Wëllkomm bei Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Säitebanner

Branchennews

  • Aarte vun haarde Beschichtungen

    Aarte vun haarde Beschichtungen

    TiN ass déi fréist haart Beschichtung, déi a Schneidinstrumenter benotzt gouf, mat Virdeeler wéi héijer Festigkeit, héijer Häert a Verschleißbeständegkeet. Et ass dat éischt industrialiséiert an wäit verbreet haart Beschichtungsmaterial, dat wäit verbreet a beschichteten Instrumenter a beschichtete Formen agesat gëtt. D'Hart TiN Beschichtung gouf ufanks bei 1000 ℃ ofgesat...
    Liest méi
  • Charakteristike vun der Plasmaoberflächenmodifikatioun

    Charakteristike vun der Plasmaoberflächenmodifikatioun

    Héichenergetescht Plasma kann Polymermaterialien bombardéieren an bestrahlen, wouduerch hir molekular Ketten zerstéiert ginn, aktiv Gruppen entstinn, d'Uewerflächenenergie erhéicht an Ätzung generéiert. D'Plasmaoberflächenbehandlung beaflosst net déi intern Struktur an d'Leeschtung vum Groussmaterial, mä nëmmen däitlech...
    Liest méi
  • De Prozess vun der Ionenbeschichtung mat klenger Bouquell

    De Prozess vun der Ionenbeschichtung mat klenger Bouquell

    De Prozess vun der kathodescher Bouquell-Ionenbeschichtung ass am Fong dee selwechte wéi aner Beschichtungstechnologien, an e puer Operatiounen wéi d'Installatioun vun Werkstécker an d'Staubsaugen ginn net méi widderholl. 1. Bombardementreinigung vun de Werkstécker Virum Beschichtungsprozess gëtt Argongas mat engem...
    Liest méi
  • Charakteristiken a Generatiounsmethoden vum Bogenelektronenfloss

    Charakteristiken a Generatiounsmethoden vum Bogenelektronenfloss

    1. Charakteristike vum Elektronenstroum duerch Bougeliicht D'Dicht vum Elektronenstroum, Ionenstroum an héichenergeteschen neutralen Atomer am Bouplasma, déi duerch Bouentladung generéiert ginn, ass vill méi héich wéi déi vun der Glühentladung. Et gi méi Gasionen a Metallionen, déi ioniséiert, ugereegt héichenergeteschen Atomer a verschidde aktiv Gro...
    Liest méi
  • Uwendungsfelder vun der Plasmaoberflächenmodifikatioun

    Uwendungsfelder vun der Plasmaoberflächenmodifikatioun

    1) Plasmaoberflächenmodifikatioun bezitt sech haaptsächlech op verschidde Modifikatioune vu Pabeier, organesche Folien, Textilien a chemesche Faseren. D'Benotzung vu Plasma fir d'Textilmodifikatioun erfuerdert keng Aktivatoren, an de Behandlungsprozess beschiedegt d'Charakteristike vun de Faseren selwer net. ...
    Liest méi
  • Uwendung vun Ionenbeschichtungen am Beräich vun opteschen Dënnschichten

    Uwendung vun Ionenbeschichtungen am Beräich vun opteschen Dënnschichten

    D'Uwendung vun opteschen Dënnschichten ass ganz extensiv, vu Brëller, Kameralënsen, Handykameraen, LCD-Bildschirmer fir Handyen, Computeren an Fernseher, LED-Beliichtung, biometresch Geräter, bis hin zu energiespuerenden Fënsteren an Autoen a Gebaier, souwéi medizinesch Instrumenter, ...
    Liest méi
  • Informatiounsdisplayfilmer an Ionenbeschichtungstechnologie

    Informatiounsdisplayfilmer an Ionenbeschichtungstechnologie

    1. Aart vu Film am Informatiounsdisplay Nieft TFT-LCD an OLED Dënnfilmer enthält den Informatiounsdisplay och Verdrahtungselektrodefilmer an transparent Pixelelektrodefilmer am Displaypanel. De Beschichtungsprozess ass de Kärprozess vum TFT-LCD an OLED Display. Mam kontinuéierleche Prog...
    Liest méi
  • D'Wuesstumsgesetz vun der Vakuumverdampfungsbeschichtungsfilmschicht

    D'Wuesstumsgesetz vun der Vakuumverdampfungsbeschichtungsfilmschicht

    Wärend der Verdampfungsbeschichtung sinn d'Keimbildung an d'Wuesstum vun der Filmschicht d'Basis vu verschiddenen Ionenbeschichtungstechnologien 1. Keimbildung An der Vakuumverdampfungsbeschichtungstechnologie fléien d'Filmschichtpartikelen, nodeems se aus der Verdampfungsquell a Form vun Atomer verdampft sinn, direkt an d'W ...
    Liest méi
  • Gemeinsam Eegeschafte vun der verbesserter Glühionenbeschichtungstechnologie

    Gemeinsam Eegeschafte vun der verbesserter Glühionenbeschichtungstechnologie

    1. D'Bias vum Werkstéck ass niddreg. Duerch d'Zousätz vun engem Apparat fir d'Ioniséierungsquote ze erhéijen, gëtt d'Entladungsstroumdicht erhéicht an d'Biasspannung op 0,5~1kV reduzéiert. D'Récksputterung, verursaacht duerch exzessivt Bombardement vun héichenergeteschen Ionen, an den Effekt op d'Uewerfläch vum Werkstéck...
    Liest méi
  • Virdeeler vun zylindreschen Ziler

    Virdeeler vun zylindreschen Ziler

    1) Zylindresch Ziler hunn eng méi héich Auslastungsquote wéi planar Ziler. Am Beschichtungsprozess, egal ob et e rotéierend Magnéit-Typ oder e rotéierend Rouer-Zylindrescht Sputterzil ass, passéieren all Deeler vun der Uewerfläch vum Zilrouer kontinuéierlech duerch de Sputterberäich, deen virum ... generéiert gëtt.
    Liest méi
  • Plasma-direkt Polymerisatiounsprozess

    Plasma-direkt Polymerisatiounsprozess

    Plasma-Direktpolymerisatiounsprozess De Prozess vun der Plasmapolymerisatioun ass relativ einfach souwuel fir intern Elektrodenpolymerisatiounsausrüstung wéi och fir extern Elektrodenpolymerisatiounsausrüstung, awer d'Parameterauswiel ass méi wichteg bei der Plasmapolymerisatioun, well d'Parameteren eng méi grouss ...
    Liest méi
  • Technologie fir d'chemesch Dampfoflagerung mat engem verbesserte Plasma mat waarmem Drotbogen

    Technologie fir d'chemesch Dampfoflagerung mat engem verbesserte Plasma mat waarmem Drotbogen

    Déi mat Heissdrot-Arc-verstäerkt Plasma-Chemesch-Dampfoflagerungstechnologie benotzt d'Heissdrot-Arc-Pistoul fir e Bouplasma ze emittéieren, ofgekierzt als d'Heissdrot-Arc-PECVD-Technologie. Dës Technologie ass ähnlech wéi d'Ionenbeschichtungstechnologie vun der Heissdrot-Arc-Pistoul, awer den Ënnerscheed ass, datt de feste Film, deen duerch Heissdrot-Arc-Verstäerkung kritt gëtt...
    Liest méi
  • Aféierung an konventionell Technike fir d'Oflagerung vun haarde Beschichtungen

    Aféierung an konventionell Technike fir d'Oflagerung vun haarde Beschichtungen

    1. Thermesch CVD-Technologie Haart Beschichtunge si meeschtens Metallkeramikbeschichtungen (TiN, etc.), déi duerch d'Reaktioun vu Metall an der Beschichtung a reaktiv Vergasung entstinn. Ufanks gouf d'thermesch CVD-Technologie benotzt fir d'Aktivéierungsenergie vun der Kombinatiounsreaktioun duerch thermesch Energie bei engem ... ze liwweren.
    Liest méi
  • Wat ass eng Beschichtung vun enger Resistenzverdampfungsquell?

    Wat ass eng Beschichtung vun enger Resistenzverdampfungsquell?

    D'Beschichtung duerch d'Resistenzverdampfungsquell ass eng Basismethod fir d'Beschichtung duerch Vakuumverdampfung. "Verdampfung" bezitt sech op eng Method fir d'Virbereedung vun Dënnschichten, bei där d'Beschichtungsmaterial an der Vakuumkammer erhëtzt a verdampft gëtt, sou datt d'Materialatome oder -moleküle verdampfen an aus dem ...
    Liest méi
  • Aféierung an d'Technologie vun der kathodescher Bou-Ionen-Beschichtung

    Aféierung an d'Technologie vun der kathodescher Bou-Ionen-Beschichtung

    D'Technologie vun der kathodescher Bou-Ionenbeschichtung benotzt d'Kaltfeld-Bouenentladungstechnologie. Déi fréist Uwendung vun der Kaltfeld-Bouenentladungstechnologie am Beschichtungsberäich war vun der Multi Arc Company an den USA. Den engleschen Numm vun dëser Prozedur ass Arc Ionplating (AIP). Kathode-Bouen-Ionenbeschichtung...
    Liest méi