Witamy w Guangdong Zhenhua Technology Co.,Ltd.
Aktualności
-
Rodzaje technologii CVD
Ogólnie rzecz biorąc, CVD można podzielić na dwa typy: jeden to osadzanie z fazy gazowej pojedynczego produktu na podłożu z monokrystalicznej warstwy epitaksjalnej, co jest wąsko CVD; drugi to osadzanie cienkich warstw na podłożu, w tym warstw wieloproduktowych i amorficznych. Według...Przeczytaj więcej -
Widma transmisji i odbicia oraz barwa cienkich warstw optycznych Rozdział 2
Z tego zamierzamy wyjaśnić: (1) urządzenia cienkowarstwowe, widma transmisji, odbicia i kolor odpowiadającej relacji między nimi, czyli widmo koloru; przeciwnie, ta relacja „nie jest unikalna”, przejawia się jako wielospektrum kolorów. Dlatego film...Przeczytaj więcej -
Widma transmisji i odbicia oraz barwa cienkich warstw optycznych Rozdział 1
Widma transmisji i odbicia oraz kolory cienkich warstw optycznych to dwie cechy urządzeń cienkowarstwowych, które istnieją w tym samym czasie. 1. Widmo transmisji i odbicia to związek między odbiciem i transmisją urządzeń cienkowarstwowych optycznych z długością fali. Jest to c...Przeczytaj więcej -
AF Cienka warstwa parowania Optyczna PVD Maszyna do powlekania próżniowego
Maszyna do powlekania próżniowego AF Thin Film Evaporation Optical PVD jest przeznaczona do nakładania cienkich powłok na urządzenia mobilne za pomocą procesu fizycznego osadzania z fazy gazowej (PVD). Proces ten polega na stworzeniu środowiska próżniowego w komorze powlekania, w którym odparowuje się materiały stałe, a następnie osadza...Przeczytaj więcej -
Maszyna do produkcji luster z powłoką próżniową ze srebra i aluminium
Maszyna do produkcji luster z powłoką próżniową ze srebra aluminiowego zrewolucjonizowała przemysł produkcji luster dzięki zaawansowanej technologii i precyzyjnej inżynierii. Ta najnowocześniejsza maszyna została zaprojektowana do nakładania cienkiej powłoki srebra aluminiowego na powierzchnię szkła, tworząc wysokiej jakości...Przeczytaj więcej -
Maszyna do powlekania próżniowego optycznego
Metalizator optyczny próżniowy to najnowocześniejsza technologia, która zrewolucjonizowała przemysł powłok powierzchniowych. Ta zaawansowana maszyna wykorzystuje proces zwany metalizacją optyczną próżniową, aby nakładać cienką warstwę metalu na różne podłoża, tworząc wysoce odblaskową i trwałą powierzchnię...Przeczytaj więcej -
Osadzanie chemiczne z fazy gazowej wspomagane plazmą Rozdział 2
Większość pierwiastków chemicznych można odparować, łącząc je z grupami chemicznymi, np. Si reaguje z H, tworząc SiH4, a Al łączy się z CH3, tworząc Al(CH3). W procesie termicznego CVD powyższe gazy pochłaniają pewną ilość energii cieplnej, gdy przechodzą przez ogrzane podłoże i tworzą re...Przeczytaj więcej -
Osadzanie chemiczne z fazy gazowej wspomagane plazmą Rozdział 1
Osadzanie chemiczne z fazy gazowej (CVD). Jak sama nazwa wskazuje, jest to technika wykorzystująca gazowe prekursory reagentów do generowania stałych warstw za pomocą atomowych i międzycząsteczkowych reakcji chemicznych. W przeciwieństwie do PVD, proces CVD jest przeprowadzany głównie w środowisku o wyższym ciśnieniu (niższej próżni), z...Przeczytaj więcej -
Elementy procesu i mechanizmy działania wpływające na jakość urządzeń cienkowarstwowych (część 2)
3. Wpływ temperatury podłoża Temperatura podłoża jest jednym z ważnych warunków wzrostu błony. Zapewnia dodatkowe uzupełnienie energii atomów lub cząsteczek błony i wpływa głównie na strukturę błony, współczynnik aglutynacji, współczynnik ekspansji i agregat...Przeczytaj więcej -
Czynniki i mechanizmy procesowe wpływające na jakość urządzeń cienkowarstwowych (część 1)
Produkcja optycznych urządzeń cienkowarstwowych odbywa się w komorze próżniowej, a wzrost warstwy filmu jest procesem mikroskopowym. Jednak obecnie procesy makroskopowe, które można bezpośrednio kontrolować, to pewne czynniki makroskopowe, które mają pośredni związek z jakością...Przeczytaj więcej -
Wprowadzenie do historii rozwoju technologii parowania
Proces nagrzewania materiałów stałych w środowisku wysokiej próżni w celu sublimacji lub odparowania i osadzania ich na określonym podłożu w celu uzyskania cienkiej warstwy jest znany jako powłoka z odparowaniem próżniowym (nazywana powłoką z odparowaniem). Historia przygotowywania cienkich warstw metodą odparowania próżniowego...Przeczytaj więcej -
Wprowadzenie do powłok ITO
Tlenek indu i cyny (Indium Tin Oxide, zwany potocznie ITO) to szerokopasmowy, silnie domieszkowany materiał półprzewodnikowy typu n, charakteryzujący się wysoką przepuszczalnością światła widzialnego i niską rezystywnością. Jest szeroko stosowany w ogniwach słonecznych, wyświetlaczach płaskich, oknach elektrochromowych, materiałach nieorganicznych i organicznych.Przeczytaj więcej -
Maszyna do powlekania próżniowego wirowego w laboratorium
Laboratoryjne próżniowe wirujące powłoki są ważnymi narzędziami w dziedzinie osadzania cienkich warstw i modyfikacji powierzchni. Ten zaawansowany sprzęt jest zaprojektowany do dokładnego i równomiernego nakładania cienkich warstw różnych materiałów na podłoża. Proces obejmuje nakładanie ciekłego roztworu lub zawiesiny...Przeczytaj więcej -
Tryb osadzania wspomaganego wiązką jonów i jego wybór energii
Istnieją dwa główne tryby osadzania wspomaganego wiązką jonów, jeden jest hybrydą dynamiczną; drugi hybrydą statyczną. Pierwszy odnosi się do filmu w procesie wzrostu, któremu zawsze towarzyszy pewna energia i prąd wiązki bombardowania jonami i filmu; drugi jest wstępnie osadzony na powierzchni...Przeczytaj więcej -
Technologia osadzania wiązką jonów
① Technologia osadzania wspomaganego wiązką jonów charakteryzuje się silną przyczepnością między filmem a podłożem, warstwa filmu jest bardzo mocna. Eksperymenty wykazały, że: osadzanie wspomagane wiązką jonów przyczepności niż przyczepność termicznego osadzania z fazy gazowej wzrosła kilkakrotnie do setek ...Przeczytaj więcej
