ຍິນດີຕ້ອນຮັບ Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
ຂ່າວອຸດສາຫະກໍາ
-
ການນໍາໃຊ້ຂອງຮູບເງົາບາງ optical ໃນອຸດສາຫະກໍາແວ່ນຕາເຄືອບ
ມີຫຼາຍຊະນິດຂອງ substrates ສໍາລັບແວ່ນຕາແລະເລນ, ເຊັ່ນ: CR39, PC (polycarbonate), 1.53 Trivex156, ຂະຫນາດກາງ refractive index plastic, ແກ້ວ, ແລະອື່ນໆ. ສໍາລັບເລນການແກ້ໄຂ, ການຖ່າຍທອດຂອງທັງສອງຢາງແລະເລນແກ້ວແມ່ນມີພຽງແຕ່ປະມານ 91%, ແລະບາງສ່ວນຂອງແສງສະຫວ່າງແມ່ນສະທ້ອນໃຫ້ເຫັນກັບຄືນໄປບ່ອນໂດຍທັງສອງ s ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຄຸນນະສົມບັດຂອງເຄື່ອງເຄືອບສູນຍາກາດ
1.ຮູບເງົາຂອງການເຄືອບສູນຍາກາດແມ່ນບາງຫຼາຍ (ປົກກະຕິ 0.01-0.1um)| 2.ການເຄືອບສູນຍາກາດສາມາດນໍາໃຊ້ສໍາລັບພາດສະຕິກຈໍານວນຫຼາຍ, ເຊັ່ນ: ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, ແລະອື່ນໆ 3. ອຸນຫະພູມກອບເປັນຈໍານວນຮູບເງົາແມ່ນຕ່ໍາ. ໃນອຸດສາຫະກໍາເຫຼັກແລະເຫຼັກກ້າ, ອຸນຫະພູມການເຄືອບຂອງ galvanizing ຮ້ອນໂດຍທົ່ວໄປແມ່ນລະຫວ່າງ 400 ℃ a ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ແນະນຳເທັກໂນໂລຢີຮູບເງົາບາງໆ photovoltaic ແສງອາທິດ
ຫຼັງຈາກການຄົ້ນພົບຜົນກະທົບຂອງ photovoltaic ໃນເອີຣົບໃນ 1863, ສະຫະລັດໄດ້ເຮັດຈຸລັງ photovoltaic ທໍາອິດທີ່ມີ (Se) ໃນປີ 1883. ໃນຕອນຕົ້ນ, ຈຸລັງ photovoltaic ໄດ້ຖືກນໍາໃຊ້ຕົ້ນຕໍໃນອາວະກາດ, ການທະຫານແລະຂົງເຂດອື່ນໆ. ໃນ 20 ປີທີ່ຜ່ານມາ, ຄ່າໃຊ້ຈ່າຍຂອງ photovolta ຫຼຸດລົງຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຂະບວນການໄຫຼຂອງເຄື່ອງເຄືອບ Sputtering
1. Bombardment cleaning substrate 1.1) Sputtering coating machine use glow discharge to clean the substrate . ນັ້ນແມ່ນ, ໄລ່ເອົາອາຍແກັສ argon ເຂົ້າໄປໃນຫ້ອງ, ແຮງດັນໄຟຟ້າປະມານ 1000V, ຫຼັງຈາກເປີດການສະຫນອງພະລັງງານ, ການໄຫຼຂອງແສງຈະຖືກສ້າງຂຶ້ນ, ແລະຊັ້ນໃຕ້ດິນຖືກເຮັດຄວາມສະອາດໂດຍ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງຮູບເງົາ optical ໃນຜະລິດຕະພັນໂທລະສັບມືຖື
ຄໍາຮ້ອງສະຫມັກຂອງຮູບເງົາບາງ optical ໃນຜະລິດຕະພັນເອເລັກໂຕຣນິກບໍລິໂພກເຊັ່ນ: ໂທລະສັບມືຖືໄດ້ຫັນປ່ຽນຈາກທັດສະນະກ້ອງຖ່າຍຮູບແບບດັ້ງເດີມໄປສູ່ທິດທາງທີ່ມີຄວາມຫຼາກຫຼາຍເຊັ່ນ: ເລນກ້ອງຖ່າຍຮູບ, ເລນປ້ອງກັນເລນ, ການກັ່ນຕອງ infrared cutoff (IR-CUT), ແລະການເຄືອບ NCVM ກ່ຽວກັບການປົກຫຸ້ມຂອງຫມໍ້ໄຟໂທລະສັບມືຖື. ກ້ອງຖ່າຍຮູບ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ລັກສະນະຂອງອຸປະກອນການເຄືອບ CVD
ເທກໂນໂລຍີການເຄືອບ CVD ມີລັກສະນະດັ່ງຕໍ່ໄປນີ້: 1. ຂະບວນການປະຕິບັດງານຂອງອຸປະກອນ CVD ແມ່ນຂ້ອນຂ້າງງ່າຍດາຍແລະມີຄວາມຍືດຫຍຸ່ນ, ແລະມັນສາມາດກະກຽມຮູບເງົາດຽວຫຼືປະສົມປະສານແລະຮູບເງົາໂລຫະປະສົມທີ່ມີອັດຕາສ່ວນທີ່ແຕກຕ່າງກັນ; 2. ການເຄືອບ CVD ມີລະດັບຄວາມກ້ວາງຂອງການນໍາໃຊ້, ແລະສາມາດ pre...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຂະບວນການເຄື່ອງເຄືອບສູນຍາກາດແມ່ນຫຍັງ? ຫຼັກການການເຮັດວຽກແມ່ນຫຍັງ?
ຂະບວນການເຄື່ອງເຄືອບສູນຍາກາດແບ່ງອອກເປັນ: ການເຄືອບ vacuum evaporation, ການເຄືອບສູນຍາກາດ sputtering ແລະ vacuum ion coating. 1, ການເຄືອບການລະເຫີຍສູນຍາກາດພາຍໃຕ້ສະພາບສູນຍາກາດ, ເຮັດໃຫ້ອຸປະກອນການ evaporated, ເຊັ່ນ: ໂລຫະ, ໂລຫະປະສົມໂລຫະ, ແລະອື່ນໆ. ຫຼັງຈາກນັ້ນຝາກໃຫ້ເຂົາເຈົ້າກ່ຽວກັບການ surf substrate ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ເຄື່ອງດູດຝຸ່ນສໍາລັບຫຍັງ?
1, ຂະບວນການເຄືອບສູນຍາກາດແມ່ນຫຍັງ? ຫນ້າທີ່ແມ່ນຫຍັງ? ອັນທີ່ເອີ້ນວ່າຂະບວນການເຄືອບສູນຍາກາດໃຊ້ການລະເຫີຍແລະ sputtering ໃນສະພາບແວດລ້ອມສູນຍາກາດເພື່ອປ່ອຍອະນຸພາກຂອງວັດສະດຸຮູບເງົາ, ຝາກໄວ້ໃນໂລຫະ, ແກ້ວ, ceramics, semiconductors ແລະພາກສ່ວນພາດສະຕິກເພື່ອສ້າງເປັນຊັ້ນເຄືອບ, ສໍາລັບ deco ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຄວາມຕ້ອງການດ້ານສິ່ງແວດລ້ອມສໍາລັບອຸປະກອນການເຄືອບສູນຍາກາດ
ເນື່ອງຈາກອຸປະກອນການເຄືອບສູນຍາກາດເຮັດວຽກພາຍໃຕ້ເງື່ອນໄຂສູນຍາກາດ, ອຸປະກອນຕ້ອງຕອບສະຫນອງຄວາມຕ້ອງການຂອງສູນຍາກາດສໍາລັບສິ່ງແວດລ້ອມ. ມາດຕະຖານອຸດສາຫະກໍາສໍາລັບອຸປະກອນການເຄືອບສູນຍາກາດປະເພດຕ່າງໆໃນປະເທດຂອງຂ້ອຍ (ລວມທັງເງື່ອນໄຂດ້ານວິຊາການທົ່ວໄປສໍາລັບອຸປະກອນການເຄືອບສູນຍາກາດ, ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ຄຸນລັກສະນະແລະການນໍາໃຊ້ຂອງແຜ່ນ ion
ປະເພດຮູບເງົາວັດສະດຸ Substrate ລັກສະນະຮູບເງົາແລະຄໍາຮ້ອງສະຫມັກໂລຫະ CrAI, ZnPtNi Au, Cu, AI P, Au Au, W, Ti, Ta Ag, Au, AI, Pt ເຫຼັກກ້າ, ໂລຫະປະສົມ Titanium ອ່ອນໆ, ເຫຼັກກາກບອນສູງ, ເຫຼັກອ່ອນ Titanium alloyhard ແກ້ວພາດສະຕິກ Nickel, ເຫຼັກ inconel, ເຫຼັກກ້າ silicon ຕ້ານການສວມໃສ່ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ການເຄືອບ ion ສູນຍາກາດ ແລະການຈັດປະເພດຂອງມັນ
Vacuum ion plating ( ion plating for short ) ເປັນເທັກໂນໂລຍີການປິ່ນປົວພື້ນຜິວໃຫມ່ທີ່ພັດທະນາຢ່າງໄວວາໃນຊຸມປີ 1970, ເຊິ່ງໄດ້ຖືກສະເຫນີໂດຍ DM Mattox ຂອງບໍລິສັດ Somdia ໃນສະຫະລັດໃນປີ 1963. ມັນຫມາຍເຖິງຂະບວນການຂອງການນໍາໃຊ້ແຫຼ່ງ evaporation ຫຼື sputtering ເປົ້າຫມາຍທີ່ຈະ evaporate ຫຼື spu ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ເຄື່ອງເຄືອບ optical ສາມາດຖືກນໍາໃຊ້ສໍາລັບການເຄືອບຮູບເງົາ optical ຫຼາຍ
① ຟິມຕ້ານການສະທ້ອນ. ສໍາລັບຕົວຢ່າງ, ກ້ອງຖ່າຍຮູບ, ໂປເຈັກເຕີສະໄລ້, ໂປເຈັກເຕີ, ໂປເຈັກເຕີຮູບເງົາ, ກ້ອງສ່ອງທາງໄກ, ແວ່ນຕາເບິ່ງ, ແລະຊັ້ນດຽວແຜ່ນ MgF ເຄືອບຢູ່ໃນເລນແລະ prisms ຂອງເຄື່ອງມື optical ຕ່າງໆ, ແລະຊັ້ນສອງຊັ້ນຫຼືຫຼາຍຊັ້ນ broadband antireflection ປະກອບດ້ວຍ SiOFrO2, AlO, ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ລັກສະນະຂອງຮູບເງົາເຄືອບ sputtering
① ການຄວບຄຸມທີ່ດີແລະການເຮັດເລື້ມຄືນຂອງຄວາມຫນາຂອງຮູບເງົາບໍ່ວ່າຈະເປັນຄວາມຫນາຂອງຮູບເງົາທີ່ສາມາດຄວບຄຸມໃນຄ່າທີ່ກໍານົດໄວ້ກ່ອນທີ່ເອີ້ນວ່າການຄວບຄຸມຄວາມຫນາຂອງຮູບເງົາ. ຄວາມຫນາຂອງຟິມທີ່ຕ້ອງການສາມາດເຮັດຊ້ໍາໄດ້ຫຼາຍຄັ້ງ, ເຊິ່ງເອີ້ນວ່າຄວາມຫນາຂອງຟິມ repeatability. ເນື່ອງຈາກວ່າການໄຫຼ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ການແນະນໍາໂດຍຫຍໍ້ຂອງເຕັກໂນໂລຍີການປ່ອຍອາຍພິດທາງເຄມີ (CVD).
ເທກໂນໂລຍີ Chemical Vapor Deposition (CVD) ເປັນເທກໂນໂລຍີການສ້າງຟິມທີ່ໃຊ້ຄວາມຮ້ອນ, ການປັບປຸງ plasma, ການຊ່ວຍເຫຼືອຈາກຮູບພາບແລະວິທີການອື່ນໆເພື່ອເຮັດໃຫ້ທາດອາຍແກັສຜະລິດຮູບເງົາແຂງຢູ່ເທິງຊັ້ນໃຕ້ດິນໂດຍຜ່ານປະຕິກິລິຍາເຄມີພາຍໃຕ້ຄວາມກົດດັນປົກກະຕິຫຼືຕ່ໍາ. ໂດຍທົ່ວໄປ, ປະຕິກິລິຍາໃນ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ -
ປັດໄຈທີ່ມີຜົນກະທົບການປະຕິບັດຂອງແຜ່ນ evaporation ສູນຍາກາດ
1. ອັດຕາການລະເຫີຍຈະສົ່ງຜົນກະທົບຕໍ່ຄຸນສົມບັດຂອງການເຄືອບ evaporated ອັດຕາການລະເຫີຍມີອິດທິພົນຢ່າງຫຼວງຫຼາຍຕໍ່ຮູບເງົາທີ່ຝາກໄວ້. ເນື່ອງຈາກວ່າໂຄງສ້າງການເຄືອບທີ່ສ້າງຂຶ້ນໂດຍອັດຕາເງິນຝາກຕ່ໍາແມ່ນວ່າງແລະງ່າຍທີ່ຈະຜະລິດການຊຶມເຊື້ອອະນຸພາກຂະຫນາດໃຫຍ່, ມັນປອດໄພຫຼາຍທີ່ຈະເລືອກເອົາການລະເຫີຍທີ່ສູງຂຶ້ນ ...ອ່ານເພີ່ມເຕີມ
