oblasti, dopyt po vysokokvalitných rezných nástrojoch neustále rastie. Aby sa tento dopyt uspokojil, usa...Čítať ďalej -
Vplyv iónového bombardovania na rozhranie medzi filmovou vrstvou a substrátom
Keď sa začne ukladanie membránových atómov, bombardovanie iónmi má nasledujúce účinky na rozhranie membrána/substrát. (1) Fyzikálne miešanie. V dôsledku vstrekovania vysokoenergetických iónov, rozprašovania usadených atómov a spätného rázu vstrekovania povrchových atómov a javu kaskádových zrážok,...Čítať ďalej -
Obnova a vývoj vákuového naprašovania
Rozprašovanie je jav, pri ktorom energetické častice (zvyčajne kladné ióny plynov) narážajú na povrch pevnej látky (ďalej nazývanej cieľový materiál), čo spôsobuje, že atómy (alebo molekuly) na povrchu cieľového materiálu z neho unikajú. Tento jav objavil Grove v roku 1842, keď...Čítať ďalej -
Charakteristiky magnetrónového naprašovania Kapitola 2
Charakteristiky magnetrónového naprašovania (3) Nízkoenergetické naprašovanie. V dôsledku nízkeho katódového napätia aplikovaného na cieľ je plazma viazaná magnetickým poľom v priestore v blízkosti katódy, čím sa inhibujú vysokoenergetické nabité častice na strane substrátu, ktoré sú zastrelené. ...Čítať ďalej -
Charakteristiky magnetrónového naprašovania Kapitola 1
V porovnaní s inými technológiami nanášania povlakov sa magnetrónové naprašovanie vyznačuje nasledujúcimi vlastnosťami: pracovné parametre majú veľký dynamický rozsah nastavenia rýchlosti nanášania povlaku a hrúbka (stav potiahnutej oblasti) sa dá ľahko ovládať a neexistuje žiadny dizajn...Čítať ďalej -
Technológia depozície s pomocou iónového lúča
Technológia nanášania s asistenciou iónového lúča je technológia nanášania iónovým lúčom a nanášania parou v kombinácii s technológiou spracovania kompozitných materiálov s iónovou asistenciou. V procese povrchovej modifikácie materiálov vstrekovaných iónmi, či už polovodičových materiálov alebo technických materiálov, ide o...Čítať ďalej
